JP2881134B2 - 光硬化性樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プロペニルエーテ
ル基を含有し高速硬化性を有する化合物を含む樹脂組成
物及びその硬化物に関する。更に詳しくは、紫外線又は
電子線等の照射により極めて短時間に硬化する樹脂組成
物及び該樹脂組成物を硬化してなる硬化物に関する。

【０００２】

【従来の技術】光硬化性樹脂組成物は、プリント配線基
板用レジスト、液晶用レジスト等のレジスト材料、ハー
ドコート剤、光ファイバー用コーティング剤、光ディス
ク用コーティング剤、紙用コーティング剤、木工用コー
ティング剤、塗料、感光性刷板、印刷インキ、接着剤等
の感光性樹脂として広く利用されている。このような光
硬化性樹脂組成物としては、エポキシアクリレート、ウ
レタンアクリレート等に代表されるアクリレート樹脂、
脂環式エポキシ樹脂、ビニルエーテル樹脂等が実用化さ
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アクリ
レート樹脂は、硬化時に酸素による重合阻害が起こるの
で表面硬化性が著しく悪く、また、粘度が高いことから
ＵＶ硬化工程の高速化への対応が困難である。脂環式エ
ポキシ樹脂は、酸素による重合阻害が見られないが、光
カチオン重合により硬化させる場合には、硬化速度が著
しく低い。これらの点を改善した感光性樹脂組成物とし
てビニルエーテル樹脂が挙げられるが、このものは、高
速硬化性を必要とする用途に対しては、硬化速度が充分
ではない。

【０００４】クリベロ（Ｃｒｉｖｅｌｌｏ）らは、ジャ
ーナル・オブ・ポリマー・サイエンス（Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ）、パートＡ
（Ｐａｒｔ Ａ）、ポリマーケミストリー（Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、第３１巻、１４７３頁
（１９９３年）において、ビニルエーテル化合物よりも
高速で光照射により硬化するプロペニルエーテル化合物
を開示している。しかしながら、このものは、揮発性が
高く、また、流動特性が充分ではないので、工業的用途
においては充分満足のいくものではない。更に、硬度
や、金属との接着性も不充分であり、工業的使用に耐え
うる高速硬化性の感光性樹脂組成物が望まれている。

【０００５】本発明の目的は、上記現状に鑑み、ビニル
エーテル化合物よりも高速で光照射により硬化し、か
つ、流動特性、樹脂硬化物性、金属との密着性等に優
れ、しかも安価に製造可能な光硬化性樹脂組成物を提供
することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、分子内に下記
式（１）で示されるプロペニルエーテル基を有し、か
つ、数平均分子量が５００以上であるプロペニルエーテ
ル基含有化合物（Ａ）、及び、光カチオン重合開始剤
（Ｂ）からなる光硬化性樹脂組成物である。 ＣＨ₃ −ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ− （１） 以下に本発明を詳述する。

【０００７】本発明の光硬化性樹脂組成物は、プロペニ
ルエーテル基含有化合物（Ａ）、及び、光カチオン重合
開始剤（Ｂ）からなる。以下、上記プロペニルエーテル
基含有化合物（Ａ）について詳細に説明する。本発明に
おけるプロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）（以下、
このものを「化合物（Ａ）」という）は、分子内に上記
式（１）で表されるプロペニルエーテル基を有するもの
である。上記化合物（Ａ）は、上記プロペニルエーテル
基を、分子内に少なくとも５個有するものであることが
好ましい。５個未満であると、硬化速度が低下する。よ
り好ましくは、少なくとも１０個有するものである。

【０００８】上記化合物（Ａ）の数平均分子量は、５０
０以上である。５００未満であると、粘度が低く、流動
性が高くなり、フィルム形成が困難になるので、上記範
囲に限定される。より好ましくは、１０００以上であ
る。

【０００９】上記化合物（Ａ）としては、上記プロペニ
ルエーテル基を有し、かつ、数平均分子量が５００以上
のものであれば特に限定されないが、ポリエーテル、ポ
リビニル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、
ポリカーボネート及びノボラックからなる群より選択さ
れた少なくとも１種の主鎖を有するものが好ましい。こ
の場合において、上記化合物（Ａ）は、少なくとも５個
の上記プロペニルエーテル基を側鎖に有するものが好ま
しい。

【００１０】上記化合物（Ａ）のうち、ポリエーテル、
ポリビニル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミ
ド、ポリカーボネート及びノボラックからなる群より選
択された少なくとも１種の主鎖を有するものとして、そ
れぞれ、例えば、下記一般式（２）〜（１０）で示され
る構造を有するもの等が例示される。

【００１１】

【化２】

【００１２】以下、これらについて詳細に説明する。上
記一般式（２）で示される構造を有する化合物（Ａ）
は、ポリエーテル主鎖を有するものである。上記一般式
（２）中、ａは、２〜２００の整数である。ａが２００
を超えると、通常は粘度が高くなり、光カチオン重合開
始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満であると、粘度
が低く、流動性が高いのでフィルム形成が困難になる。
好ましくは２〜８０であり、より好ましくは５〜１０で
ある。Ａ¹ は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換さ
れていないアルキレン基、アリーレン基、アルアルキレ
ン基、ハロアルキレン基、又は、グリシジルエーテルを
開環重合させたときの残基を表す。本明細書中、−Ｘ−
Ｚ基は、−Ｘ−Ｚで表される基（式中、Ｘは、２価の有
機基を表す。Ｚは、上記一般式（１）で示されるプロペ
ニルエーテル基を表す。）を表す。一般式（１）中のａ
個のＡ¹ のうち少なくとも５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換さ
れた基であることが好ましい。

【００１３】上記一般式（２）において、ａ個のＡ
¹ は、同一でも異なっていても良く、（Ａ¹ −Ｏ）ａ部
分は、ランダム付加であっても、又は、ブロック付加で
あってもよい。

【００１４】上記Ｘの例としては、例えば、エーテル
基、カーボネート基、エステル基、イミノ基、アミド
基、ウレタン基、ウレア基及びスルフィド基からなる群
より選択される１種以上の基を有していてもよい炭化水
素基等が例示され、具体例としては、例えば、−ＣＨ₂
−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −、−ＣＨ₂ ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ −、−
ＣＨＯＣ（＝Ｏ）ＯＣＨ₂ −、−ＣＨ₂ ＮＨＣＨ₂ ＣＨ
₂ −、−ＣＨ₂ ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（ＣＨ₂ ）₆ ＮＨＣ
（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ₂ Ｓ（ＣＨ₂ ）₂ Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
（ＣＨ₂ ）₂ −等が挙げられる。

【００１５】上記一般式（２）中の上記Ａ¹ の具体例と
しては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、１−
ブチレン基、２−ブチレン基、１−メチルトリメチレン
基、２−メチルトリメチレン基、テトラメチレン基、メ
チルテトラメチレン基、ペンタメチレン基、ペンチレン
基、イソアミレン基、ヘキシレン基、シクロヘキセン
基、ネオヘキセン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノ
ニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基
等で例示されるアルキレン基の水素原子が−Ｘ−Ｚ基で
置換された基；メチレン基、エチレン基、プロピレン
基、１−ブチレン基、２−ブチレン基、１−メチルトリ
メチレン基、２−メチルトリメチレン基、テトラメチレ
ン基、メチルテトラメチレン基、ペンタメチレン基、ペ
ンチレン基、イソアミレン基、ヘキシレン基、シクロヘ
キセン基、ネオヘキセン基、ヘプチレン基、オクチレン
基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシ
レン基等のアルキレン基；フェニレン基、ナフチレン
基、アントリレン基、フェナントリレン基等のアリーレ
ン基；ベンジレン基、１−フェニチレン基、２−フェニ
チレン基、１−フェニルプロピレン基、２−フェニルプ
ロピレン基、３−フェニルプロピレン基等のアルアルキ
レン基；クロロエチレン基、ジクロロエチレン基、ブロ
モエチレン基、クロロメチルエチレン基等のハロアルキ
レン基；ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、アリルグリシジルエーテル、２−エチルヘ
キシルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテ
ル、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、
グリシジルメタクリレート、ジグリシジルエーテル、
（ポリ）エチレングリコールジグリシジルエーテル、
（ポリ）プロピレングリコールジグリシジルエーテル、
ブタンジオールジグリシジルエーテル、ジグリシジルア
ニリン、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル、グリセリントリグリシジルエーテル等のグリシジル
エーテルを開環重合させたときの残基等が挙げられる。
これらのうち好ましくは、炭素数２〜６のアルキレン基
であり、更に好ましくはエチレン基及びプロピレン基で
ある。アルキレン基が長くなると、光カチオン重合開始
剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。

【００１６】上記一般式（２）の構造を有する化合物
（Ａ）の具体例としては、例えば、下記一般式（１２） Ｒ³ 〔−Ｏ−（Ａ¹ −Ｏ）ａ−Ｒ⁴ 〕ｍ₁ （１２） （式中、Ｒ³ は、多価アルコール又は多価フェノールか
らｍ₁ 個の水酸基を除いた残基を表す。Ｒ⁴ は、プロペ
ニル基、水素原子、アルキル基、アシル基、（メタ）ア
クリロイル基又はアリール基を表す。ｍ₁ 個のＲ⁴ のう
ち少なくとも２つは、プロペニル基を表す。ｍ₁ は、２
〜２００の整数である。）で表されるもの等が挙げられ
る。

【００１７】上記多価アルコールとしては、例えば、グ
リセリン、ポリグリセリン（グリセリンの２〜１８量
体、例えば、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグ
リセリン等）；グリシドールの開環重合物（重合度が２
〜２００である化合物）；トリメチロールアルカン（ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールブタン等）及びこれらの２〜３量体；モノペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、１，３，
５−ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビタ
ン、ソルビタングリセリン縮合物、アドニトール、アラ
ビトール、キシリトール、マンニトール等の多価アルコ
ール；キシロース、アラビノース、リボース、ラムノー
ス、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノ
ース、ソルボース、セロビオース、マルトース等の糖
類；並びに、これらの部分エーテル化物（例えば、メチ
ルエーテル、エチルエーテル）、部分酢酸エステル化
物、メチルグルコシド；ポリビニルアルコール（重合度
が５〜７００である重合物）、２−ヒドロキシエチルア
クリレートの重合物（重合度が５〜７００である重合
物）、２−ヒドロキシエチルメタクリレートの重合物
（重合度が５〜７００である重合物）、アリルアルコー
ルの重合物（重合度が５〜７００である重合物）等が挙
げられる。なかでも、特にグリセリンやポリグリセリン
並びにトリメチロールアルカン及びその２〜３量体等が
好ましい。

