JP2002187912A - プロペニルエーテル基含有重合体 - Google Patents
プロペニルエーテル基含有重合体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属及びガラス等への密着性に優れ、レジス
ト材料として使用する場合に、優れたパターン形成能力
を有する光硬化性重合体を提供する。 【解決手段】 側鎖を有する線状重合体であって、上記
側鎖として、化学式（１）で示されるプロペニルエーテ
ル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）、及
び、Ｆｅｄｏｒｓ法によって計算される溶解度パラメー
ター（ＳＰ値）が９．５〜３０である極性基（Ｋ）を少
なくとも１個含有する基（Ｑ２）、をそれぞれ少なくと
も１個ずつ有する重合体を提供する。 【化１】
ト材料として使用する場合に、優れたパターン形成能力
を有する光硬化性重合体を提供する。 【解決手段】 側鎖を有する線状重合体であって、上記
側鎖として、化学式（１）で示されるプロペニルエーテ
ル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）、及
び、Ｆｅｄｏｒｓ法によって計算される溶解度パラメー
ター（ＳＰ値）が９．５〜３０である極性基（Ｋ）を少
なくとも１個含有する基（Ｑ２）、をそれぞれ少なくと
も１個ずつ有する重合体を提供する。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プロペニルエーテ
ル基含有重合体に関する。
ル基含有重合体に関する。
【０００２】
【従来の技術】プロペニルエーテル化合物がビニルエー
テル化合物よりも高速で光硬化することは、すでに知ら
れている｛クリベロ（Ｃｒｉｖｅｌｌｏ）、ジャーナル
・オブ・ポリマー・サイエンス：パートＡ：ポリマーケ
ミストリー（ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ
ｅｎｃｅ：ＰａｒｔＡ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ）、第３１巻、１４７３〜１４８２頁（１９９３
年）及び同１４８３〜１４９２頁｝。また、ビスフェノ
ールＡとプロペニルグリシジルエーテルとを反応させて
なる多官能のプロペニルエーテル基をもつ樹脂｛米国特
許５，３４４，７７２号｝やプロペニルエーテル基を含
有するポリウレタンオリゴマーとポリエステルオリゴマ
ー｛特開平７−１４９８７０号公報、特開平７−２５８
１５９号公報｝が知られている。
テル化合物よりも高速で光硬化することは、すでに知ら
れている｛クリベロ（Ｃｒｉｖｅｌｌｏ）、ジャーナル
・オブ・ポリマー・サイエンス：パートＡ：ポリマーケ
ミストリー（ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ
ｅｎｃｅ：ＰａｒｔＡ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ）、第３１巻、１４７３〜１４８２頁（１９９３
年）及び同１４８３〜１４９２頁｝。また、ビスフェノ
ールＡとプロペニルグリシジルエーテルとを反応させて
なる多官能のプロペニルエーテル基をもつ樹脂｛米国特
許５，３４４，７７２号｝やプロペニルエーテル基を含
有するポリウレタンオリゴマーとポリエステルオリゴマ
ー｛特開平７−１４９８７０号公報、特開平７−２５８
１５９号公報｝が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のプロペニルエーテル基を有する樹脂は、硬化後の硬度
や、金属やガラス等との接着性が不充分であり、工業的
使用に耐えうるものではなかった。また、これらの樹脂
をレジスト材料として使用する場合に、樹脂の現像液へ
の溶解性が低く露光していない部分も現像液に溶解せず
残るため、パターン形成能力が低いという問題があっ
た。すなわち、本発明の目的は、金属及びガラス等への
密着性に優れ、レジスト材料として使用する場合に、優
れたパターン形成能力を有する光硬化性重合体を提供す
ることにある。
のプロペニルエーテル基を有する樹脂は、硬化後の硬度
や、金属やガラス等との接着性が不充分であり、工業的
使用に耐えうるものではなかった。また、これらの樹脂
をレジスト材料として使用する場合に、樹脂の現像液へ
の溶解性が低く露光していない部分も現像液に溶解せず
残るため、パターン形成能力が低いという問題があっ
た。すなわち、本発明の目的は、金属及びガラス等への
密着性に優れ、レジスト材料として使用する場合に、優
れたパターン形成能力を有する光硬化性重合体を提供す
ることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を行った結果、特定のプロペニルエーテル基含有重合体
を用いることにより上記の目的を達成できることを見い
だした。すなわち、本発明は、側鎖を有する線状重合体
であって、前記側鎖として、化学式（１）で示されるプ
ロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基
（Ｑ１）、及びＦｅｄｏｒｓ法によって計算される溶解
度パラメーター（ＳＰ値）が９．５〜３０である極性基
（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ２）、をそれぞ
れ少なくとも１個ずつ有する重合体である。
を行った結果、特定のプロペニルエーテル基含有重合体
を用いることにより上記の目的を達成できることを見い
だした。すなわち、本発明は、側鎖を有する線状重合体
であって、前記側鎖として、化学式（１）で示されるプ
ロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基
（Ｑ１）、及びＦｅｄｏｒｓ法によって計算される溶解
度パラメーター（ＳＰ値）が９．５〜３０である極性基
（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ２）、をそれぞ
れ少なくとも１個ずつ有する重合体である。
【化１２】
【０００５】本発明の重合体は、側鎖としてＱ１とＱ２
をそれぞれ少なくとも１個ずつ有する。まず、Ｑ１につ
いて説明する。Ｑ１の個数は、１つの重合体に対して、
通常少なくとも１個であり、好ましくは１〜１，０００
個、さらに好ましくは２〜５００個、特に好ましくは３
〜４００個、さらに特に好ましくは４〜３００個、最も
好ましくは５〜２００個である。Ｑ１に含有されるプロ
ペニルエーテル基（Ｐ）の数は、少なくとも１個であ
り、好ましくは１〜１０個、さらに好ましくは１〜５個
である。Ｑ１としては、プロペニルエーテル基（Ｐ）を
少なくとも１個含有するものであれば使用でき、例え
ば、一般式（１２−１）〜（１２−３）で表される基が
使用できる。
をそれぞれ少なくとも１個ずつ有する。まず、Ｑ１につ
いて説明する。Ｑ１の個数は、１つの重合体に対して、
通常少なくとも１個であり、好ましくは１〜１，０００
個、さらに好ましくは２〜５００個、特に好ましくは３
〜４００個、さらに特に好ましくは４〜３００個、最も
好ましくは５〜２００個である。Ｑ１に含有されるプロ
ペニルエーテル基（Ｐ）の数は、少なくとも１個であ
り、好ましくは１〜１０個、さらに好ましくは１〜５個
である。Ｑ１としては、プロペニルエーテル基（Ｐ）を
少なくとも１個含有するものであれば使用でき、例え
ば、一般式（１２−１）〜（１２−３）で表される基が
使用できる。
【０００６】
【化１３】
【０００７】一般式（１２−１）〜（１２−２）におい
て、Ｒ６及びＲ７は２価の有機基を表し、Ｒ８は３価の
有機基を表し、Ｒ９は水素原子又は１価の有機基を表
す。また、Ｚは、化学式（１）で表されるプロペニルエ
ーテル基を表す。また、ｘ及びｙは、０又は１である。
また、ｚは、少なくとも１の整数であり、好ましくは１
〜１０の整数、さらに好ましくは１〜５の整数である。
て、Ｒ６及びＲ７は２価の有機基を表し、Ｒ８は３価の
有機基を表し、Ｒ９は水素原子又は１価の有機基を表
す。また、Ｚは、化学式（１）で表されるプロペニルエ
ーテル基を表す。また、ｘ及びｙは、０又は１である。
また、ｚは、少なくとも１の整数であり、好ましくは１
〜１０の整数、さらに好ましくは１〜５の整数である。
【０００８】Ｒ６及びＲ７の２価の有機基としては、エ
ーテル基、カーボネート基、エステル基、イミノ基、ア
ミド基、ウレタン基、ウレア基及びスルフィド基からな
る群より選択される少なくとも１種の基を有してもよい
２価炭化水素基等が使用できる。エーテル基、カーボネ
ート基、エステル基、イミノ基、アミド基、ウレタン
基、ウレア基及びスルフィド基を持たない２価炭化水素
基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状又は分枝
状の２価炭化水素基が挙げられ、具体的には、メチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基及び炭素数
５〜２０のポリメチレン基等が挙げられる。
ーテル基、カーボネート基、エステル基、イミノ基、ア
ミド基、ウレタン基、ウレア基及びスルフィド基からな
る群より選択される少なくとも１種の基を有してもよい
２価炭化水素基等が使用できる。エーテル基、カーボネ
ート基、エステル基、イミノ基、アミド基、ウレタン
基、ウレア基及びスルフィド基を持たない２価炭化水素
基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状又は分枝
状の２価炭化水素基が挙げられ、具体的には、メチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基及び炭素数
５〜２０のポリメチレン基等が挙げられる。
【０００９】エーテル基を有する２価炭化水素基として
は、例えば、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、
ブチレンオキシ基、エチレンオキシエチレン基、エチレ
ンオキシブチレン基、ポリ（オキシエチレン）基、ポリ
（オキシプロピレン）基、ポリ（オキシエチレン）・
（オキシプロピレン）基及びポリ（オキシブチレン）基
等の重量平均分子量４４〜３，０００のポリ（オキシア
ルキレン）基等が挙げられる。重量平均分子量は、ゲル
パーミエションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定
されるものであり、以下、Ｍｗと略記する。
は、例えば、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、
ブチレンオキシ基、エチレンオキシエチレン基、エチレ
ンオキシブチレン基、ポリ（オキシエチレン）基、ポリ
（オキシプロピレン）基、ポリ（オキシエチレン）・
（オキシプロピレン）基及びポリ（オキシブチレン）基
等の重量平均分子量４４〜３，０００のポリ（オキシア
ルキレン）基等が挙げられる。重量平均分子量は、ゲル
パーミエションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定
されるものであり、以下、Ｍｗと略記する。
【００１０】カーボネート基を有する２価炭化水素基と
しては、例えば、Ｍｗ８４〜３，０００のポリ（エチレ
ンオキシカルボニルオキシ）基、ポリ（プロピレンオキ
シカルボニルオキシ）基及びポリ（ブチレンオキシカル
ボニルオキシ）基等が挙げられる。エステル基を有する
２価炭化水素基としては、例えば、Ｍｗ６８〜３，００
０のポリ（エチレンカルボニルオキシ）基、ポリ（プロ
ピレンカルボニルオキシ）基、ポリ（ブチレンカルボニ
ルオキシ）基、ポリ（カルボニルヘキサメチレンカルボ
ニルオキシブチレンオキシ）基及びポリ（カルボニルヘ
キサメチレンカルボニルオキシエチレンオキシ）基等が
挙げられる。
しては、例えば、Ｍｗ８４〜３，０００のポリ（エチレ
ンオキシカルボニルオキシ）基、ポリ（プロピレンオキ
シカルボニルオキシ）基及びポリ（ブチレンオキシカル
ボニルオキシ）基等が挙げられる。エステル基を有する
２価炭化水素基としては、例えば、Ｍｗ６８〜３，００
