JP2881999B2 - 半導体素子の実装方法および実装基板 - Google Patents

半導体素子の実装方法および実装基板

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    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、コンピューター等の電子機器に搭載する半
導体素子を基板にアセンブリーする半導体素子の実装方
法および実装基板に関する。
従来の技術 近年、半導体製造技術の進展に伴い、LSIの高集積化
が進み、電子機器の小型・軽量化は一段と進んでいる。
これらの軽薄短小化に伴い半導体素子もパッケージから
フィルムキャリアによる半導体チップ実装が用いられる
ようになり、さらには実装密度を上げるため半導体チッ
プを直接実装するようにもなった。
半導体チップを直接実装する時、チップを上に向けて
基板に固定し金線でチップのパッドと基板を結んで後チ
ップを樹脂でモールドする方法とチップ上のパッドに半
田等でバンプを形成しチップを下に向けて基板に実装し
その後樹脂でモールドする方法がある。前者の方法では
実装密度が上げられないなどの理由により後者すなわち
第3図に示すような方法に変わりつつある。第3図にお
いて、1は半導体チップ、2はセラミック等の基板、3
は基板2に設けられた凸状導体、4は半導体チップ1上
に設けられたバンプ、5はコーティング樹脂である。
発明が解決しようとする課題 このような従来の半導体素子の実装方法では、セラミ
ック等の基板2上に印刷法を用いて形成した凸状導体3
の高さは、基板2のそりやうねりによりばらつきがで
る。また印刷時の条件ばらつきによっても厚みのばらつ
きが生じる。したがって、半導体チップ1との接続に際
し一様な接続が得られず、信頼性の点で問題がある。
本発明は上記課題を解決するもので、基板のそりやう
ねりがあっても接続面の平面性が確保され、信頼性の高
い接続が可能な半導体素子の実装方法および実装基板を
提供することを目的としている。
課題を解決するための手段 本発明は上記目的を達成するために、基板上の凸状導
体をパターン形成乾燥後、平滑度の高い面を持った治具
により押えることにより、凸状導体表面を面一にして平
滑性を高め同時に凸状導体高さのばらつきを小さくして
から、半導体チップとの接続を行うものである。
作用 本発明は上記構成により、基板にそりやうねりがあっ
ても凸状導体と半導体チップとの接続面の平面性が確保
されるので、基板上の凸状導体と半導体チップ上のバン
プとの接続が確実にとれる。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を用いて説明す
る。
第1図は半導体チップ11をセラミック等の基板12に実
装した時の実装体の断面図である。基板12上に形成され
た凸状導体13は銅ペーストであり、半導体チップ11のバ
ンプ14は半田メッキ法で形成されている。コーティング
樹脂15はエポキシ系の樹脂である。ただし、凸状導体13
は銅ペースト以外の導体ペーストでもよく、またバンプ
14においてもメッキによる金バンプなどでもよい。第2
図(A)から(C)に本実施例の手順を示す。まず第2
図(A)のように基板12の上に凸状導体13を印刷法で形
成する。そして凸状導体13の溶剤を抜くため150℃で30
分間乾燥を行う。導体13の幅が半導体チップ11のパッド
上に形成したバンプ14に合うように狭いことと、基板12
自体のうねりにより凸状導体13の高さにはばらつきがあ
る。次に第2図(B)のようにちょうど半導体チップ11
の面積よりもやや広く、平滑性ある平面部を有する治具
16で乾燥した凸状導体13を軽く押える。凸状導体13はま
だ硬化あるいは焼結されていないので容易に変形し、表
面が面一になって接続面の平滑性が容易に実現する。ま
た接続面が一定の平面上にくるので、凸状基板12のうね
りを打ち消すことになる。このとき凸状導体13は断面が
鼓状になる。次に治具16を離し、900℃窒素雰囲気下で
凸状導体13の焼結をおこなう。次に第2図(C)のよう
にバンプ14をつけた半導体チップ11を実装した後リフロ
ー炉を通して固着し、そのあと第1図のように半導体チ
ップ11全体を樹脂15でコーティングすると実装は完了す
る。
発明の効果 以上の実施例から明らかなように、本発明は基板上に
パターン形成された複数個の凸状導体上に平滑性ある平
面部を有する治具をのせて凸状導体の表面を面一にして
から半導体チップを接続するので、基板のそりやうねり
があっても、接続面の平面性が確保され、信頼性の高い
接続が可能な半導体素子の実装方法および実装基板を提
供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の半導体素子の実装方法によ
り実装基板に半導体チップを実装した実装体の断面図、
第2図(A)〜(C)は第1図の実装体を得るため半導
体素子の実装方法の各手順の断面図、第3図は従来の半
導体素子の実装方法による実装体の断面図である。 11……半導体チップ、12……セラミック等の基板、13…
…凸状導体、14……バンプ、15……コーティング樹脂、
16……平滑性ある平面部を有する治具。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】セラミック等の基板上に複数個の凸状導体
    をパターン形成し乾燥させる工程と、そのパターン形成
    された複数個の凸状導体の上に平滑性ある平面部を有す
    る治具をのせてその複数個の凸状導体の表面を面一にな
    るように変形させる工程と、その表面が面一になった複
    数個の凸状導体を設けた基板を熱処理してその凸状導体
    を焼結させる工程と、その基板上にバンプを設けた半導
    体チップを位相を合わせてのせリフロー炉内を通過させ
    て、その半導体チップ上のバンプと、前記基板上の凸状
    導体を固着させる工程と、前記半導体チップ上に樹脂を
    コーティングさせる工程とを有する半導体素子の実装方
    法。
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JP3409957B2 (ja) * 1996-03-06 2003-05-26 松下電器産業株式会社 半導体ユニット及びその形成方法
JP3639825B2 (ja) * 2002-04-03 2005-04-20 キヤノン株式会社 動画像表示方法、プログラム、コンピュータ可読記憶媒体、及び動画像表示装置
JP4765804B2 (ja) * 2006-07-14 2011-09-07 株式会社デンソー 半導体装置の製造方法

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