【００１８】上記多価フェノールとしては、例えば、ク
レゾールノボラック樹脂、フェノールノボラック樹脂等
が挙げられる。

【００１９】上記一般式（３）で示される構造を有する
化合物（Ａ）は、ポリビニル主鎖を有するものである。
上記一般式（３）中、ｂは、２〜２００の整数である。
ｂが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光カチオ
ン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満である
と、粘度が低く、流動性が高くなるので、フィルム形成
が困難になる。好ましくは３〜１００であり、より好ま
しくは３〜２０である。Ｑ¹ は、水素原子、水酸基、ア
ルキル基、アリール基、ハロアルキル基、ハロアリール
基、アルコキシカルボニル基、アセトキシ基、又は、−
Ｘ−Ｚ基を表す。一般式（３）中のｂ個のＱ¹ は、同一
でも異なっていてもよい。また、上記一般式（３）中の
ｂ個のＱ¹ のうち少なくとも５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換
された基であることが好ましい。

【００２０】上記一般式（３）中の上記Ｑ¹ の具体例と
しては、水素原子；水酸基；メチル基、エチル基等のア
ルキル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；クロ
ロメチル基、クロロエチル基等のハロアルキル基；クロ
ロメチルフェニル基、クロロエチルフェニル基、２，
４，６−トリクロロフェニル基、２，４，６−トリブロ
モフェニル基等のハロアリール基；メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の
アルコキシカルボニル基；アセトキシ基及び−Ｘ−Ｚ基
等が挙げられる。

【００２１】上記一般式（４）で示される構造を有する
化合物（Ａ）は、ポリエステル主鎖を有するものであ
る。上記一般式（４）中、ｃは、２〜２００の整数であ
る。ｃが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光カ
チオン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満で
あると粘度が低く、流動性が高くなるのでフィルム形成
が困難になる。好ましくは２〜８０、より好ましくは２
〜２０である。Ａ² は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しく
は置換されていないアルキレンジオールの残基、−Ｘ−
Ｚ基で置換された若しくは置換されていないアリーレン
ジオールの残基、又は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しく
は置換されていないポリエーテルジオールの残基を表
す。Ａ³は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換され
ていないアルキレン基、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しく
は置換されていないアリーレン基、アルアルキレン基、
又は、ハロアルキレン基を表す。一般式（４）中のｃ個
のＡ² 及びｃ個のＡ³ は、それぞれ同一でも異なってい
てもよい。また、上記一般式（４）中のｃ個のＡ²及び
ｃ個のＡ³ のうち少なくとも５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換
された基であることが好ましい。

【００２２】上記Ａ² において、水酸基を除いたものが
Ａ² に相当するジオールの具体例としては、エチレング
リコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、１，４−シクロヘキサンジオール等のアルキレンジ
オール；カテコール、ビス（２−ヒドロキシフェニル）
メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス
フェノールＡ等のアリーレンジオール；ポリ（オキシエ
チレン）ジオール、ポリ（オキシプロピレン）ジオー
ル、ポリ（オキシテトラメチレン）ジオール、ビスフェ
ノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノール
Ａのプロピレンオキサイド付加物等のポリエーテルジオ
ール、及び、これらのジオールの水酸基以外の水素原子
が−Ｘ−Ｚ基で置換されたもの等が挙げられる。これら
のうち好ましくは、ポリ（オキシエチレン）ジオール及
びポリ（オキシプロピレン）ジオールである。上記ポリ
エーテルジオールの重合度は、通常２〜２００、好まし
くは２〜１００、特に好ましくは３〜２０である。

【００２３】上記一般式（４）中の上記Ａ³ の具体例と
しては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ペン
チレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン
基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基等のアル
キレン基；メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブ
チレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン
基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシ
レン基、ドデシレン基等のアルキレン基の水素原子が−
Ｘ−Ｚ基で置換された基；フェニレン基、ナフチレン
基、アントリレン基、フェナントリレン基等のアリーレ
ン基；フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、
フェナントリレン基等のアリーレン基の水素原子が−Ｘ
−Ｚ基で置換された基；ベンジレン基、１−フェニチレ
ン基、２−フェニチレン基、１−フェニルプロピレン
基、２−フェニルプロピレン基、３−フェニルプロピレ
ン基等のアルアルキレン基；クロロエチレン基、ジクロ
ロエチレン基、ブロモエチレン基、クロロメチルエチレ
ン基等のハロアルキレン基等が挙げられる。

【００２４】上記一般式（４）の構造を有する化合物
（Ａ）の具体例としては、例えば、下記一般式（１３）

【００２５】

【化３】

【００２６】（式中、Ｒ⁵ は、多価カルボン酸からｍ₂
個のカルボキシル基を除いた残基を表す。Ｒ⁶ は、ポリ
エーテルジオール、ポリウレタンジオール又はポリカー
ボネートジオールのうちいずれかのジオール残基を表
す。Ｒ⁷ は、プロペニル基、水素原子、アルキル基、ア
シル基、（メタ）アクリロイル基又はアリール基を表
す。ｍ₂ 個のＲ⁷ のうち少なくとも２つは、プロペニル
基を表す。ｍ₂ は、２〜２００の整数である。）で表さ
れるもの等が挙げられる。

【００２７】上記多価カルボン酸としては、例えば、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸等が挙げられ
る。

【００２８】上記一般式（５）で示される構造を有する
化合物（Ａ）は、ポリエステル主鎖を有するものであ
る。上記一般式（５）中、ｄは、２〜２００の整数であ
る。ｄが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光カ
チオン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満で
あると粘度が低く、流動性が高くなるのでフィルム形成
が困難になる。好ましくは２〜８０、より好ましくは２
〜２０の整数である。Ａ⁴ は、−Ｘ−Ｚ基で置換された
若しくは置換されていないアルキレン基、−Ｘ−Ｚ基で
置換された若しくは置換されていないアリーレン基、ア
ルアルキレン基、又は、ハロアルキレン基を表す。一般
式（５）中のｄ個のＡ⁴ は、同一でも異なっていてもよ
い。また、上記一般式（５）中のｄ個のＡ⁴ のうち少な
くとも５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換された基であることが
好ましい。

【００２９】上記一般式（５）中の上記Ａ⁴ の具体例と
しては、上記Ａ³ の具体例として例示したもの等が挙げ
られる。

【００３０】上記一般式（６）で示される構造を有する
化合物（Ａ）は、ポリウレタン主鎖を有するものであ
る。上記一般式（６）中、ｅは、２〜２００の整数であ
る。ｅが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光カ
チオン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満で
あると粘度が低く、流動性が高くなるのでフィルム形成
が困難になる。好ましくは２〜５０、より好ましくは２
〜２０の整数である。Ａ⁵ は、ジイソシアネートからイ
ソシアネート基を除いた残基を表す。Ａ⁶ は、−Ｘ−Ｚ
基で置換された若しくは置換されていないアルキレンジ
オールの残基、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換さ
れていないアリーレンジオールの残基、−Ｘ−Ｚ基で置
換された若しくは置換されていない（ポリ）エーテルジ
オールの残基、又は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは
置換されていないポリエステルジオールの残基を表す。
一般式（６）中のｄ個のＡ⁵ 及びｄ個のＡ⁶ は、それぞ
れ同一でも異なっていてもよい。また、上記一般式
（６）中のｄ個のＡ⁵ 及びｄ個のＡ⁶ のうち少なくとも
５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換された基であることが好まし
い。

【００３１】上記Ａ⁵ において、イソシアネート基を除
くとＡ⁵ を与えるジイソシアネートの具体例としては、
トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ｐ−フェニレン
ジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、
１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘ
キサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチ
ルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘ
キサンジイソシアネート、４，４′−ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート（デスモジュールＷ）、４，
４′−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、
１，５−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナ
フタリン−１，５−ジイソシアネート、ビス（２−メチ
ル−３−イソシアナトフェニル）メタン、４，４′−ジ
フェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチルキシ
リレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、イソホロンジ
イソシアネート（ＩＰＤＩ）等が挙げられる。これらの
うち好ましくは、トリレンジイソシアネート（ＴＤ
Ｉ）、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート
（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤ
Ｉ）、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸ
ＤＩ）、４，４′−ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート（デスモジュールＷ）、１，６−ヘキサメチレン
ジイソシアネートである。

【００３２】上記Ａ⁶ において、水酸基を除くとＡ⁶ を
与えるジオールの具体例としては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、
１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、
１，４−シクロヘキサンジオール等のアルキレンジオー
ル；カテコール、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビスフェ
ノールＡ等のアリーレンジオール；ポリ（オキシプロピ
レン）ジオール、ポリ（オキシテトラメチレン）ジオー
ル、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビ
スフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物等のポリ
エーテルジオール；ポリ（エチレンアジペート）ジオー
ル、ポリ（ブチレンイソフタレート）ジオール、ポリカ
プロラクトンジオール等のポリエステルジオール；これ
らのジオールの水酸基以外の水素原子が−Ｘ−Ｚ基で置
換されたもの等が挙げられる。これらのうち好ましく
は、ポリ（オキシエチレン）ジオール及びポリ（オキシ
プロピレン）ジオールである。

【００３３】上記一般式（６）の構造を有する化合物
（Ａ）の具体例としては、例えば、下記一般式（１４） Ｒ⁸ （ＮＨＣＯＯ−Ｒ⁹ ）ｍ₃ （１４） （式中、Ｒ⁸ は、多価イソシアネートからイソシアネー
ト基を除いた残基を表す。Ｒ⁹ は、−（Ｚ¹ Ｏ）ｎ−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−ＣＨ₃ 基、−（Ｚ¹ Ｏ）ｎ−ＣＯ−Ｃ
（Ｒ¹⁰）＝ＣＨ₂ 基、−（Ｚ¹ Ｏ）ｎＨ基、水素又はア
ルキレン基を表す。ｍ₃個のＲ⁹ のうち少なくとも１つ
は−（Ｚ¹ Ｏ）ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃ 基であり、他の
少なくとも１つは、−（Ｚ¹ Ｏ）ｎ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ¹⁰）
＝ＣＨ₂ 基であってもよい。Ｚ¹ は、炭素数２〜１２の
アルキレン基、アリーレン基、アルアルキレン基又はシ
クロアルキレン基を表す。Ｒ¹⁰は、水素又はメチル基を
表す。ｎは、０〜２００の整数である。ｍ₂ は、２〜２
００の整数である。）で表されるもの等が挙げられる。

【００３４】上記多価イソシアネートとしては、例え
ば、トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニル
メタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、テトラメチルキシレンジイソシアネート、４，４′
−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、１，６−
ヘキサメチレンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート、トリス（イソシアナトフェニル）
チオホスフェート等が挙げられる。

【００３５】上記一般式（７）で示される構造を有する
化合物（Ａ）は、ポリアミド主鎖を有するものである。
上記一般式（７）中、ｆは、２〜２００の整数である。
ｆが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光カチオ
ン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満である
と、粘度が低く、流動性が高くなるのでフィルム形成が
困難になる。好ましくは２〜５０、より好ましくは２〜
２０の整数である。Ａ⁷ 、Ａ⁸ は、同一若しくは異なっ
て、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換されていない
アルキレン基、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換さ
れていないアリーレン基、アルアルキレン基、又は、ハ
ロアルキレン基を表す。一般式（７）中のｆ個のＡ⁷ 及
びｆ個のＡ⁸ は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。上記一般式（７）中のｆ個のＡ⁷ 及びｆ個のＡ⁸ の
うち少なくとも５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換された基であ
ることが好ましい。