０のポリ（エチレンカルボニルオキシ）基、ポリ（プロ
ピレンカルボニルオキシ）基、ポリ（ブチレンカルボニ
ルオキシ）基、ポリ（カルボニルヘキサメチレンカルボ
ニルオキシブチレンオキシ）基及びポリ（カルボニルヘ
キサメチレンカルボニルオキシエチレンオキシ）基等が
挙げられる。
【００１１】イミノ基を有する２価炭化水素基として
は、Ｍｗ４３〜３，０００のポリ（イミノエチレン）
基、ポリ（イミノメチレン）基、ポリ（イミノプロピレ
ン）基及びポリ（イミノブチレン）基等が挙げられる。
アミド基を有する２価炭化水素基としては、例えば、Ｍ
ｗ７１〜３，０００のポリ（イミノカルボニルエチレ
ン）基、ポリ（イミノカルボニルプロピレン）基、ポリ
（イミノカルボニルブチレン）基、ポリ（カルボニルヘ
キサメチレンカルボニルイミノブチレンイミノ）基及び
ポリ（カルボニルヘキサメチレンカルボニルイミノエチ
レンイミノ）基等が挙げられる。
は、Ｍｗ４３〜３，０００のポリ（イミノエチレン）
基、ポリ（イミノメチレン）基、ポリ（イミノプロピレ
ン）基及びポリ（イミノブチレン）基等が挙げられる。
アミド基を有する２価炭化水素基としては、例えば、Ｍ
ｗ７１〜３，０００のポリ（イミノカルボニルエチレ
ン）基、ポリ（イミノカルボニルプロピレン）基、ポリ
（イミノカルボニルブチレン）基、ポリ（カルボニルヘ
キサメチレンカルボニルイミノブチレンイミノ）基及び
ポリ（カルボニルヘキサメチレンカルボニルイミノエチ
レンイミノ）基等が挙げられる。
【００１２】ウレタン基を有する２価炭化水素基として
は、例えば、Ｍｗ１７２〜３，０００のポリ（カルボニ
ルイミノヘキサメチレンイミノカルボニルオキシブチレ
ンオキシ）基及びポリ（カルボニルイミノヘキサメチレ
ンイミノカルボニルオキシエチレンオキシ）基等が挙げ
られる。ウレア基を有する２価炭化水素基としては、例
えば、Ｍｗ１７０〜３，０００のポリ（カルボニルイミ
ノヘキサメチレンイミノカルボニルイミノヘキサメチレ
ンイミノ）基及びポリ（カルボニルイミノテトラメチレ
ンイミノカルボニルイミノテトラメチレンイミノ）基等
が挙げられる。
は、例えば、Ｍｗ１７２〜３，０００のポリ（カルボニ
ルイミノヘキサメチレンイミノカルボニルオキシブチレ
ンオキシ）基及びポリ（カルボニルイミノヘキサメチレ
ンイミノカルボニルオキシエチレンオキシ）基等が挙げ
られる。ウレア基を有する２価炭化水素基としては、例
えば、Ｍｗ１７０〜３，０００のポリ（カルボニルイミ
ノヘキサメチレンイミノカルボニルイミノヘキサメチレ
ンイミノ）基及びポリ（カルボニルイミノテトラメチレ
ンイミノカルボニルイミノテトラメチレンイミノ）基等
が挙げられる。
【００１３】スルフィド基を有する２価炭化水素基とし
ては、例えば、メチレンチオメチレン基、メチレンチオ
エチレン基、エチレンチオエチレンチオエチレン基、チ
オエチレン基、チオプロピレン基及びエチレンチオ基等
が挙げられる。これら２価の有基基のうち、好ましいも
のはエーテル基を有する２価炭化水素基、エステル基を
有する２価炭化水素基、ウレタン基を有する２価炭化水
素基、アミド基を有する２価炭化水素基及びウレア基を
有する２価炭化水素基である。さらに好ましいものは、
エーテル基を有する２価炭化水素基、エステル基を有す
る２価炭化水素基及びアミド基を有する２価炭化水素基
である。
ては、例えば、メチレンチオメチレン基、メチレンチオ
エチレン基、エチレンチオエチレンチオエチレン基、チ
オエチレン基、チオプロピレン基及びエチレンチオ基等
が挙げられる。これら２価の有基基のうち、好ましいも
のはエーテル基を有する２価炭化水素基、エステル基を
有する２価炭化水素基、ウレタン基を有する２価炭化水
素基、アミド基を有する２価炭化水素基及びウレア基を
有する２価炭化水素基である。さらに好ましいものは、
エーテル基を有する２価炭化水素基、エステル基を有す
る２価炭化水素基及びアミド基を有する２価炭化水素基
である。
【００１４】Ｒ８の３価の有機基としては、炭素数１〜
１２の３価炭化水素基等が用いられ、例えば、化学式
（１３−１）〜（１３−４）で表される基等が挙げられ
る。
１２の３価炭化水素基等が用いられ、例えば、化学式
（１３−１）〜（１３−４）で表される基等が挙げられ
る。
【００１５】
【化１４】
【００１６】これらのうち好ましいものは、（１３−
１）、（１３−２）及び（１３−４）で表される基であ
る。
１）、（１３−２）及び（１３−４）で表される基であ
る。
【００１７】Ｒ９の１価の有機基としては、炭素数１〜
２０の炭化水素基等が用いられる。炭素数１〜２０の炭
化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、２−
エチルヘキシル基、オクタデセニル基及びエイコシル基
等が挙げられる。Ｑ１として一般式（１２−１）〜（１
２−３）で表される基のうち、好ましいものとして例え
ば、化学式（１４−１）〜（１４−９）で表される基等
が挙げられる。ただし、化学式（１４−１）〜（１４−
９）において、Ｚは、化学式（１）で表されるプロペニ
ルエーテル基を表す。
２０の炭化水素基等が用いられる。炭素数１〜２０の炭
化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、２−
エチルヘキシル基、オクタデセニル基及びエイコシル基
等が挙げられる。Ｑ１として一般式（１２−１）〜（１
２−３）で表される基のうち、好ましいものとして例え
ば、化学式（１４−１）〜（１４−９）で表される基等
が挙げられる。ただし、化学式（１４−１）〜（１４−
９）において、Ｚは、化学式（１）で表されるプロペニ
ルエーテル基を表す。
【００１８】
【化１５】
【００１９】さらに好ましいものとしては、（１４−
１）、（１４−２）、（１４−３）、（１４−７）、
（１４−８）及び（１４−９）で表される基である。
１）、（１４−２）、（１４−３）、（１４−７）、
（１４−８）及び（１４−９）で表される基である。
【００２０】次に、Ｑ２について説明する。Ｑ２の個数
は、１つの重合体に対して、通常少なくとも１個であ
り、好ましくは１〜１，０００個、さらに好ましくは２
〜５００個、特に好ましくは３〜４００個、さらに特に
好ましくは４〜３００個、最も好ましくは５〜２００個
である。Ｑ２に含有される極性基（Ｋ）の数は、少なく
とも１個であり、好ましくは１〜１０個、さらに好まし
くは１〜５個である。Ｑ２としては、例えば、一般式
（１５−１）〜（１５−３）で表される基が使用でき
る。
は、１つの重合体に対して、通常少なくとも１個であ
り、好ましくは１〜１，０００個、さらに好ましくは２
〜５００個、特に好ましくは３〜４００個、さらに特に
好ましくは４〜３００個、最も好ましくは５〜２００個
である。Ｑ２に含有される極性基（Ｋ）の数は、少なく
とも１個であり、好ましくは１〜１０個、さらに好まし
くは１〜５個である。Ｑ２としては、例えば、一般式
（１５−１）〜（１５−３）で表される基が使用でき
る。
【００２１】
【化１６】
【００２２】一般式（１５−１）〜（１５−２）におい
て、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、ｘ、ｙ及びｚは、一般式
（１２−１）〜（１２−３）で説明したものと同じであ
り、好ましい範囲も同じである。また、Ｋは、Ｆｅｄｏ
ｒｓ法によって計算される溶解度パラメーター（ＳＰ
値）が９．５〜３０である極性基を表す。このような極
性基を持つ重合体では、密着性及びパターン形成性が飛
躍的に向上する。溶解度パラメーター（以下、ＳＰ値と
いう。）は、次式で表せる。 ＳＰ値（δ）＝（ΔＨ／Ｖ）１／２ ただし、式中、ΔＨはモル蒸発熱（ｃａｌ）を、Ｖはモ
ル体積（ｃｍ３）を表す。また、ΔＨ及びＶは、「ＰＯ
ＬＹＭＥＲ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ ＡＮＤ ＦＥＢ
ＲＵＡＲＹ，１９７４，Ｖｏｌ．１４，Ｎｏ．２，ＲＯ
ＢＥＲＴ Ｆ．ＦＥＤＯＲＳ．（１５１〜１５３頁）」
に記載の原子団のモル蒸発熱（△ｅｉ）の合計（ΔＨ）
とモル体積（△ｖｉ）の合計（Ｖ）を用いることができ
る。極性基（Ｋ）のＳＰ値（ＳＰＫ）は、好ましくは１
０〜２５、さらに好ましくは１１〜２３、特に好ましく
は１２〜２０である。そして、（ＳＰＫ）は、極性基
（Ｋ）のＳＰ値（ＳＰＫ）と側鎖（Ｑ１）及び側鎖（Ｑ
２）以外の部分（Ａ）のＳＰ値（ＳＰＡ）との差ΔＳＰ
（＝ＳＰＫ−ＳＰ Ａ）が１〜２０となるような値が好ま
しく、さらに好ましくは２〜１８、特に好ましくは５〜
１５、最も好ましくは６〜１０となるような値である。
て、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、ｘ、ｙ及びｚは、一般式
（１２−１）〜（１２−３）で説明したものと同じであ
り、好ましい範囲も同じである。また、Ｋは、Ｆｅｄｏ
ｒｓ法によって計算される溶解度パラメーター（ＳＰ
値）が９．５〜３０である極性基を表す。このような極
性基を持つ重合体では、密着性及びパターン形成性が飛
躍的に向上する。溶解度パラメーター（以下、ＳＰ値と
いう。）は、次式で表せる。 ＳＰ値（δ）＝（ΔＨ／Ｖ）１／２ ただし、式中、ΔＨはモル蒸発熱（ｃａｌ）を、Ｖはモ
ル体積（ｃｍ３）を表す。また、ΔＨ及びＶは、「ＰＯ
ＬＹＭＥＲ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ ＡＮＤ ＦＥＢ
ＲＵＡＲＹ，１９７４，Ｖｏｌ．１４，Ｎｏ．２，ＲＯ
ＢＥＲＴ Ｆ．ＦＥＤＯＲＳ．（１５１〜１５３頁）」
に記載の原子団のモル蒸発熱（△ｅｉ）の合計（ΔＨ）
とモル体積（△ｖｉ）の合計（Ｖ）を用いることができ
る。極性基（Ｋ）のＳＰ値（ＳＰＫ）は、好ましくは１
０〜２５、さらに好ましくは１１〜２３、特に好ましく
は１２〜２０である。そして、（ＳＰＫ）は、極性基
（Ｋ）のＳＰ値（ＳＰＫ）と側鎖（Ｑ１）及び側鎖（Ｑ
２）以外の部分（Ａ）のＳＰ値（ＳＰＡ）との差ΔＳＰ
（＝ＳＰＫ−ＳＰ Ａ）が１〜２０となるような値が好ま
しく、さらに好ましくは２〜１８、特に好ましくは５〜
１５、最も好ましくは６〜１０となるような値である。
【００２３】極性基（Ｋ）としては、例えば、カルボキ
シル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、アミ
ノ基（−ＮＨ２）、ホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ）、Ｍｗ８
８〜１，４００のポリ（オキシエチレン）カルボキシル
基（−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＣＯＯＨ）、Ｍｗ１２４〜
１，４００のポリ（オキシエチレン）スルホ基（−（Ｏ
ＣＨ２ＣＨ２）ｎＳＯ３Ｈ）、Ｍｗ６０〜１，４００の
ポリ（オキシエチレン）アミノ基（−（ＯＣＨ２Ｃ
Ｈ２）ｎＮＨ２）、Ｍｗ１００〜１，４００のポリ（オ
キシエチレン）ホスホノ基（−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＰ
Ｏ３Ｈ）、アミド基（−ＣＯＮＲ１０ ２）、ニトロ基
（−ＮＯ２）、ニトリル基（−ＣＮ）、塩素原子（−Ｃ
ｌ）、臭素原子（−Ｂｒ）及びヨウ素原子（−Ｉ）等が
使用できる。なお、かっこ内中、ｎは、１〜３０の整数
が好ましく、さらに好ましくは１〜２０の整数、特に好
ましくは１〜１０の整数である。Ｒ１０は、水素原子又
は炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、さらに好まし
くは水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基、特に好ま
しくは水素原子である。これらのうち好ましいものは、
カルボキシル基、アミド基、スルホ基、ホスホノ基及び
アミノ基である。さらに好ましいものは、カルボキシル
基、アミド基及びホスホノ基である。
シル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、アミ
ノ基（−ＮＨ２）、ホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ）、Ｍｗ８