【００３６】上記一般式（７）中の上記Ａ⁷ 、Ａ⁸ の具
体例としては、上記Ａ³ の具体例として例示したもの等
が挙げられる。

【００３７】上記一般式（８）で示される構造を有する
化合物（Ａ）は、ポリアミド主鎖を有するものである。
上記一般式（８）中、ｇは、２〜２００の整数である。
ｇが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光カチオ
ン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満である
と、粘度が低く、流動性が高くなるのでフィルム形成が
困難になる。好ましくは２〜５０、特に好ましくは２〜
２０の整数である。Ａ⁹ は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若
しくは置換されていないアルキレン基、−Ｘ−Ｚ基で置
換された若しくは置換されていないアリーレン基、アル
アルキレン基、又は、ハロアルキレン基を表す。一般式
（８）中のｇ個のＡ⁹ は、同一でも異なっていてもよ
い。また、上記一般式（８）中のｇ個のＡ⁹ のうち少な
くとも５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換された基であることが
好ましい。

【００３８】上記一般式（８）中の上記Ａ⁹ の具体例と
しては、上記Ａ³ の具体例として例示したもの等が挙げ
られる。

【００３９】上記一般式（９）で示される構造を有する
化合物（Ａ）は、ポリカーボネート主鎖を有するもので
ある。上記一般式（９）中、ｈは、２〜２００の整数で
ある。ｈが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光
カチオン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満
であると、粘度が低く、流動性が高くなるのでフィルム
形成が困難になる。好ましくは２〜５０、より好ましく
は２〜２０の整数である。Ａ¹⁰は、−Ｘ−Ｚ基で置換さ
れた若しくは置換されていないアルキレン基、−Ｘ−Ｚ
基で置換された若しくは置換されていないアリーレン
基、アルアルキレン基、又は、ハロアルキレン基を表
す。一般式（９）中のｈ個のＡ¹⁰は、同一でも異なって
いてもよい。また、上記一般式（９）中のｈ個のＡ¹⁰の
うち少なくとも５個は、−Ｘ−Ｚ基で置換された基であ
ることが好ましい。

【００４０】上記一般式（９）中の上記Ａ¹⁰の具体例と
しては、上記Ａ³ の具体例として例示したもの等が挙げ
られる。

【００４１】上記一般式（１０）で示される構造を有す
る化合物（Ａ）は、ノボラック主鎖を有するものであ
る。上記一般式（１０）中、ｉは、２〜２００の整数を
表す。ｉが２００を超えると、通常は粘度が高くなり光
カチオン重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になり、２未満
であると、粘度が低く、流動性が高くなるのでフィルム
形成が困難になる。好ましくは２〜５０、より好ましく
は２〜２０の整数である。Ａｒは、アリール基を表す。
Ｑ² は、水素原子、グリシジル基、又は、−Ｘ−Ｚ基を
表す。一般式（１０）中のｉ個のＱ² は、同一でも異な
っていてもよい。また、上記一般式（１０）中のｉ個の
Ｑ² のうち少なくとも２つは、−Ｘ−Ｚ基である。

【００４２】上記一般式（２）〜（１０）で示される構
造を有する化合物（Ａ）は、上記式（１）で示されるプ
ロペニルエーテル基を、その主鎖の側鎖、及び、その主
鎖の両末端のうち、少なくともいずれかにおいて有して
いる。このうち、側鎖に有し、かつ、主鎖の両末端に有
していることが好ましい。

【００４３】上記一般式（２）〜（１０）で示される構
造を有する化合物（Ａ）は、プロペニルエーテル基に加
えて（メタ）アクリロイル基を有していてもよい。

【００４４】本発明において、上記化合物（Ａ）を得る
方法としては特に限定されず、例えば、一般式（２）で
示される構造を有する化合物（Ａ）は、対応する多官能
アリルエーテル基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー
をアルカリ触媒によりプロペニル転位させることにより
得ることができる。

【００４５】上記アルカリ触媒の例としては、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、カ
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエ
トキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔ
−ブトキシド等が挙げられる。

【００４６】これらのアルカリ触媒を使用する場合、ア
ルカリの仕込み比としては多官能アリルエーテル基を有
する（ポリ）エーテルオリゴマーの１．０モル当量に対
してアルカリ触媒を０．０１〜５モルの範囲、好ましく
は０．１〜２モルの範囲にすることにより高い反応促進
効果が得られる。

【００４７】反応溶媒としては、例えば、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アセトニトリル、ブタノール、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、トルエン、ポリエチレングリコール
（分子量が１００〜２００００の化合物）等が挙げられ
る。反応温度は、３０〜１７０℃であり、好ましくは６
０〜１２０℃である。

【００４８】反応後の単離精製法は、公知の方法を採用
できる。例えば、反応液を室温まで冷却後、トルエン又
はエーテルで有機層を抽出し数回水洗することで無機塩
を除き、有機層を減圧濃縮することにより目的物を取得
する方法等が挙げられるが、この方法に限定されるもの
ではない。好ましくは反応液を室温まで冷却後、過剰の
アルカリを酸で中和するのが良い。

【００４９】上記多官能アリルエーテル基を有する（ポ
リ）エーテルオリゴマーは、例えば、アリルクロライド
と多官能アルコールとのアルカリ触媒による脱塩エーテ
ル化反応により得ることができる。アルカリ触媒の例と
しては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウ
ムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシ
ド、ナトリウム−ｔ−ブトキシド等が挙げられる。アリ
ルエーテル化は完全でなくてもよく、ｎモル中、２０％
は水酸基が残っていても良い。

【００５０】これらのアルカリ触媒を使用する場合、ア
ルカリの仕込み比としては、多官能アルコールの１．０
モル当量に対してアルカリ触媒を０．８〜１０モルの範
囲、好ましくは１〜２モルの範囲にすることにより高い
反応促進効果が得られる。多官能アルコールと塩化アリ
ルとの当量比は、通常１：１．０〜１０．０であり、好
ましくは１：１．０〜２．０である。

【００５１】本発明における光カチオン重合開始剤
（Ｂ）としては、公知の光カチオン重合開始剤が使用で
きる。例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェ
ート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニル
チオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニル
ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］
スルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート、ビス
［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィ
ドビスヘキサフルオロアンチモネート、（２，４−シク
ロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベ
ンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート、ジアリ
ルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げ
られる。これらは市場より容易に入手することができ
る。例えば、旭電化社製、ＳＰ−１５０、ＳＰ−１７
０；チバ・ガイギー社製、イルガキュアー２６１；ユニ
オンカーバイド社製、ＵＶＲ−６９７４、ＵＶＲ−６９
９０；サートマー社製、ＣＤ−１０１２等が挙げられ
る。

【００５２】本発明において、上記光カチオン重合開始
剤（Ｂ）としては、オニウム塩を使用することが好まし
い。また、上記オニウム塩としては、トリアリールスル
ホニウム塩及びジアリールヨードニウム塩のうち少なく
とも１種を使用することが好ましい。

【００５３】本発明において、上記化合物（Ａ）：上記
光カチオン重合開始剤（Ｂ）の使用割合は、重量比で通
常９５：５〜９９．９：０．０１である。上記光カチオ
ン重合開始剤（Ｂ）の比率が０．０１未満では、充分な
重合開始効果が得られず、５を超えて使用しても硬化速
度の更なる向上効果はなく、不経済である。好ましくは
９６：４〜９８：２である。

【００５４】本発明の光硬化性樹脂組成物においては、
粘度を調整する目的で、更に、下記一般式（１１）で表
される分子量５００未満の化合物からなる反応性希釈剤
（Ｃ）を含有することができる。 ＣＨ₃ −ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｒ¹ −Ｏ−Ｒ² （１１）

【００５５】上記一般式（１１）中、Ｒ¹ は、ＨＯ−Ｒ
¹ −ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジ
オール、ポリエーテルジオール又はポリエステルジオー
ルから水酸基を除いた残基である。Ｒ² は、アルキル
基、アリール基、アルアルキル基、シクロアルキル基又
は水素原子である。

【００５６】上記ＨＯ−Ｒ¹ −ＯＨで表されるアルキレ
ンジオールの例としては、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブ
タンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノ
ナンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シク
ロヘキサンジオール等が挙げられる。アリーレンジオー
ルの例としては、カテコール、ビス（２−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビスフェノールＡ等が挙げられる。ポリエーテルジ
オールの例としては、ポリ（オキシエチレン）ジオー
ル、ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オキシ
テトラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエチレ
ンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオ
キサイド付加物等が挙げられる。ポリエステルジオール
の例としては、ポリ（エチレンアジペート）ジオール、
ポリ（ブチレンイソフタレート）ジオール、ポリカプロ
ラクトンジオール等が挙げられる。こられのうち好まし
くは、ポリ（オキシエチレン）ジオール及びポリ（オキ
シプロピレン）ジオールである。

【００５７】上記一般式（１１）中の上記Ｒ² の具体例
としては、水素原子；メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基等のアルキル基；フェニル基、ナフチル基、アン
トリル基、フェナントリル基等のアリール基；ベンジル
基、１−フェニチル基、２−フェニチル基、３−フェニ
ルプロピル基、２−フェニルプロピル基、１−フェニル
プロピル基等のアリールアルキル基；シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基等のシクロアルキル基等が挙げられる。

【００５８】上記反応性希釈剤（Ｃ）は、分子量５００
未満である。５００以上であると、光カチオン重合開始
剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。

【００５９】上記反応性希釈剤（Ｃ）の配合量は、上記
化合物（Ａ）と上記光カチオン重合開始剤（Ｂ）との合
計量に対して、通常５〜６０重量％、好ましくは１０〜
３０重量％である。６０重量％を超えると、硬化速度は
大幅に低下する。

【００６０】本発明の光硬化性樹脂組成物においては、
必要に応じて、更に、ラジカル重合性のビニル系化合物
（Ｄ）及び光ラジカル重合開始剤（Ｅ）を含有すること
ができる。

【００６１】上記ラジカル重合性のビニル系化合物
（Ｄ）としては、公知のラジカル重合性のビニル系化合
物が使用できる。例えば、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート等の（メタ）アクリレートモノマー；スチレ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルエーテル、アクリ
ル酸、メタクリル酸；エポキシ（メタ）アクリレート、
ウレタン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレー
トオリゴマー等が挙げられる。

【００６２】上記ラジカル重合性のビニル系化合物
（Ｄ）の配合量は、上記化合物（Ａ）１００重量部に対
し、０〜１００重量部が好ましく、より好ましくは０〜
５０重量部である。

【００６３】上記光ラジカル重合開始剤（Ｅ）として
は、公知の光ラジカル重合開始剤が使用できる。例え
ば、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチル
エーテル等のベンゾインアルキルエーテル系；２，２−
ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系；ベン
ジルジメチルケタール等のアントラキノン系等が挙げら
れる。

【００６４】上記光ラジカル重合開始剤（Ｅ）の配合量
は、上記化合物（Ａ）と上記光カチオン重合開始剤
（Ｂ）との合計量に対して、通常１〜５重量％であり、
好ましくは２〜５重量％である。

【００６５】本発明の光硬化性樹脂組成物には、更に必
要に応じて、有機溶剤類、エポキシ樹脂（例えば、ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポ
キシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂等）、顔料、着色剤、無
機充填剤、非反応樹脂、その他各種添加剤を添加するこ
とができる。

【００６６】本発明の光硬化性樹脂組成物は、上記各成
分及びその他を、例えば、混合溶解すること等により得
ることができる。また、本発明の光硬化性樹脂組成物
は、常法により紫外線又は電子線を照射することにより
容易に硬化させて硬化物を得ることができる。紫外線照
射装置としては特に限定されず、例えば、高圧水銀ラン
プ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が挙げら
れる。電子線照射装置としては特に限定されず、例え
ば、走査型照射装置（日新電機社製）、カーテン型照射
装置（岩崎電機社製）等が挙げられる。

【００６７】本発明の化合物（Ａ）は、プロペニルエー
テル基間の骨格の構造を、又は、プロペニルエーテル基
に加えて（メタ）アクリロイル基を有している場合に
は、これらの官能基間の骨格の構造を、変化させること
により、流動特性及び硬化物性を広い範囲で調節するこ
とが可能である。また、プロペニルエーテル基の数とポ
リマー主鎖骨格の構造とのバランスの最適化により流動
特性及び硬化物性を向上させることが可能である。主鎖
にポリエステルを有する場合には、金属との密着性を向
上させることが可能である。

【００６８】本発明の光硬化性樹脂組成物は、従来のア
クリレート樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエーテル樹脂を
使用した感光性樹脂よりも流動特性の優れた適度の粘度
を発揮し、速硬化性を有する。また、酸素による重合阻
害がないので、良好な表面硬化性を有している。

【００６９】本発明の光硬化性樹脂組成物は、空気中に
おいて硬化速度が著しく速く、硬化特性が良好であるの
で、金属、プラスチック、紙、ガラス、ゴム、木材等の
各種材料に対するコーティング剤や、塗料、印刷イン
キ、形成材料、レジスト材料等の多方面に応用できる。
特に、プリント配線基板用レジスト、印刷インキ、塗
料、紙用コーティング剤、金属用コーティング剤、光フ
ァイバー用コーティング剤、ハードコート剤及び接着剤
の組成物として好適である。

【００７０】

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。

【００７１】化合物（Ａ）の合成 合成例１ ５００ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブにグリセリン４
６．０ｇ（０．５モル）とＫＯＨ０．５ｇとを仕込み、
耐圧滴下ロートからエチレンオキサイド２６４．３ｇ
（６．０モル）を滴下し、１１０℃で５時間熟成した。
系内を８０℃まで冷却後、ＫＯＨ８４．２ｇ、ｎ−テト
ラブチルアンモニウムブロマイド９．６７ｇ、トルエン
４０ｇを添加し、塩化アリル１１４．８ｇ（１．５モ
ル）を８０℃で１時間かけて徐々に滴下し、５時間熟成
した。その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリと生
成した塩とを水洗して分液除去した。５０℃、１００ｍ
ｍＨｇの圧力下で有機層から未反応の塩化アリルとトル
エンとを除いた後、生成物をガラス製ナスフラスコに仕
込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシドを３２．４
ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド５０ｇを添加
し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。その後、水を
２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して分液除去し
た。水洗された生成物から、８０℃、１０ｍｍＨｇの減
圧下で含有するジメチルスルホキシドを除去し、化合物
（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に有するエー
テルオリゴマー〔以下、「化合物（１）」という〕を３
３３．４ｇ得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲ
により確認した。

【００７２】合成例２ ５００ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブにトリメチロール
プロパン６７．１ｇ（０．５モル）とＫＯＨ０．５ｇと
を仕込み、耐圧滴下ロートからエチレンオキサイド２６
４．３ｇ（６．０モル）を滴下し、１１０℃で５時間熟
成した。系内を８０℃まで冷却後、ＫＯＨ８４．２ｇ、
ｎ−テトラブチルアンモニウムブロマイド９．６７ｇ、
トルエン４０ｇを添加し、塩化アリル１１４．８ｇ
（１．５モル）を８０℃で１時間かけて徐々に滴下し、
５時間熟成した。その後、水を２００ｇ加えて過剰のア
ルカリと生成した塩とを水洗して分液除去した。５０
℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機層から未反応の塩化
アリルとトルエンとを除いた後、生成物をガラス製ナス
フラスコに仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシ
ドを３２．４ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド
５０ｇを添加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。
その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して
分液除去した。水洗された生成物から、８０℃、１０ｍ
ｍＨｇの減圧下で含有するジメチルスルホキシドを除去
し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に
有するエーテルオリゴマー〔以下、「化合物（２）」と
いう〕を３４３．５ｇ得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³
Ｃ−ＮＭＲにより確認した。

【００７３】合成例３ ５００ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブにグリセリン４
６．０ｇ（０．５モル）とＫＯＨ０．５ｇとを仕込み、
耐圧滴下ロートからエチレンオキサイド５２８．６ｇ
（１２．０モル）を滴下し、１１０℃で５時間熟成し
た。系内を８０℃まで冷却後、ＫＯＨ８４．２ｇ、ｎ−
テトラブチルアンモニウムブロマイド９．６７ｇ、トル
エン４０ｇを添加し、塩化アリルを１１４．８ｇ（１．
５モル）を８０℃で１時間かけて徐々に滴下し、５時間
熟成した。その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリ
と生成した塩とを水洗して分液除去した。５０℃、１０
０ｍｍＨｇの圧力下で有機層から未反応の塩化アリルと
トルエンとを除いた後、生成物をガラス製ナスフラスコ
に仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシドを３
２．４ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド５０ｇ
を添加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。その
後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して分液
除去した。水洗された生成物から、８０℃、１０ｍｍＨ
ｇの減圧下で含有するジメチルスルホキシドを除去し、
化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に有す
るエーテルオリゴマー〔以下、「化合物（３）」とい
う〕を３３８．４ｇ得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ
−ＮＭＲにより確認した。

【００７４】合成例４ ５００ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブにグリセリン４
６．０ｇ（０．５モル）とＫＯＨ０．５ｇとを仕込み、
耐圧滴下ロートからプロピレンオキサイド６９６．０ｇ
（１２．０モル）を滴下し、１１０℃で５時間熟成し
た。系内を８０℃まで冷却後、ＫＯＨ８４．２ｇ、ｎ−
テトラブチルアンモニウムブロマイド９．６７ｇ、トル
エン４０ｇを添加し、塩化アリル１１４．８ｇ（１．５
モル）を８０℃で１時間かけて徐々に滴下し、５時間熟
成した。その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリと
生成した塩とを水洗して分液除去した。５０℃、１００
ｍｍＨｇの圧力下で有機層から未反応の塩化アリルとト
ルエンとを除いた後、生成物をガラス製ナスフラスコに
仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシドを３２．
４ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド５０ｇを添
加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。その後、水
を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して分液除去し
た。水洗された生成物から、８０℃、１０ｍｍＨｇの減
圧下で含有するジメチルスルホキシドを除去し、化合物
（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に有するエー
テルオリゴマー〔以下、「化合物（４）」という〕を４
１９．４ｇ得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲ
により確認した。

【００７５】合成例５ ５００ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブにトリメチロール
プロパン６７．１ｇ（０．５モル）とＫＯＨ０．５ｇと
を仕込み、耐圧滴下ロートからプロピレンオキサイド３
４８．５ｇ（６．０モル）を滴下し、１１０℃で５時間
熟成した。系内を８０℃まで冷却後、ＫＯＨ８４．２
ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウムブロマイド９．６７
ｇ、トルエン４０ｇを添加し、塩化アリル１１４．８ｇ
（１．５モル）を８０℃で１時間かけて徐々に滴下し、
５時間熟成した。その後、水を２００ｇ加えて過剰のア
ルカリと生成した塩とを水洗して分液除去した。５０
℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機層から未反応の塩化
アリルとトルエンとを除いた後、生成物をガラス製ナス
フラスコに仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシ
ドを３２．４ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド
５０ｇを添加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。
その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して
分液除去した。水洗された生成物から、８０℃、１０ｍ
ｍＨｇの減圧下で含有するジメチルスルホキシドを除去
し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に
有するエーテルオリゴマー〔以下、「化合物（５）」と
いう〕を３４９．５ｇ得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³
Ｃ−ＮＭＲにより確認した。

【００７６】実施例１〜５、比較例１〜３ 表１に示す配合組成（数値は重量部である）に従って各
成分を配合し、混合、溶解して本発明の光硬化性樹脂組
成物を得た。これをガラス板にバーコーターで２０μｍ
になるように塗布し、紫外線照射装置（８０Ｗ／ｃｍの
高圧水銀ランプ１灯）を使用し、距離１０ｃｍ、照射強
度が１６０ｍＷ／ｃｍ² の条件で、タックフリーにいた
る最小エネルギーを測定した。光沢、密着性、硬さにつ
いて以下のとおり評価を行った。得られた結果を表２に
示す。

【００７７】評価方法 タックフリー最小エネルギー：硬化後の表面のタックが
無くなるまでの照射量（紫外線ｍＪ／ｃｍ² ）で表す。 光沢：硬化後の光沢を目視で判定した。 ○・・・・光沢に優れている △・・・・光沢がややおちる ×・・・・光沢が全くない 密着性：硬化後表面にセロテープ（商品名）を付けて剥
がし、変化がない場合は○、塗布した樹脂だけがはがれ
た場合は×とし、△は○と×の中間である。 硬さ：硬化後の表面を爪で引っかいて傷つかない場合は
○、傷がつきやすい場合は×とし、△はその中間であ
る。

【００７８】

【表１】

【００７９】表１に示した化合物は、以下のとおりであ
る。 エポキシ基含有エーテルオリゴマー（ｉ）：合成例１に
おいて、塩化アリルの代わりにエピクロロヒドリンを反
応させることにより、末端にエポキシ基を導入した化合
物 アクリロイル基含有エーテルオリゴマー（ｉｉ）：合成
例１において、塩化アリルの代わりにアクリル酸メチル
を反応させることにより、末端にアクリロイル基を導入
した化合物 ＳＰ−１７０（＊１）：旭電化工業社製、ポリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート５０％希釈
品、光カチオン重合開始剤 ＵＶＲ−６９７４（＊２）：ユニオンカーバイド社製、
ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニ
ルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオ
ロアンチモネート混合物の５０％希釈品、光カチオン重
合開始剤 ＵＶＲ−６９９０（＊３）：ユニオンカーバイド社製、
光カチオン重合開始剤 イルガキュアー１８４（＊４）：チバ・ガイギー社製、
光カチオン重合開始剤