８〜１，４００のポリ（オキシエチレン）カルボキシル
基（−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＣＯＯＨ）、Ｍｗ１２４〜
１，４００のポリ（オキシエチレン）スルホ基（−（Ｏ
ＣＨ２ＣＨ２）ｎＳＯ３Ｈ）、Ｍｗ６０〜１，４００の
ポリ（オキシエチレン）アミノ基（−（ＯＣＨ２Ｃ
Ｈ２）ｎＮＨ２）、Ｍｗ１００〜１，４００のポリ（オ
キシエチレン）ホスホノ基（−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＰ
Ｏ３Ｈ）、アミド基（−ＣＯＮＲ１０ ２）、ニトロ基
（−ＮＯ２）、ニトリル基（−ＣＮ）、塩素原子（−Ｃ
ｌ）、臭素原子（−Ｂｒ）及びヨウ素原子（−Ｉ）等が
使用できる。なお、かっこ内中、ｎは、１〜３０の整数
が好ましく、さらに好ましくは１〜２０の整数、特に好
ましくは１〜１０の整数である。Ｒ１０は、水素原子又
は炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、さらに好まし
くは水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基、特に好ま
しくは水素原子である。これらのうち好ましいものは、
カルボキシル基、アミド基、スルホ基、ホスホノ基及び
アミノ基である。さらに好ましいものは、カルボキシル
基、アミド基及びホスホノ基である。
【００２４】また、極性基（Ｋ）は、塩の形にしてから
使用することができるが、極性基（Ｋ）のまま使用する
ことが好ましい。塩の形としては、アミノ基及びポリ
（オキシエチレン）アミノ基の場合、有機酸又は無機酸
との塩が使用できる。有機酸としては、炭素数１〜８の
カルボン酸が用いられ、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、２−エチルヘサキサン酸、乳酸、りんご酸及びグ
ルコン酸等が挙げられる。無機酸としては、例えば、フ
ッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、
亜硝酸、燐酸及び硫酸等が挙げられる。
使用することができるが、極性基（Ｋ）のまま使用する
ことが好ましい。塩の形としては、アミノ基及びポリ
（オキシエチレン）アミノ基の場合、有機酸又は無機酸
との塩が使用できる。有機酸としては、炭素数１〜８の
カルボン酸が用いられ、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、２−エチルヘサキサン酸、乳酸、りんご酸及びグ
ルコン酸等が挙げられる。無機酸としては、例えば、フ
ッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、
亜硝酸、燐酸及び硫酸等が挙げられる。
【００２５】カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、
ポリ（オキシエチレン）カルボキシル基、ポリ（オキシ
エチレン）スルホ基、ポリ（オキシエチレン）ホスホノ
基の場合、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩
又はアミンとの塩等が使用できる。
ポリ（オキシエチレン）カルボキシル基、ポリ（オキシ
エチレン）スルホ基、ポリ（オキシエチレン）ホスホノ
基の場合、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩
又はアミンとの塩等が使用できる。
【００２６】アルカリ金属水酸化物としては、例えば、
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム
等が挙げられる。アルカリ金属炭酸塩としては、例え
ば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリ
ウム等が挙げられる。アミンとしては、例えば、アルカ
ノールアミン、第１級アミン、第２級アミン、第３級ア
ミン等が用いられる。
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム
等が挙げられる。アルカリ金属炭酸塩としては、例え
ば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリ
ウム等が挙げられる。アミンとしては、例えば、アルカ
ノールアミン、第１級アミン、第２級アミン、第３級ア
ミン等が用いられる。
【００２７】アルカノールアミンとしては、ヒドロキシ
アルキル基（炭素数２〜４）を有するモノ、ジ、トリ若
しくはテトラ−アルカノールアミンが使用でき、例え
ば、ジエタノールアミン、プロパノールアミン及びブタ
ノールアミン等が挙げられる。第１級アミンとしては、
アルキル基（炭素数１〜１２）を有する１級アミンが使
用でき、例えば、メチルアミン、イソプロピルアミン、
ブチルアミン、オクチルアミン及びドデシルアミン等が
挙げられる。第２級アミンとしては、アルキル基（炭素
数１〜１２）を有する２級アミンが使用でき、例えば、
ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、メ
チルオクチルアミン及びエチルドデシルアミン等が挙げ
られる。第３級アミンとしては、アルキル基（炭素数１
〜１２）を有する３級アミンが使用でき、例えば、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン及びジメチルドデシル
アミン等が挙げられる。本発明の重合体は、極性基
（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ２）を１種類の
み有するものでもあってもよいし、複数種類有するもの
であってもよい。
アルキル基（炭素数２〜４）を有するモノ、ジ、トリ若
しくはテトラ−アルカノールアミンが使用でき、例え
ば、ジエタノールアミン、プロパノールアミン及びブタ
ノールアミン等が挙げられる。第１級アミンとしては、
アルキル基（炭素数１〜１２）を有する１級アミンが使
用でき、例えば、メチルアミン、イソプロピルアミン、
ブチルアミン、オクチルアミン及びドデシルアミン等が
挙げられる。第２級アミンとしては、アルキル基（炭素
数１〜１２）を有する２級アミンが使用でき、例えば、
ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、メ
チルオクチルアミン及びエチルドデシルアミン等が挙げ
られる。第３級アミンとしては、アルキル基（炭素数１
〜１２）を有する３級アミンが使用でき、例えば、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン及びジメチルドデシル
アミン等が挙げられる。本発明の重合体は、極性基
（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ２）を１種類の
み有するものでもあってもよいし、複数種類有するもの
であってもよい。
【００２８】本発明の重合体において、側鎖（Ｑ１）及
び（Ｑ２）以外の部分（Ａ）、すなわち、線状部分の骨
格は、鎖状高分子骨格からなり、例えば、ポリエーテル
骨格、ポリビニル骨格、ポリエステル骨格、ポリウレタ
ン骨格、ポリアミド骨格、ポリカーボネート骨格及び／
又はポリアリーレン骨格等からなるものである。なお、
本発明の重合体の側鎖として、Ｑ１及びＱ２以外に疎水
性基（β）を有していてもよい。また、側鎖（Ｑ１）及
び（Ｑ２）以外の部分（Ａ）のＳＰ値（ＳＰＡ）として
は、７〜１２が好ましい。本発明の重合体としては、一
般式（２）〜（１０）で示される構造を有しているもの
が好ましい。
び（Ｑ２）以外の部分（Ａ）、すなわち、線状部分の骨
格は、鎖状高分子骨格からなり、例えば、ポリエーテル
骨格、ポリビニル骨格、ポリエステル骨格、ポリウレタ
ン骨格、ポリアミド骨格、ポリカーボネート骨格及び／
又はポリアリーレン骨格等からなるものである。なお、
本発明の重合体の側鎖として、Ｑ１及びＱ２以外に疎水
性基（β）を有していてもよい。また、側鎖（Ｑ１）及
び（Ｑ２）以外の部分（Ａ）のＳＰ値（ＳＰＡ）として
は、７〜１２が好ましい。本発明の重合体としては、一
般式（２）〜（１０）で示される構造を有しているもの
が好ましい。
【００２９】
【化１７】
【００３０】一般式（２）において、ａ１及びａ２はそ
れぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜５
００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特に
好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２０
０の整数である。また、ａ３は、０又は１〜２００の整
数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さらに
好ましくは、０又は１〜５０の整数である。また、Ａ１
は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有
する基（Ｑ１）を有するアルキレン基、Ｑ１を有するア
リーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基、Ｑ１を有
するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリシジルエーテ
ル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジルエーテルの
開環（共）重合体残基を表す。
れぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜５
００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特に
好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２０
０の整数である。また、ａ３は、０又は１〜２００の整
数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さらに
好ましくは、０又は１〜５０の整数である。また、Ａ１
は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有
する基（Ｑ１）を有するアルキレン基、Ｑ１を有するア
リーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基、Ｑ１を有
するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリシジルエーテ
ル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジルエーテルの
開環（共）重合体残基を表す。
【００３１】Ｑ１を有するアルキレン基としては、炭素
数４〜２３のプロペニルオキシアルキレン基等が使用で
き、例えば、プロペニルオキシメチレン基、プロペニル
オキシエチレン基、プロペニルオキシプロピレン基、プ
ロペニルオキシ−１−ブチレン基、プロペニルオキシ−
２−ブチレン基、プロペニルオキシ−１−メチルトリメ
チレン基、プロペニルオキシ−２−メチルトリメチレン
基、プロペニルオキシテトラメチレン基、プロペニルオ
キシメチルテトラメチレン基、プロペニルオキシペンタ
メチレン基、プロペニルオキシペンチレン基、プロペニ
ルオキシイソアミレン基、プロペニルオキシヘキシレン
基、プロペニルオキシシクロヘキセン基、プロペニルオ
キシネオヘキセン基、プロペニルオキシヘプチレン基、
プロペニルオキシオクチレン基、プロペニルオキシノニ
レン基、プロペニルオキシデシレン基、ジプロペニルオ
キシデシレン基、プロペニルオキシウンデシレン基、プ
ロペニルオキシドデシレン基及びプロペニルオキシエイ
コシレン基等が挙げられる。
数４〜２３のプロペニルオキシアルキレン基等が使用で
き、例えば、プロペニルオキシメチレン基、プロペニル
オキシエチレン基、プロペニルオキシプロピレン基、プ
ロペニルオキシ−１−ブチレン基、プロペニルオキシ−
２−ブチレン基、プロペニルオキシ−１−メチルトリメ
チレン基、プロペニルオキシ−２−メチルトリメチレン
基、プロペニルオキシテトラメチレン基、プロペニルオ
キシメチルテトラメチレン基、プロペニルオキシペンタ
メチレン基、プロペニルオキシペンチレン基、プロペニ
ルオキシイソアミレン基、プロペニルオキシヘキシレン
基、プロペニルオキシシクロヘキセン基、プロペニルオ
キシネオヘキセン基、プロペニルオキシヘプチレン基、
プロペニルオキシオクチレン基、プロペニルオキシノニ
レン基、プロペニルオキシデシレン基、ジプロペニルオ
キシデシレン基、プロペニルオキシウンデシレン基、プ
ロペニルオキシドデシレン基及びプロペニルオキシエイ
コシレン基等が挙げられる。
【００３２】Ｑ１を有するアリーレン基としては、炭素
数９〜２０のプロペニルオキシアリーレン基等が使用で
き、例えば、プロペニルオキシフェニレン基、ジプロペ
ニルオキシフェニレン基、プロペニルオキシナフチレン
基、ジプロペニルオキシナフチレン基、プロペニルオキ
シアントリレン基、ジプロペニルオキシアントリレン基
及びプロペニルオキシフェナントリレン基等が挙げられ
る。Ｑ１を有するアルアルキレン基としては、炭素数１
０〜１６のプロペニルオキシアラルキレン基等が使用で
き、例えば、プロペニルオキシベンジレン基、プロペニ
ルオキシ−１−フェニチレン基、プロペニルオキシ−２
−フェニチレン基、プロペニルオキシ−１−フェニルプ
ロピレン基、プロペニルオキシ−２−フェニルプロピレ
ン基、プロペニルオキシ−３−フェニルプロピレン基及
びジプロペニルオキシ−３−フェニルプロピレン基等が
挙げられる。
数９〜２０のプロペニルオキシアリーレン基等が使用で
き、例えば、プロペニルオキシフェニレン基、ジプロペ
ニルオキシフェニレン基、プロペニルオキシナフチレン
基、ジプロペニルオキシナフチレン基、プロペニルオキ
シアントリレン基、ジプロペニルオキシアントリレン基
及びプロペニルオキシフェナントリレン基等が挙げられ
る。Ｑ１を有するアルアルキレン基としては、炭素数１
０〜１６のプロペニルオキシアラルキレン基等が使用で
き、例えば、プロペニルオキシベンジレン基、プロペニ
ルオキシ−１−フェニチレン基、プロペニルオキシ−２
−フェニチレン基、プロペニルオキシ−１−フェニルプ
ロピレン基、プロペニルオキシ−２−フェニルプロピレ
ン基、プロペニルオキシ−３−フェニルプロピレン基及
びジプロペニルオキシ−３−フェニルプロピレン基等が
挙げられる。
【００３３】Ｑ１を有するハロアルキレン基としては、
炭素数５〜１０のプロペニルオキシハロアルキレン基等
が使用でき、例えば、プロペニルオキシクロロエチレン
基、プロペニルオキシジクロロエチレン基、プロペニル
オキシブロモエチレン基、ジプロペニルオキシブロモエ
チレン基及びプロペニルオキシクロロメチルエチレン基
等が挙げられる。Ｑ１を有するグリシジルエーテル開環
反応残基としては、炭素数６〜３５０のプロペニル基含
有グリシジルエーテルの開環反応残基等が使用できる。
開環反応残基とは、プロペニル基含有グリシジルエーテ
ルの開環反応後の構造を意味し、例えばプロペニルグリ
シジルエーテルの場合の開環反応残基は、オキシ（１−
メチレンオキシプロペニル）エチレン基及びオキシ（２
−メチレンオキシプロペニル）エチレン基を両方含む。
炭素数５〜１０のプロペニルオキシハロアルキレン基等
が使用でき、例えば、プロペニルオキシクロロエチレン
基、プロペニルオキシジクロロエチレン基、プロペニル
オキシブロモエチレン基、ジプロペニルオキシブロモエ
チレン基及びプロペニルオキシクロロメチルエチレン基
等が挙げられる。Ｑ１を有するグリシジルエーテル開環
反応残基としては、炭素数６〜３５０のプロペニル基含
有グリシジルエーテルの開環反応残基等が使用できる。
開環反応残基とは、プロペニル基含有グリシジルエーテ
ルの開環反応後の構造を意味し、例えばプロペニルグリ
シジルエーテルの場合の開環反応残基は、オキシ（１−
メチレンオキシプロペニル）エチレン基及びオキシ（２
−メチレンオキシプロペニル）エチレン基を両方含む。
【００３４】プロペニル基含有グリシジルエーテルとし
ては、例えば、プロペニルグリシジルエーテル、プロペ
ニルオキシメチルグリシジルエーテル、プロペニルオキ
シエチルグリシジルエーテル、プロペニルオキシブチル
グリシジルエーテル、プロペニルオキシフェニルグリシ
ジルエーテル、プロペニルオキシエチルヘキシルグリシ
ジルエーテル、プロペニルオキシクレジルグリシジルエ
ーテル、プロペニルオキシ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグ
リシジルエーテル、プロペニル（ポリ）オキシエチレン
（Ｍｗ４４〜４，４００）グリシジルエーテル及びプロ
ペニル（ポリ）オキシプロピレン（Ｍｗ５８〜５，８０
０）グリシジルエーテル等が挙げられる。
ては、例えば、プロペニルグリシジルエーテル、プロペ
ニルオキシメチルグリシジルエーテル、プロペニルオキ
シエチルグリシジルエーテル、プロペニルオキシブチル
グリシジルエーテル、プロペニルオキシフェニルグリシ
ジルエーテル、プロペニルオキシエチルヘキシルグリシ
ジルエーテル、プロペニルオキシクレジルグリシジルエ
ーテル、プロペニルオキシ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグ
リシジルエーテル、プロペニル（ポリ）オキシエチレン
（Ｍｗ４４〜４，４００）グリシジルエーテル及びプロ
ペニル（ポリ）オキシプロピレン（Ｍｗ５８〜５，８０
０）グリシジルエーテル等が挙げられる。
【００３５】Ｑ１を有するグリシジルエーテルの開環
（共）重合体は、プロペニル基含有グリシジルエーテル
と他のエポキシ化合物との共重合体又は他のグリシジル
エーテルとの共重合体であってもよい。Ｑ１を有するグ
リシジルエーテルの開環（共）重合体のＭｗは、５００
〜１００，０００であり、好ましくは、１，０００〜５
０，０００である。他のエポキシ化合物としては、炭素
数２〜１８のアルキレンオキシド等が使用でき、例え
ば、エチレンオキサイド、プロピレンオキシド、ブチレ
ンオキシド、スチレンオキシド、ヘキシレンオキシド、
デシレンオキシド及びオクタデシレンオキシド等が挙げ
られる。
（共）重合体は、プロペニル基含有グリシジルエーテル
と他のエポキシ化合物との共重合体又は他のグリシジル
エーテルとの共重合体であってもよい。Ｑ１を有するグ
リシジルエーテルの開環（共）重合体のＭｗは、５００
〜１００，０００であり、好ましくは、１，０００〜５
０，０００である。他のエポキシ化合物としては、炭素
数２〜１８のアルキレンオキシド等が使用でき、例え
ば、エチレンオキサイド、プロピレンオキシド、ブチレ
ンオキシド、スチレンオキシド、ヘキシレンオキシド、
デシレンオキシド及びオクタデシレンオキシド等が挙げ
られる。
【００３６】他のグリシジルエーテルとしては、炭素数
４〜３５０のアルキルグリシジルエーテル等が使用で
き、例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシ
ジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグ
リシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエー
テル、クレジルグリシジルエーテル、ｓｅｃ−ブチルフ
ェニルグリシジルエーテル、メチル（ポリ）オキシエチ
レン（Ｍｗ４４〜４，４００）グリシジルエーテル、メ
チル（ポリ）オキシプロピレン（Ｍｗ５８〜５，８０
０）グリシジルエーテル、ブチル（ポリ）オキシエチレ
ン（Ｍｗ４４〜４，４００）グリシジルエーテル、ブチ
ル（ポリ）オキシプロピレン（Ｍｗ５８〜５，８００）
グリシジルエーテル、（ポリ）エチレングリコール（Ｍ
ｗ４４〜４，４４０）ジグリシジルエーテル、（ポリ）
プロピレングリコール（Ｍｗ５８〜５，８００）ジグリ
シジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジ
ルメタクリレート、ジグリシジルエーテル、ブタンジオ
ールジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ト
リメチロールプロパントリグリシジルエーテル及びグリ
セリントリグリシジルエーテル等が挙げられる。
４〜３５０のアルキルグリシジルエーテル等が使用で
き、例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシ
ジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグ
リシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエー
テル、クレジルグリシジルエーテル、ｓｅｃ−ブチルフ
ェニルグリシジルエーテル、メチル（ポリ）オキシエチ
レン（Ｍｗ４４〜４，４００）グリシジルエーテル、メ
チル（ポリ）オキシプロピレン（Ｍｗ５８〜５，８０
０）グリシジルエーテル、ブチル（ポリ）オキシエチレ
ン（Ｍｗ４４〜４，４００）グリシジルエーテル、ブチ
ル（ポリ）オキシプロピレン（Ｍｗ５８〜５，８００）
グリシジルエーテル、（ポリ）エチレングリコール（Ｍ
ｗ４４〜４，４４０）ジグリシジルエーテル、（ポリ）
プロピレングリコール（Ｍｗ５８〜５，８００）ジグリ
シジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジ
ルメタクリレート、ジグリシジルエーテル、ブタンジオ
ールジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ト
リメチロールプロパントリグリシジルエーテル及びグリ
セリントリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００３７】これらＡ１として好ましいものは、Ｑ１を
有するグリシジルエーテルの開環（共）重合体残基、Ｑ
１を有するグリシジルエーテル開環反応残基及びＱ１を
有するアルキレン基である。一般式（２）において、Ａ
２は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基
（Ｑ ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレ
ン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基、Ｑ２を有するハ
ロアルキレン基、Ｑ２を有するグリシジルエーテル開環
反応残基又はＱ２を有するグリシジルエーテルの開環
（共）重合体残基を表す。
有するグリシジルエーテルの開環（共）重合体残基、Ｑ
１を有するグリシジルエーテル開環反応残基及びＱ１を
有するアルキレン基である。一般式（２）において、Ａ
２は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基
（Ｑ ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレ
ン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基、Ｑ２を有するハ
ロアルキレン基、Ｑ２を有するグリシジルエーテル開環
反応残基又はＱ２を有するグリシジルエーテルの開環
（共）重合体残基を表す。
【００３８】Ａ２としては、Ｑ１を有するアルキレン
基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルアル
キレン基、Ｑ１を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有す
るグリシジルエーテル開環反応残基又はＱ１を有するグ
リシジルエーテルの開環（共）重合体残基のＱ１を上記
の極性基（Ｋ）に置き換えたもの等が使用できる。こら
らのうち好ましいものは、カルボキシル基を含有するア
ルキレン基、カルボキシル基を含有するアリーレン基、
カルボキシル基を含有するグリシジルエーテルの開環反
応残基、カルボキシル基を含有するグリシジルエーテル