【００８０】

【表２】

【００８１】化合物（Ａ）の合成 合成例６ エピクロロヒドリン４６．３ｇ（０．５モル）に、触媒
として三弗化ホウ素エーテラート０．０９３ｇを添加し
た後、４０℃で約２時間反応させた。この反応物を水酸
化ナトリウムで中和後水洗した。このようにして黄色透
明状のポリエピクロロヒドリン約４６．０ｇを得た。こ
のポリエピクロロヒドリンはＧＰＣによる数平均分子量
１３３０、粘度５．９ポイズ（２５℃）であった。この
ポリエピクロロヒドリン４６．０ｇを攪拌下８０℃に昇
温し、ＫＯＨ３３．６ｇ（０．６モル）、ｎ−テトラブ
チルアンモニウムブロマイド９．６７ｇ、トルエン４０
ｇを添加した後、アリルアルコール３４．８ｇ（０．６
モル）を８０℃で１時間かけて徐々に滴下し、５時間熟
成した。その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリ、
生成した塩と過剰のアリルアルコールを水洗、分液し、
５０℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機層からトルエン
を除き、ポリアリルエーテル化合物を５３．０ｇ得た。
得られた生成物は、ＧＰＣによる数平均分子量１５０
０、粘度１０．２ポイズ（２５℃）、 ¹Ｈ−ＮＭＲによ
り確認したアリルエーテル基、水酸基、塩素のモル比は
６２：８：３０であり、アリルエーテル化率は８５％で
あった。ポリアリルエーテルをガラス製ナスフラスコに
５０．０ｇ仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシ
ドを３２．４ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド
５０ｇを添加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。
その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗分液
した。得られた生成物から、８０℃、１０ｍｍＨｇの減
圧下、ジメチルスルホキシドを留去し、化合物（Ａ）と
してプロペニルエーテル基を末端に有する化合物〔以
下、「化合物（６）」という〕４８．４ｇを得た。生成
物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲによりアリル基のプロ
ペニル基への転位率が９８％であることを確認した。

【００８２】合成例７ グリシドール３７．０ｇ（０．５モル）に、触媒として
三弗化ホウ素エーテラート０．０９３ｇを添加した後、
４０℃で約３時間反応させた。この反応物を水酸化ナト
リウムで中和後水洗した。このようにして黄色透明状の
ポリグリシドール約３６．５ｇを得た。このポリグリシ
ドールはＧＰＣによる数平均分子量１４８０、粘度１
０．９ポイズ（２５℃）であった。このポリグリシドー
ル３６．８ｇを攪拌下８０℃に昇温し、ＫＯＨ３３．６
ｇ（０．６モル）、ｎ−テトラブチルアンモニウムブロ
マイド９．６７ｇ、トルエン４０ｇを添加した後、塩化
アリル４６．０ｇ（０．６モル）を８０℃で１時間かけ
て徐々に滴下し、５時間熟成した。その後、水を２００
ｇ加えて過剰のアルカリと生成した塩とを水洗、分液し
た。５０℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機層から未反
応の塩化アリルとトルエンとを除き、ポリアリルエーテ
ル化合物５０．２ｇを得た。得られた生成物は、ＧＰＣ
による数平均分子量１４００、粘度３０．２ポイズ（２
５℃）、 ¹Ｈ−ＮＭＲにより確認したアリルエーテル化
率は９０％であった。ポリアリルエーテルをガラス製ナ
スフラスコに５０．０ｇ仕込み、触媒としてカリウム−
ｔ−ブトキシドを３２．４ｇ、反応溶媒としてジメチル
スルホキシド５０ｇを添加し９０℃で１５分熟成（転位
反応）した。その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカ
リを水洗除去した。得られた生成物から、８０℃、１０
ｍｍＨｇの減圧下、水分を除去し、化合物（Ａ）として
プロペニルエーテル基を末端に有する化合物〔以下、
「化合物（７）」という〕４８．５ｇを得た。生成物は
¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲによりアリル基のプロペニ
ル基への転位率が９８％であることを確認した。

【００８３】合成例８ メチルエチルケトン２９．０ｇを８０℃に昇温後、２−
ヒドロキシエチルアクリレート５８．１ｇ（０．５モ
ル）とアゾビスイソブチロニトリル０．５８ｇの混合物
をメチルエチルケトン２９．０ｇで希釈した溶液を８０
℃で２時間かけて滴下し、３時間熟成した。得られたポ
リ（２−ヒドロキシエチルアクリレート）は、ＧＰＣに
よる数平均分子量が２０００であった。このポリ（２−
ヒドロキシエチルアクリレート）２８．０ｇをメチルエ
チルケトン６０ｇに添加し、攪拌下８０℃に昇温し、Ｋ
ＯＨ３３．６ｇ（０．６モル）、ｎ−テトラブチルアン
モニウムブロマイド９．６７ｇを添加した後、塩化アリ
ル４６．０ｇ（０．６モル）を８０℃で１時間かけて徐
々に滴下し、５時間熟成した。その後、水を２００ｇ加
えて過剰のアルカリと生成した塩とを水洗、分液した。
５０℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機層から未反応の
塩化アリルとメチルエチルケトンを除き、ポリアリルエ
ーテル化合物５８．２ｇを得た。得られた生成物のアリ
ルエーテル化率は ¹Ｈ−ＮＭＲにより７９％であった。
ポリアリルエーテルをガラス製ナスフラスコに８０．０
ｇ仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシドを３
２．４ｇ、反応溶媒としてジメトルスルホキシド５０ｇ
を添加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。その
後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して分液
除去した。得られた生成物から、８０℃、１０ｍｍＨｇ
の減圧下、水分を除去し、化合物（Ａ）としてプロペニ
ルエーテル基を末端に有する化合物〔以下、「化合物
（８）」という〕６２．４ｇを得た。生成物は ¹Ｈ−Ｎ
ＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲによりアリル基のプロペニル基への
転位率が９９％であることを確認した。

【００８４】合成例９ メチルエチルケトン３２．０ｇを８０℃に昇温後、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート６４．１ｇ（０．５モ
ル）とアゾビスイソブチロニトリル０．６４ｇとの混合
物をメチルエチルケトン３２．０ｇで希釈した溶液を８
０℃で２時間かけて滴下し、３時間熟成させた。得られ
たポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）の数平
均分子量は３５００であった。このポリ（２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート）６３．５ｇをメチルエチルケ
トン５０ｇに添加し、攪拌下８０℃に昇温し、ＫＯＨ３
３．６ｇ（０．６モル）、ｎ−テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド９．６７ｇを添加した後、塩化アリル４
６．０ｇ（０．６モル）を８０℃で１時間かけて徐々に
滴下し、５時間熟成した。その後、水を２００ｇ加えて
過剰のアルカリと生成した塩とを水洗、分液した。５０
℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機層から未反応の塩化
アリルとメチルエチルケトンとを除き、ポリアリルエー
テル化合物９５．２ｇを得た。得られた生成物のアリル
エーテル化率は¹Ｈ−ＮＭＲより７５％であった。ポリ
アリルエーテルをガラス製ナスフラスコに９０．０ｇ仕
込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシドを３２．４
ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド５０ｇを添加
し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。その後、水を
２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗、分液した。得ら
れた生成物から、８０℃、１００ｍｍＨｇの減圧下、水
分を除去し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基
を末端に有する化合物〔以下、「化合物（９）」とい
う〕８０．１ｇを得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−
ＮＭＲによりアリル基のプロペニル基への転位率が９７
％であることを確認した。

【００８５】合成例１０ オートクレーブでポリビニルアルコール２２．５ｇ（重
合度２００、ケン価度８９モル％）を攪拌下８０℃に昇
温し、ＫＯＨ３３．６ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド９．６７ｇ、トルエン４０ｇを添加した
後、塩化アリル４６．０ｇ（０．６モル）を８０℃で１
時間かけて徐々に滴下し、５時間熟成した。その後、水
を２００ｇ加えて過剰のアルカリと生成した塩とを水
洗、分液した。５０℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機
層から未反応の塩化アリルとトルエンとを除き、ポリア
リルエーテル５２．５ｇを得た。得られた生成物のアリ
ルエーテル化率は ¹Ｈ−ＮＭＲより７８％であった。ポ
リアリルエーテル５０．０ｇをガラス製ナスフラスコに
仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシドを３２．
４ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド５０ｇを添
加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。その後、水
を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗、分液した。得
られた生成物から、８０℃、１０ｍｍＨｇの減圧下、水
分を除去し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基
を末端に有する化合物〔以下、「化合物（１０）」とい
う〕３３．６ｇを得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−
ＮＭＲによりアリル基のプロペニル基への転位率が９７
％であることを確認した。

【００８６】実施例６〜１０、比較例４〜６ 表３に示す配合組成（数値は重量部である）に従って各
成分を配合し、混合、溶解して本発明の光硬化性樹脂組
成物を得た。これを銅板及びＰＭＭＡ板にバーコーター
で２０μｍになるように塗布し、紫外線照射装置（８０
Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプ１灯）を使用し、距離１０ｃ
ｍ、照射強度が１６０ｍＷ／ｃｍ² の条件で、タックフ
リーにいたる最小エネルギーを測定した。密着性（銅、
ＰＭＭＡ）、表面硬度は、５００ｍＪ／ｃｍ² の照射エ
ネルギー（他の条件は上記記載方法と同様）で硬化さ
せ、以下のとおり評価を行った。得られた結果を表４に
示す。

【００８７】評価方法 タックフリー最小エネルギー：硬化後の表面のタックが
無くなるまでの照射量（紫外線ｍＪ／ｃｍ² ）で表す。 密着性：ＪＩＳ Ｄ ０２０２の試験法に従って、それ
ぞれ硬化後のテストピースに碁盤目状にクロスカットを
いれ、次いでセロテープ（商品名）によるピーリング試
験後の剥がれの状態を目視により判定した。 評価基準：◎ １００／１００で全く変化が認められないもの ○ １００／１００で線の際が僅かに剥がれたもの △ ５０／１００〜９０／１００ × ０／１００〜５０／１００ 表面硬度：それぞれ硬化後のテストピースを鉛筆硬度で評価した。

【００８８】

【表３】

【００８９】表３に示した化合物は以下のとおりであ
る。 プロペニルエーテル基含有化合物（ｉｉｉ）：ＣＨ₃ −
ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₆ −Ｈ アクリレート基含有化合物（ｉｖ）：ＣＨ₂ ＝ＣＨ−Ｃ
（＝Ｏ）Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂ Ｏ）₁₂−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ
＝ＣＨ₂ エポキシ基含有化合物（ｖ）：ＥＰ−８２８（油化シェ
ル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂） 脂環式エポキシ末端基化合物（ｖｉ）：ＥＲＬ−４２２
１（ＵＣＣ社製、脂環式エポキシ樹脂） ＵＶＲ−６９７４（＊２）：ユニオンカーバイド社製、
ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニ
ルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオ
ロアンチモネート混合物の５０％希釈品、光カチオン重
合開始剤 イルガキュアー１８４（＊４）：チバ・ガイギー社製、
光カチオン重合開始剤