の開環（共）重合体残基である。
基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルアル
キレン基、Ｑ１を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有す
るグリシジルエーテル開環反応残基又はＱ１を有するグ
リシジルエーテルの開環（共）重合体残基のＱ１を上記
の極性基（Ｋ）に置き換えたもの等が使用できる。こら
らのうち好ましいものは、カルボキシル基を含有するア
ルキレン基、カルボキシル基を含有するアリーレン基、
カルボキシル基を含有するグリシジルエーテルの開環反
応残基、カルボキシル基を含有するグリシジルエーテル
の開環（共）重合体残基である。
【００３９】一般式（２）において、Ａ３は、アルキレ
ン基、アリーレン基、アルアルキレン基、ハロアルキレ
ン基、オキシアルキレン基、グリシジルエーテル開環反
応残基又はグリシジルエーテルの開環（共）重合体残基
を表す。Ａ３としては、Ｑ１を有するアルキレン基、Ｑ
１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン
基、Ｑ１を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリ
シジルエーテル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジ
ルエーテルの開環（共）重合体残基のＱ１を水素原子又
はメチル基に置き換えたもの及び以下のオキシアルキレ
ン基が使用できる。オキシアルキレン基としては、炭素
数２〜１８のオキシアルキレン基等が用いられ、例え
ば、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブ
チレン基、オキシフェニルエチレン基及びオキシオクタ
デシレン基等が挙げられる。
ン基、アリーレン基、アルアルキレン基、ハロアルキレ
ン基、オキシアルキレン基、グリシジルエーテル開環反
応残基又はグリシジルエーテルの開環（共）重合体残基
を表す。Ａ３としては、Ｑ１を有するアルキレン基、Ｑ
１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン
基、Ｑ１を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリ
シジルエーテル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジ
ルエーテルの開環（共）重合体残基のＱ１を水素原子又
はメチル基に置き換えたもの及び以下のオキシアルキレ
ン基が使用できる。オキシアルキレン基としては、炭素
数２〜１８のオキシアルキレン基等が用いられ、例え
ば、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブ
チレン基、オキシフェニルエチレン基及びオキシオクタ
デシレン基等が挙げられる。
【００４０】なお、（Ａ１−Ｏ）、（Ａ２−Ｏ）及び
（Ａ３−Ｏ）の並び方は、（Ａ１−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）
−（Ａ３−Ｏ）に限らず、（Ａ２−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）
−（Ａ３−Ｏ）、（Ａ１−Ｏ）−（Ａ３−Ｏ）−（Ａ２
−Ｏ）、（Ａ２−Ｏ）−（Ａ３−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）、
（Ａ３−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）又は（Ａ３
−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）のブロック状でも
よく、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せ
でもよい。
（Ａ３−Ｏ）の並び方は、（Ａ１−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）
−（Ａ３−Ｏ）に限らず、（Ａ２−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）
−（Ａ３−Ｏ）、（Ａ１−Ｏ）−（Ａ３−Ｏ）−（Ａ２
−Ｏ）、（Ａ２−Ｏ）−（Ａ３−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）、
（Ａ３−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）又は（Ａ３
−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）のブロック状でも
よく、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せ
でもよい。
【００４１】
【化１８】
【００４２】一般式（３）において、ｂ１及びｂ２は、
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｂ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原子又はメチル基を
表す。
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｂ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原子又はメチル基を
表す。
【００４３】また、Ｑ１は、プロペニルエーテル基
（Ｐ）を少なくとも１個含有する基を表し、一般式（１
２−１）〜（１２−３）として例示した基等が使用で
き、好ましい範囲も同じである。また、Ｑ２は、極性基
（Ｋ）を少なくとも１個含有する基を表し、一般式（１
５−１）〜（１５−３）として例示した基が使用でき、
好ましい範囲も同じである。また、βは、疎水性基を表
し、例えば、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル
基、アリール基、ハロアルキル基、ハロアリール基若し
くはアルコキシカルボニル基等が挙げられる。
（Ｐ）を少なくとも１個含有する基を表し、一般式（１
２−１）〜（１２−３）として例示した基等が使用で
き、好ましい範囲も同じである。また、Ｑ２は、極性基
（Ｋ）を少なくとも１個含有する基を表し、一般式（１
５−１）〜（１５−３）として例示した基が使用でき、
好ましい範囲も同じである。また、βは、疎水性基を表
し、例えば、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル
基、アリール基、ハロアルキル基、ハロアリール基若し
くはアルコキシカルボニル基等が挙げられる。
【００４４】アルキル基としては、例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、２
−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデ
シル基、オクタデセニル基及びエイコシル基等が挙げら
れる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリ
ル基、エチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェ
ニル基、ノニルフェニル基及びジノニルフェニル基等が
挙げられる。ハロアルキル基としては、例えば、クロロ
メチル基、ブロモメチル基、クロロエチル基、ブロモプ
ロピル基、クロロブチル基、ブロモオクチル基及びブロ
モオクタデシル基等が挙げられる。
エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、２
−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデ
シル基、オクタデセニル基及びエイコシル基等が挙げら
れる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリ
ル基、エチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェ
ニル基、ノニルフェニル基及びジノニルフェニル基等が
挙げられる。ハロアルキル基としては、例えば、クロロ
メチル基、ブロモメチル基、クロロエチル基、ブロモプ
ロピル基、クロロブチル基、ブロモオクチル基及びブロ
モオクタデシル基等が挙げられる。
【００４５】ハロアリール基としては、例えば、クロロ
メチルフェニル基、ブロモメチルフェニル基、クロロエ
チルフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基及
び２，４，６−トリブロモフェニル基等が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基及びオクトキシカルボニル基等が挙げられる。これ
らのうち、好ましいものはアルキル基、アリール基及び
アルコキシカルボニル基であり、さらに好ましいものは
フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、メチル基、エチル基及びプロピル基である。
メチルフェニル基、ブロモメチルフェニル基、クロロエ
チルフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基及
び２，４，６−トリブロモフェニル基等が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基及びオクトキシカルボニル基等が挙げられる。これ
らのうち、好ましいものはアルキル基、アリール基及び
アルコキシカルボニル基であり、さらに好ましいものは
フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、メチル基、エチル基及びプロピル基である。
【００４６】なお、（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）、（ＣＨ２
−ＣＲ２Ｑ２）及び（ＣＨ２−ＣＲ３β）の並び方は、
（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ２Ｑ２）−
（ＣＨ２−ＣＲ３β）に限らず、（ＣＨ２−ＣＲ
２Ｑ２）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ３
β）、（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ３β）
−（ＣＨ ２−ＣＲ２Ｑ２）、（ＣＨ２−ＣＲ２Ｑ２）−
（ＣＨ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）、（Ｃ
Ｈ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２
−ＣＲ２Ｑ２）又は（ＣＨ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−
ＣＲ２Ｑ２）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）のブロック状で
もよく、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合
せでもよい。
−ＣＲ２Ｑ２）及び（ＣＨ２−ＣＲ３β）の並び方は、
（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ２Ｑ２）−
（ＣＨ２−ＣＲ３β）に限らず、（ＣＨ２−ＣＲ
２Ｑ２）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ３
β）、（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ３β）
−（ＣＨ ２−ＣＲ２Ｑ２）、（ＣＨ２−ＣＲ２Ｑ２）−
（ＣＨ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）、（Ｃ
Ｈ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２
−ＣＲ２Ｑ２）又は（ＣＨ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−
ＣＲ２Ｑ２）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）のブロック状で
もよく、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合
せでもよい。
【００４７】
【化１９】
【００４８】一般式（４）において、ｃ１及びｃ２は、
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｃ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ４
は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有
する基（Ｑ１）を有するアルキレン基、Ｑ１を有するア
リーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基、Ｑ１を有
するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリシジルエーテ
ル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジルエーテルの
開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）のＡ１と同
じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｃ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ４
は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有
する基（Ｑ１）を有するアルキレン基、Ｑ１を有するア
リーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基、Ｑ１を有
するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリシジルエーテ
ル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジルエーテルの
開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）のＡ１と同
じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【００４９】また、Ａ６は、極性基（Ｋ）を少なくとも
１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を
有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基、
Ｑ２を有するハロアルキレン基、Ｑ２を有するグリシジ
ルエーテル開環反応残基又はＱ ２を有するグリシジルエ
ーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）の
Ａ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。また、Ａ８は、アルキレン基、アリーレン基、アル
アルキレン基、ハロアルキレン基、オキシアルキレン
基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリシジルエ
ーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）の
Ａ３と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を
有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基、
Ｑ２を有するハロアルキレン基、Ｑ２を有するグリシジ
ルエーテル開環反応残基又はＱ ２を有するグリシジルエ
ーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）の
Ａ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。また、Ａ８は、アルキレン基、アリーレン基、アル
アルキレン基、ハロアルキレン基、オキシアルキレン
基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリシジルエ
ーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）の
Ａ３と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
【００５０】また、Ａ５、Ａ７及びＡ９は、それぞれア
ルキレン基、アリーレン基、アルアルキレン基、ハロア
ルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じもの等が
挙げられ、好ましい範囲も同じである。なお、（ＯＡ４
Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）、（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）及び
（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）の並び方は、（ＯＡ４Ｏ−
ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ
８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）に限らず、（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７
ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ８Ｏ−Ｃ
ＯＡ９ＣＯ）−、（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ
８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）、
（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９Ｃ
Ｏ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）、（ＯＡ８Ｏ−ＣＯ
Ａ９ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ
−ＣＯＡ７ＣＯ）又は（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）−
（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５Ｃ
Ｏ）のブッロク状でもよく、ランダム状又はランダム状
とブロック状の組合せでもよい。
ルキレン基、アリーレン基、アルアルキレン基、ハロア
ルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じもの等が
挙げられ、好ましい範囲も同じである。なお、（ＯＡ４
Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）、（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）及び
（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）の並び方は、（ＯＡ４Ｏ−
ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ
８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）に限らず、（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７
ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ８Ｏ−Ｃ
ＯＡ９ＣＯ）−、（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ
８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）、
（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９Ｃ
Ｏ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）、（ＯＡ８Ｏ−ＣＯ
Ａ９ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ
−ＣＯＡ７ＣＯ）又は（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）−
（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５Ｃ
Ｏ）のブッロク状でもよく、ランダム状又はランダム状
とブロック状の組合せでもよい。
【００５１】
【化２０】
【００５２】一般式（５）において、ｄ１及びｄ２は、
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｄ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
１０は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基又はＱ
１を有するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ
１と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｄ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
１０は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基又はＱ
１を有するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ
１と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
【００５３】また、Ａ１１は、極性基（Ｋ）を少なくと
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアリーレン基、Ｑ２
を有するアルアルキレン基又はＱ２を有するハロアルキ
レン基を表し、一般式（２）のＡ２と同じもの等が挙げ
られ、好ましい範囲も同じである。また、Ａ１２は、ア
リーレン基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基又は
オキシアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じ
もの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアリーレン基、Ｑ２
を有するアルアルキレン基又はＱ２を有するハロアルキ
レン基を表し、一般式（２）のＡ２と同じもの等が挙げ
られ、好ましい範囲も同じである。また、Ａ１２は、ア
リーレン基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基又は
オキシアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じ
もの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【００５４】なお、（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）、（ＣＯ−Ａ