【００９０】

【表４】

【００９１】化合物（Ａ）の合成 合成例１１ ＳＵＳ製オートクレーブにジペンタエリスリトール２４
６．２ｇ（１．０モル）とＫＯＨ２０．０ｇとを仕込
み、滴下ロートからエチレンオキサイド６６０．１ｇ
（１５．０モル）を滴下し、１７０℃で５時間熟成し
た。その後、食塩水を５００ｇ加えて、過剰の水酸化カ
リウムと生成した塩とを分液除去し、ジペンタエリスリ
トールのエチレンオキサイド付加物を７８８．６ｇ得
た。オートクレーブでこのジペンタエリスリトールのエ
チレンオキサイド付加物５００ｇを攪拌下８０℃に昇温
し、ＫＯＨ３３．６ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウム
ブロマイド９．６７ｇ、トルエン２００ｇを添加した
後、塩化アリル３９７．８ｇ（５．２モル）を８０℃で
１時間かけて徐々に滴下し、２時間熟成後、更に１７０
℃まで昇温し３時間熟成（転位反応）した。その後、水
を３００ｇ加えて過剰のアルカリと生成した塩とを水洗
して分液除去した。５０℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で
有機層から未反応の塩化アリルとトルエンとを除去し、
化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に有す
る化合物〔以下、「化合物（１１）」という〕７１０．
３ｇを得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲによ
り確認した。

【００９２】合成例１２ ＳＵＳ製オートクレーブにジペンタエリスリトール２４
６．２ｇ（１．０モル）とＫＯＨ２０．０ｇとを仕込
み、滴下ロートからエチレンオキサイド７９３．０ｇ
（１８．０モル）を滴下し、１７０℃で５時間熟成し
た。その後、食塩水を５００ｇ加えて、過剰の水酸化カ
リウムと生成した塩とを分液除去し、ジペンタエリスリ
トールのエチレンオキサイド付加物を７９８．６ｇ得
た。オートクレーブでこのジペンタエリスリトールのエ
チレンオキサイド付加物５００ｇを攪拌下８０℃に昇温
し、ＫＯＨ３３．６ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウム
ブロマイド９．６７ｇ、トルエン２００ｇを添加した
後、塩化アリル５３５．５ｇ（７．０モル）を８０℃で
１時間かけて徐々に滴下し、２時間熟成後、更に１７０
℃まで昇温し３時間熟成（転位反応）した。その後、水
を３００ｇ加えて過剰のアルカリと生成した塩とを水洗
して分液除去した。５０℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で
有機層から未反応の塩化アリルとトルエンとを除去し、
化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に有す
る化合物〔以下、「化合物（１２）」という〕７２０．
３ｇを得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲによ
り確認した。

【００９３】合成例１３ １．アリルアルコールのエチレンオキサイド付加物の合
成 ＳＵＳ製オートクレーブにアリルアルコール５８．１ｇ
（１．０モル）とＫＯＨ５．８ｇとを仕込み、滴下ロー
トからエチレンオキサイド１３２．２ｇ（３．０モル）
を滴下し１７０℃で５時間熟成した。その後、食塩水を
１００ｇ加えて、過剰の水酸化カリウムと生成した塩と
を分液除去し、アリルアルコールのエチレンオキサイド
付加物を１４７ｇ得た。 ２．プロペニルエーテル基を末端に有する（ポリ）エー
テルオリゴマーの合成 エピクロロヒドリン４６．３ｇ（０．５モル）に、冷却
下、触媒として三弗化ホウ素エーテラート０．０９３ｇ
を滴下した後、４０℃で約２時間反応させた。この反応
物を水酸化ナトリウムで中和後水洗した。このようにし
て黄色透明状のポリエピクロロヒドリン約４６．０ｇを
得た。このポリエピクロロヒドリンはＧＰＣによる数平
均分子量６５０、粘度５．９ポイズ（２５℃）であっ
た。このポリエピクロロヒドリン４６．０ｇを攪拌下８
０℃に昇温し、ＫＯＨ３３．６ｇ、ｎ−テトラブチルア
ンモニウムブロマイド９．６７ｇ、トルエン４０ｇを添
加した後、アリルアルコールのエチレンオキサイド付加
物１１３．４ｇ（０．６モル）を８０℃で１時間かけて
徐々に滴下し、５時間熟成し、更に１７０℃で３時間熟
成（転位反応）した。その後、水を２００ｇ加えて過剰
のアルカリ、生成した塩と過剰のアリルアルコールのエ
チレンオキサイド付加物を水洗して分液除去した。５０
℃、１００ｍｍＨｇの圧力下で有機層からトルエンを除
去し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端
に有する（ポリ）エーテルオリゴマー〔以下、「化合物
（１３）」という〕１２７．５ｇを得た。生成物は ¹Ｈ
−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲにより確認した。

【００９４】合成例１４ １．２−ヒドロキシエチルアクリレートのエチレンオキ
サイド付加物の合成 ＳＵＳ製オートクレーブに２−ヒドロキシエチルアクリ
レート１１６．１ｇ（１．０モル）とＫＯＨ５．８ｇと
を仕込み、滴下ロートからエチレンオキサイド１３２．
２ｇ（３．０モル）を滴下し、１７０℃で５時間熟成し
た。その後、食塩水を１００ｇ加えて、過剰の水酸化カ
リウムと生成した塩とを分液除去し、２−ヒドロキシエ
チルアクリレートのエチレンオキサイド付加物を１９
３．６ｇ得た。 ２．プロペニルエーテル基を末端に有する（ポリ）エー
テルオリゴマーの合成 メチルエチルケトン２９．０ｇを８０℃に昇温後、２−
ヒドロキシエチルアクリレートのエチレンオキサイド付
加物１２４．２ｇとアゾビスイソブチロニトリル０．５
８ｇとの混合物をメチルエチルケトン２９．０ｇで希釈
した溶液を８０℃で２時間かけて滴下し、３時間熟成さ
せた。得られたポリ（２−ヒドロキシエチルアクリレー
トエチレンオキサイド付加物）の数平均分子量は２５０
０であった。オートクレーブでこのポリ（２−ヒドロキ
シエチルアクリレートエチレンオキサイド付加物）の溶
液１００ｇを攪拌下８０℃に昇温し、ＫＯＨ３３．６
ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウムブロマイド９．６７
ｇを添加した後、塩化アリル４６．０ｇ（０．６モル）
を８０℃で１時間かけて徐々に滴下し、５時間熟成し
た。その後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリと生成
した塩とを水洗して分液除去した。５０℃、１００ｍｍ
Ｈｇの圧力下で有機層から未反応の塩化アリルとメチル
エチルケトンを除いた後、生成物をガラス製ナスフラス
コに仕込み、触媒としてカリウム−ｔ−ブトキシドを３
２．４ｇ、反応溶媒としてジメチルスルホキシド５０ｇ
を添加し９０℃で１５分熟成（転位反応）した。その
後、水を２００ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して分液
除去した。水洗された生成物から、８０℃、１０ｍｍＨ
ｇの減圧下で含有するジメチルスルホキシドを除去し、
化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末端に有す
る（ポリ）エーテルオリゴマー〔以下、「化合物（１
４）」という〕３６０．５ｇを得た。生成物は ¹Ｈ−Ｎ
ＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲにより確認した。

【００９５】実施例１１〜１４、比較例７〜９ 表５に示す配合組成（数値は重量部である）に従って各
成分を配合し、混合、溶解して本発明の光硬化性樹脂組
成物を得た。これを銅板にバーコーターで２０μｍにな
るように塗布し、紫外線照射装置（８０Ｗ／ｃｍの高圧
水銀ランプ１灯）を使用し、距離１０ｃｍ、照射強度が
１６０ｍＷ／ｃｍ² の条件で、タックフリーにいたる最
小エネルギーを測定した。銅密着性及び表面硬度は、５
００ｍＪ／ｃｍ² の照射エネルギー（他の条件は上記記
載方法と同様）で硬化させ、以下のとおり評価を行っ
た。得られた結果を表６に示す。

【００９６】評価方法 タックフリー最小エネルギー：硬化後の表面のタックが
無くなるまでの照射量（紫外線ｍＪ／ｃｍ² ）で表す。 密着性：ＪＩＳ Ｄ ０２０２の試験法に従って、それ
ぞれ硬化後のテストピースに碁盤目状にクロスカットを
いれ、次いでセロテープ（商品名）によるピーリング試
験後の剥がれの状態を目視により判定した。 評価基準：◎ １００／１００で全く変化が認められないもの ○ １００／１００で線の際が僅かに剥がれたもの △ ５０／１００〜９０／１００ × ０／１００〜５０／１００ 表面硬度：それぞれ硬化後のテストピースを鉛筆硬度で評価した。

【００９７】

【表５】

【００９８】表５に示した化合物は以下のとおりであ
る。 プロペニルエーテル基含有化合物（ｉｉｉ）：ＣＨ₃ −
ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₆ −Ｈ アクリレート基含有化合物（ｉｖ）：ＣＨ₂ ＝ＣＨ−Ｃ
（＝Ｏ）Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂ Ｏ）₁₂−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ
＝ＣＨ₂ エポキシ基含有化合物（ｖ）：ＥＰ−８２８（油化シェ
ル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂） 脂環式エポキシ末端基化合物（ｖｉ）：ＥＲＬ−４２２
１（ＵＣＣ社製、脂環式エポキシ樹脂） ＵＶＲ−６９７４（＊２）：ユニオンカーバイド社製、
ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニ
ルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオ
ロアンチモネート混合物の５０％希釈品、光カチオン重
合開始剤 イルガキュアー１８４（＊４）：チバ・ガイギー社製、
光カチオン重合開始剤

【００９９】

【表６】

【０１００】化合物（Ａ）の合成 合成例１５ アジピン酸ジメチル１７２．１ｇ（１．０モル）、グリ
セリンモノアリルエーテル１４５．３ｇ（１．１モ
ル）、及び触媒としてテトラブトキシチタネート０．３
ｇを混合した後、２００℃で約２時間エステル化反応さ
せた。この反応物にトリス（トリフェニルフォスフィ
ン）ルテニウム（ＩＩ）クロライド０．３ｇを添加し、
１３０℃で５時間転位反応を行い、化合物（Ａ）として
プロペニルエーテル基を側鎖に有するポリエステルオリ
ゴマー〔以下、「化合物（１５）」という〕２９９．４
ｇを得た。

【０１０１】合成例１６ １．ＯＨ基含有プロペニルエーテルの合成 アリルアルコール５７．１ｇ（１．０モル）とＫＯＨ
０．５ｇとを仕込み、耐圧滴下ロートからエチレンオキ
サイド１３２．１ｇ（３．０モル）を滴下し、１１０℃
で５時間熟成した。更にＫＯＨ０．５ｇを添加し、１６
０℃で５時間熟成（転位反応）した。その後、水を２０
０ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して分液除去し、ＯＨ
基含有プロペニルエーテルを１５１．３ｇ得た。 ２．プロペニルエーテル基を末端に有するポリエステル
オリゴマーの合成 アジピン酸７３０．５ｇ（５．０モル）、トリエチレン
グリコール６００．９ｇ（４．０モル）、触媒としてテ
トラブトキシチタネート０．３ｇを仕込んだ後、２００
℃で約２時間反応させた。更に、ＯＨ含有プロペニルエ
ーテルを５６．９ｇ添加し、２００℃で３時間反応させ
た後、トルエンを５００ｇ追加し、メタノール中で再沈
殿させ、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基を末
端に有するポリエステルオリゴマー〔以下、「化合物
（１６）」という〕９７０．５ｇを得た。

【０１０２】合成例１７ 合成例１６で示したＯＨ基含有プロペニルエーテル７
５．７ｇ、無水ピロメリット酸７６．４ｇ、触媒として
テトラブトキシチタネート０．１ｇを仕込んだ後、約２
００℃で２時間反応させ、水を２００ｇ加えて水洗して
分液除去し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基
を末端に有する化合物〔以下、「化合物（１７）」とい
う〕１１５．２ｇを得た。

【０１０３】合成例１８ ＳＵＳ製オートクレーブに、エチレングリコール４４ｇ
（０．７１モル）とＫＯＨ０．５ｇとを仕込み、耐圧滴
下ロートからエチレンオキサイド２２０ｇ（５．０モ
ル）とアリルグリシジルエーテル５０５ｇ（５．０モ
ル）との混合物を滴下し、１１０℃で５時間反応させ、
更にＫＯＨを０．５ｇ添加し、１６０℃で５時間熟成
（転位反応）した。その後、反応物にトルエンと水とを
加えて過剰のアルカリを水洗して分液除去した。水洗さ
れた生成物からトルエンを減圧留去して、化合物（Ａ）
として分子側鎖の末端にプロペニルエーテル基を有する
水酸基価１４５．５のポリエーテルジオール〔以下、
「化合物（１８）」という〕７６９ｇを得た。生成物は
¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲにより確認した。

【０１０４】合成例１９ ＳＵＳ製オートクレーブに、メチルエチルケトン１００
ｇ、合成例１８で得た「化合物（１８）」３０８．４ｇ
（０．４モル）、イソホロンジイソシアネート６６．６
ｇ（０．３モル）および触媒としてジブチル錫ジラウレ
ート０．１ｇを仕込み、１１０℃で５時間反応させたの
ち、メチルエチルケトンを減圧留去し、分子側鎖の末端
にプロペニルエーテル基を有するポリウレタンオリゴマ
ー〔以下、「化合物（１９）」という〕３７５ｇを得
た。このオリゴマーのＧＰＣによる数平均分子量は４０
００であった。

【０１０５】合成例２０ ＳＵＳ製オートクレーブに、フェノールノボラック樹脂
（核体数８）６７９．６ｇ及びＫＯＨ３．８ｇを仕込
み、１３０℃で融解後、エチレンオキサイド３１６．７
ｇを添加して１３０℃で９時間熟成し、フェノールノボ
ラック樹脂のエチレンオキサイド付加物（フェノール水
酸基１個当り平均１モル付加）を得た。水酸基価の値か
ら算出したエチレンオキサイドの付加反応率は９８％で
あった。得られたフェノールノボラック樹脂のエチレン
オキサイド付加物２００ｇをジメトキシジエチレングリ
コール４００ｇに溶解し、水酸化ナトリウム６４．９ｇ
及び塩化アリル１２４．１ｇを添加し、９０℃で７時間
熟成した後、５０℃で未反応の塩化アリルを減圧留去し
た。アリルエーテル化率は９５％であった。得られたア
リルエーテル化物５０ｇにジメトキシジエチレングリコ
ール５０ｇ及びＫＯＨ１０．３ｇを添加し１５０℃で５
時間熟成（転位反応）した。熟成後、１００℃、５０ｍ
ｍＨｇでジメトキシジエチレングリコールを留去し、ト
ルエン５０ｇ及び水５０ｇを加え、アルカリを水洗して
分液除去し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基
を末端に有するノボラック樹脂〔以下、「化合物（２
０）という〕４９ｇを得た。

【０１０６】実施例１５〜２０、比較例１０〜１２ 表７に示す配合組成（数値は重量部である）に従って各
成分を配合し、混合、溶解して本発明の光硬化性樹脂組
成物を得た。これを銅板にバーコーターで２０μｍにな
るように塗布し、紫外線照射装置（８０Ｗ／ｃｍの高圧
水銀ランプ１灯）を使用し、距離１０ｃｍ、照射強度が
１６０ｍＷ／ｃｍ² の条件で、タックフリーにいたる最
小エネルギーを測定した。銅密着性、表面硬度は、５０
０ｍＪ／ｃｍ² の照射エネルギー（他の条件は上記記載
方法と同様）で硬化させ、以下のとおり評価を行った。
得られた結果を表８に示す。

【０１０７】評価方法 タックフリー最小エネルギー：硬化後の表面のタックが
無くなるまでの照射量（紫外線ｍＪ／ｃｍ² ）で表す。 密着性：ＪＩＳ Ｄ ０２０２の試験法に従って、それ
ぞれ硬化後のテストピースに碁盤目状にクロスカットを
いれ、次いでセロテープ（商品名）によるピーリング試
験後の剥がれの状態を目視により判定した。 評価基準：◎ １００／１００で全く変化が認められないもの ○ １００／１００で線の際が僅かに剥がれたもの △ ５０／１００〜９０／１００ × ０／１００〜５０／１００ 表面硬度：それぞれ硬化後のテストピースを鉛筆硬度で評価した。

【０１０８】

【表７】

【０１０９】表７に示した化合物は以下のとおりであ
る。 プロペニルエーテル基含有化合物（ｖｉｉ）：合成例１
６で示したＯＨ基含有プロペニルエーテル アクリレート基含有化合物（ｉｖ）：ＣＨ₂ ＝ＣＨ−Ｃ
（＝Ｏ）Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂ Ｏ）₁₂−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ
＝ＣＨ₂ エポキシ基含有化合物（ｖ）：ＥＰ−８２８（油化シェ
ル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂） 脂環式エポキシ末端基化合物（ｖｉ）：ＥＲＬ−４２２
１（ＵＣＣ社製、脂環式エポキシ樹脂） ＵＶＲ−６９７４（＊２）：ユニオンカーバイド社製、
ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニ
ルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオ
ロアンチモネート混合物の５０％希釈品、光カチオン重
合開始剤 イルガキュアー１８４（＊４）：チバ・ガイギー社製、
光カチオン重合開始剤

【０１１０】

【表８】

【０１１１】化合物（Ａ）の合成 合成例２１ １．ＯＨ基含有プロペニルエーテルの合成 アリルアルコール５７．１ｇ（１．０モル）とＫＯＨ
０．５ｇとを仕込み、耐圧滴下ロートからエチレンオキ
サイド１３２．１ｇ（３．０モル）を滴下し、１１０℃
で５時間熟成した。更にＫＯＨ０．５ｇを添加し、１６
０℃で５時間熟成（転位反応）した。その後、水を２０
０ｇ加えて過剰のアルカリを水洗して分液除去し、ＯＨ
基含有プロペニルエーテルを１５１．３ｇ得た。 ２．プロペニルエーテル基及びアクリロイル基を有する
化合物の合成 ＯＨ基含有プロペニルエーテル９０．１ｇ、アクリル酸
５０．５ｇ、触媒としてテトラブトキシチタネート０．
１ｇを仕込んだ後、２００℃で約２時間反応させた。そ
の後、水１００ｇ及び水酸化ナトリウム８ｇを加え、水
洗し過剰のアクリル酸を分液除去し、化合物（Ａ）とし
てプロペニルエーテル基及びアクリロイル基を有する化
合物〔以下、「化合物（２１）」という〕１８１．１ｇ
を得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲで確認し
た。

【０１１２】合成例２２ 合成例２１で示したＯＨ基含有プロペニルエーテル９
０．１ｇ、アジピン酸１４６．１４ｇ、触媒としてテト
ラブトキシチタネート０．１ｇを仕込んだ後、２００℃
で約２時間反応させた。その後、水１００ｇ及び水酸化
ナトリウム２０ｇを加え、水洗し過剰のアジピン酸を分
液除去し、プロペニルエーテル基を末端に有するカルボ
ン酸を１８０．５ｇ得た。更にプロペニルエーテル基を
末端に有するカルボン酸を１８０．５ｇ及び２−ヒドロ
キシエチルアクリレート５８．７ｇを仕込んだ後、テト
ラブトキシチタネート０．１ｇを仕込み、２００℃で約
２時間反応させた。その後、水１００ｇを加え、水洗し
過剰の２−ヒドロキシエチルアクリレートを分液除去
し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基及びアク
リロイル基を有する化合物〔以下、「化合物（２２）」
という〕１９１．５ｇを得た。生成物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、
¹³Ｃ−ＮＭＲで確認した。

【０１１３】合成例２３ トルエンジイソシアネート８７．１ｇ（０．５モル）と
トルエン２００ｇとを仕込み、６０℃に昇温後、合成例
２１で示したＯＨ基含有プロペニルエーテル９０．１ｇ
を６０℃で５時間かけて滴下し、更に２時間熟成した。
その後、８０℃に昇温後、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート５８．７ｇ（０．５モル）を３０分かけて滴下
し、更に１時間熟成し、更に１００ｍｍＨｇの圧力でト
ルエンを除去し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテ
ル基及びアクリロイル基を有する化合物〔以下、「化合
物（２３）」という〕１８８．７ｇを得た。生成物は ¹
Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲで確認した。

【０１１４】合成例２４ 攪拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、アリル
アルコールのエチレンオキサイド１０モル付加物のグリ
シジルエーテル５５８．１ｇ（１．０モル）とトリス
（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）クロラ
イド０．３ｇとを仕込み、１３０℃で５時間熟成（転位
反応）し、プロペニルエーテル基を末端に有するポリオ
キシエチレングリシジルエーテルを得た。これにアクリ
ル酸７２．２ｇ（１．０モル）を添加し、１００℃で８
時間熟成し、化合物（Ａ）としてプロペニルエーテル基
とアクリロイル基とを末端に有するオリゴマー〔以下、
「化合物（２４）」という〕６３０．３ｇを得た。生成
物は ¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲで確認した。

【０１１５】実施例２１〜２４、比較例１３〜１５ 表９に示す配合組成（数値は重量部である）に従って各
成分を配合し、混合、溶解して本発明の光硬化性樹脂組
成物を得た。これを銅板にバーコーターで２０μｍにな
るように塗布し、紫外線照射装置（８０Ｗ／ｃｍの高圧
水銀ランプ１灯）を使用し、距離１０ｃｍ、照射強度が
１６０ｍＷ／ｃｍ² の条件で、タックフリーにいたる最
小エネルギーを測定した。銅密着性、表面硬度は、５０
０ｍＪ／ｃｍ² の照射エネルギー（他の条件は上記記載
方法と同様）で硬化させ、以下のとおり評価を行った。
得られた結果を表１０に示す。

【０１１６】評価方法 タックフリー最小エネルギー：硬化後の表面のタックが
無くなるまでの照射量（紫外線ｍＪ／ｃｍ² ）で表す。 密着性：ＪＩＳ Ｄ ０２０２の試験法に従って、それ
ぞれ硬化後のテストピースに碁盤目状にクロスカットを
いれ、次いでセロテープ（商品名）によるピーリング試
験後の剥がれの状態を目視により判定した。 評価基準：◎ １００／１００で全く変化が認められないもの ○ １００／１００で線の際が僅かに剥がれたもの △ ５０／１００〜９０／１００ × ０／１００〜５０／１００ 表面硬度：それぞれ硬化後のテストピースを鉛筆硬度で評価した。

【０１１７】

【表９】

【０１１８】表９に示した化合物は以下のとおりであ
る。 アクリレート基含有化合物（ｉｖ）：ＣＨ₂ ＝ＣＨ−Ｃ
（＝Ｏ）Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂ Ｏ）₁₂−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ
＝ＣＨ₂ エポキシ基含有化合物（ｖ）：ＥＰ−８２８（油化シェ
ル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂） 脂環式エポキシ末端基化合物（ｖｉ）：ＥＲＬ−４２２
１（ＵＣＣ社製、脂環式エポキシ樹脂） ＵＶＲ−６９７４（＊２）：ユニオンカーバイド社製、
ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニ
ルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオ
ロアンチモネート混合物の５０％希釈品、光カチオン重
合開始剤 イルガキュアー１８４（＊４）：チバ・ガイギー社製、
光カチオン重合開始剤

【０１１９】

【表１０】

【０１２０】

【発明の効果】本発明の光硬化性樹脂組成物は、上述し
た構成からなるので、感光性樹脂組成物として使用した
場合、従来のアクリレート樹脂、エポキシ樹脂又はビニ
ルエーテル樹脂を使用した感光性樹脂よりも速硬化性が
あり、かつ、プロペニルエーテルの官能基数とポリマー
主鎖骨格の構造とのバランスの最適化により、非常に優
れた流動特性、樹脂硬化物性を発現することができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ 11/08 11/08 201/06 201/06 Ｃ０９Ｊ 4/00 Ｃ０９Ｊ 4/00 201/06 201/06 Ｇ０３Ｆ 7/029 Ｇ０３Ｆ 7/029 7/038 7/038 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ (31)優先権主張番号 特願平8−129029 (32)優先日 平８(1996)４月24日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平8−131290 (32)優先日 平８(1996)４月26日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (56)参考文献 特開 平９−143392（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−143234（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−143391（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−137079（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−137108（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−125010（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C08F 290/00 - 290/14 C08F 299/00 - 299/08 C08F 2/00 - 2/60 C08L 1/00 - 101/14 C09D 1/00 - 201/10 C09J 1/00 - 201/10 H05K 3/00 - 3/46 G03F 7/00 - 7/42

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 分子内に下記式（１）で示されるプロペ
   ニルエーテル基を有し、かつ、数平均分子量が５００以
   上であるプロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）、及
   び、光カチオン重合開始剤（Ｂ）からなることを特徴と
   する光硬化性樹脂組成物。 ＣＨ₃ −ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ− （１）
2. 【請求項２】 プロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）
   が、式（１）で示されるプロペニルエーテル基を少なく
   とも５個有する化合物である請求項１記載の光硬化性樹
   脂組成物。
3. 【請求項３】 プロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）
   が、式（１）で示されるプロペニルエーテル基を少なく
   とも１０個有し、かつ、数平均分子量が１０００以上の
   化合物である請求項１記載の光硬化性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 プロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）
   が、ポリエーテル、ポリビニル、ポリエステル、ポリウ
   レタン、ポリアミド、ポリカーボネート及びノボラック
   からなる群より選択される少なくとも１種の主鎖を有す
   る化合物である請求項１記載の光硬化性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 プロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）
   が、側鎖の末端に式（１）で示されるプロペニルエーテ
   ル基を少なくとも５個有する化合物である請求項４記載
   の光硬化性樹脂組成物。
6. 【請求項６】 プロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）
   が、下記一般式（２）〜（１０）のいずれかで示される
   構造を有する化合物である請求項１記載の光硬化性樹脂
   組成物。 【化１】 式（２）中、ａは、２〜２００の整数を表す。Ａ¹ は、
   −Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換されていないアル
   キレン基、アリーレン基、アルアルキレン基、ハロアル
   キレン基、又は、グリシジルエーテルを開環重合させた
   ときの残基を表す。Ｘは、２価の有機基を表す。Ｚは、
   下記式（１）で示されるプロペニルエーテル基を表す。 ＣＨ₃ −ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ− （１） 式（３）中、ｂは、２〜２００の整数を表す。Ｑ¹ は、
   水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基、ハロアル
   キル基、ハロアリール基、アルコキシカルボニル基、ア
   セトキシ基、又は、−Ｘ−Ｚ基を表す。式（４）中、ｃ
   は、２〜２００の整数を表す。Ａ² は、−Ｘ−Ｚ基で置
   換された若しくは置換されていないアルキレンジオール
   の残基、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換されてい
   ないアリーレンジオールの残基、又は、−Ｘ−Ｚ基で置
   換された若しくは置換されていないポリエーテルジオー
   ルの残基を表す。Ａ³ は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若し
   くは置換されていないアルキレン基、−Ｘ−Ｚ基で置換
   された若しくは置換されていないアリーレン基、アルア
   ルキレン基、又は、ハロアルキレン基を表す。式（５）
   中、ｄは、２〜２００の整数を表す。Ａ⁴ は、−Ｘ−Ｚ
   基で置換された若しくは置換されていないアルキレン
   基、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換されていない
   アリーレン基、アルアルキレン基、又は、ハロアルキレ
   ン基を表す。式（６）中、ｅは、２〜２００の整数を表
   す。Ａ⁵ は、ジイソシアネートの残基を表す。Ａ⁶ は、
   −Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換されていないアル
   キレンジオールの残基、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しく
   は置換されていないアリーレンジオールの残基、−Ｘ−
   Ｚ基で置換された若しくは置換されていない（ポリ）エ
   ーテルジオールの残基、又は、−Ｘ−Ｚ基で置換された
   若しくは置換されていないポリエステルジオールの残基
   を表す。式（７）中、ｆは、２〜２００の整数を表す。
   Ａ⁷ 、Ａ⁸ は、同一若しくは異なって、−Ｘ−Ｚ基で置
   換された若しくは置換されていないアルキレン基、−Ｘ
   −Ｚ基で置換された若しくは置換されていないアリーレ
   ン基、アルアルキレン基、又は、ハロアルキレン基を表
   す。式（８）中、ｇは、２〜２００の整数を表す。Ａ⁹
   は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換されていない
   アルキレン基、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しくは置換さ
   れていないアリーレン基、アルアルキレン基、又は、ハ
   ロアルキレン基を表す。式（９）中、ｈは、２〜２００
   の整数を表す。Ａ¹⁰は、−Ｘ−Ｚ基で置換された若しく
   は置換されていないアルキレン基、−Ｘ−Ｚ基で置換さ
   れた若しくは置換されていないアリーレン基、アルアル
   キレン基、又は、ハロアルキレン基を表す。式（１０）
   中、ｉは、２〜２００の整数を表す。Ａｒは、アリール
   基を表す。Ｑ² は、水素原子、グリシジル基、又は、−
   Ｘ−Ｚ基を表す。式（１０）中のｉ個のＱ² のうち少な
   くとも２つは、−Ｘ−Ｚ基を表す。
7. 【請求項７】 ２価の有機基Ｘが、エーテル基、カーボ
   ネート基、エステル基、イミノ基、アミド基、ウレタン
   基、ウレア基及びスルフィド基からなる群より選択され
   た少なくとも１種の基を有してもよい炭化水素基である
   請求項６記載の光硬化性樹脂組成物。
8. 【請求項８】 プロペニルエーテル基含有化合物（Ａ）
   が、一般式（２）〜（１０）のいずれかで示される主鎖
   の両末端に下記式（１）で示されるプロペニルエーテル
   基を有する化合物である請求項６記載の光硬化性樹脂組
   成物。 ＣＨ₃ −ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ− （１）
9. 【請求項９】 光カチオン重合開始剤（Ｂ）が、オニウ
   ム塩である請求項１記載の光硬化性樹脂組成物。
10. 【請求項１０】 光カチオン重合開始剤（Ｂ）が、トリ
    アリールスルホニウム塩及びジアリールヨードニウム塩
    のうち少なくとも１種である請求項９記載の光硬化性樹
    脂組成物。
11. 【請求項１１】 プロペニルエーテル基含有化合物
    （Ａ）：光カチオン重合開始剤（Ｂ）の重量比が、９
    ５：５〜９９．９：０．０１である請求項１記載の光硬
    化性樹脂組成物。
12. 【請求項１２】 更に、下記一般式（１１）で表され、
    かつ、分子量が５００未満である化合物からなる反応性
    希釈剤（Ｃ）を、プロペニルエーテル基含有化合物
    （Ａ）と光カチオン重合開始剤（Ｂ）との合計量に対し
    て、５〜６０重量％含有する請求項１記載の光硬化性樹
    脂組成物。 ＣＨ₃ −ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｒ¹ −Ｏ−Ｒ² （１１） 式（１１）中、Ｒ¹ は、ＨＯ−Ｒ¹ −ＯＨで表されるア
    ルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテル
    ジオール又はポリエステルジオールから水酸基を除いた
    残基を表す。Ｒ² は、アルキル基、アリール基、アルア
    ルキル基、シクロアルキル基又は水素原子を表す。
13. 【請求項１３】 更に、ラジカル重合性のビニル系化合
    物（Ｄ）及び光ラジカル重合開始剤（Ｅ）を含有してな
    る請求項１記載の光硬化性樹脂組成物。
14. 【請求項１４】 請求項１記載の光硬化性樹脂組成物を
    硬化してなることを特徴とする硬化物。
15. 【請求項１５】 請求項１記載の光硬化性樹脂組成物を
    含有してなることを特徴とするプリント配線基板用レジ
    スト、印刷インキ、塗料、紙用コーティング剤、金属用
    コーティング剤、光ファイバー用コーティング剤、ハー
    ドコート剤又は接着剤。