１１Ｏ）及び（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）の並び方は、（ＣＯ−
Ａ１０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）
に限らず、（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）−
（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）、（ＣＯ−Ａ １０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ
１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）、（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−
（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）、（ＣＯ−Ａ
１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）又
は（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−
Ａ１０Ｏ）のブロック状でもよく、ランダム状又はラン
ダム状とブロック状の組合せでもよい。
１１Ｏ）及び（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）の並び方は、（ＣＯ−
Ａ１０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）
に限らず、（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）−
（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）、（ＣＯ−Ａ １０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ
１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）、（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−
（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）、（ＣＯ−Ａ
１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）又
は（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−
Ａ１０Ｏ）のブロック状でもよく、ランダム状又はラン
ダム状とブロック状の組合せでもよい。
【００５５】
【化２１】
【００５６】一般式（６）において、ｅ１及びｅ２は、
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｅ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
１４は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基、Ｑ１
を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリシジルエ
ーテル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジルエーテ
ルの開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）のＡ１
と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｅ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
１４は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基、Ｑ１
を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有するグリシジルエ
ーテル開環反応残基又はＱ１を有するグリシジルエーテ
ルの開環（共）重合体残基を表し、一般式（２）のＡ１
と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【００５７】また、Ａ１６は、極性基（Ｋ）を少なくと
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２
を有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン
基、Ｑ２を有するハロアルキレン基、Ｑ２を有するグリ
シジルエーテル開環反応残基又はＱ２を有するグリシジ
ルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式
（２）のＡ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２
を有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン
基、Ｑ２を有するハロアルキレン基、Ｑ２を有するグリ
シジルエーテル開環反応残基又はＱ２を有するグリシジ
ルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式
（２）のＡ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。
【００５８】また、Ａ１３、Ａ１５及びＡ１７は、アル
キレン基、アリーレン基、アルアルキレン基、ハロアル
キレン基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリシ
ジルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式
（２）のＡ３と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。また、Ａ１８は、アルキレン基、アリーレ
ン基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基、オキシア
ルキレン基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリ
シジルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式
（２）のＡ３と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。
キレン基、アリーレン基、アルアルキレン基、ハロアル
キレン基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリシ
ジルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式
（２）のＡ３と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。また、Ａ１８は、アルキレン基、アリーレ
ン基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基、オキシア
ルキレン基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリ
シジルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、一般式
（２）のＡ３と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。
【００５９】なお、（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ
１４Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）
及び（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）の並び
方は、（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−
（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）に限らず、（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ
１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨ
ＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−Ｏ
Ａ１４Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ
１８Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１ ５ＮＨＣＯ−ＯＡ
１６Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）
−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）−（ＣＯ
ＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１ ４Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ
１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨ
ＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−Ｏ
Ａ１６Ｏ）又は（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８
Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−
（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）のブロック
状でもよく、ランダム状又はランダム状とブロック状の
組合せでもよい。
１４Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）
及び（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）の並び
方は、（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−
（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）に限らず、（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ
１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨ
ＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−Ｏ
Ａ１４Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ
１８Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１ ５ＮＨＣＯ−ＯＡ
１６Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）
−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）−（ＣＯ
ＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１ ４Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ
１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨ
ＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−Ｏ
Ａ１６Ｏ）又は（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８
Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−
（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）のブロック
状でもよく、ランダム状又はランダム状とブロック状の
組合せでもよい。
【００６０】
【化２２】
【００６１】一般式（７）において、ｆ１及びｆ２は、
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｆ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
１９及びＡ２０は、同一若しくは異なって、プロペニル
エーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）
を有するアルキレン基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ
１を有するアルアルキレン基又はＱ１を有するハロアル
キレン基を表し、一般式（２）のＡ１と同じもの等が挙
げられ、好ましい範囲も同じである。
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｆ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
１９及びＡ２０は、同一若しくは異なって、プロペニル
エーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）
を有するアルキレン基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ
１を有するアルアルキレン基又はＱ１を有するハロアル
キレン基を表し、一般式（２）のＡ１と同じもの等が挙
げられ、好ましい範囲も同じである。
【００６２】また、Ａ２１及びＡ２２は、同一若しくは
異なって、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基
（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレ
ン基、Ｑ ２を有するアルアルキレン基、又は、Ｑ２を有
するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ２と同
じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。ま
た、Ａ２３及びＡ２４は、同一若しくは異なって、アル
キレン基、アリーレン基、アルアルキレン基、又は、ハ
ロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じもの
等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
異なって、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基
（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレ
ン基、Ｑ ２を有するアルアルキレン基、又は、Ｑ２を有
するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ２と同
じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。ま
た、Ａ２３及びＡ２４は、同一若しくは異なって、アル
キレン基、アリーレン基、アルアルキレン基、又は、ハ
ロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じもの
等が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【００６３】なお、（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０Ｃ
Ｏ）、（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）及び（ＮＨ
Ａ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）の並び方は、（ＮＨＡ
１９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）−（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯ
Ａ２２ＣＯ）−（ＮＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）に
限らず、（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）−（ＮＨ
Ａ１ ９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）−（ＮＨＡ２３ＮＨ−Ｃ
ＯＡ２４ＣＯ）、（ＮＨＡ１ ９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）
−（ＮＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ２ １
ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）、（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ
２２ＣＯ）−（ＮＨＡ２ ３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−
（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）、（ＮＨＡ２ ３Ｎ
Ｈ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０
ＣＯ）−（ＮＨＡ２ １ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）又は（Ｎ
ＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ ２１ＮＨ−
ＣＯＡ２２ＣＯ）−（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０Ｃ
Ｏ）のブロック状でもよく、ランダム状又はランダム状
とブロック状の組合せでもよい。
Ｏ）、（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）及び（ＮＨ
Ａ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）の並び方は、（ＮＨＡ
１９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）−（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯ
Ａ２２ＣＯ）−（ＮＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）に
限らず、（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）−（ＮＨ
Ａ１ ９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）−（ＮＨＡ２３ＮＨ−Ｃ
ＯＡ２４ＣＯ）、（ＮＨＡ１ ９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）
−（ＮＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ２ １
ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）、（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ
２２ＣＯ）−（ＮＨＡ２ ３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−
（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）、（ＮＨＡ２ ３Ｎ
Ｈ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０
ＣＯ）−（ＮＨＡ２ １ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）又は（Ｎ
ＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ ２１ＮＨ−
ＣＯＡ２２ＣＯ）−（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０Ｃ
Ｏ）のブロック状でもよく、ランダム状又はランダム状
とブロック状の組合せでもよい。
【００６４】
【化２３】
【００６５】一般式（８）において、ｇ１及びｇ２は、
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｇ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
２５は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基又はＱ
１を有するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ
１と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｇ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
２５は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基又はＱ
１を有するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ
１と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
【００６６】また、Ａ２６は、極性基（Ｋ）を少なくと
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２
を有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基
又はＱ ２を有するハロアルキレン基を表し、一般式
（２）のＡ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。また、Ａ２７は、アルキレン基、アリーレ
ン基、アルアルキレン基又はハロアルキレン基を表し、
一般式（２）のＡ３と同じもの等が挙げられ、好ましい
範囲も同じである。
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２
を有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基
又はＱ ２を有するハロアルキレン基を表し、一般式
（２）のＡ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。また、Ａ２７は、アルキレン基、アリーレ
ン基、アルアルキレン基又はハロアルキレン基を表し、
一般式（２）のＡ３と同じもの等が挙げられ、好ましい
範囲も同じである。
【００６７】なお、（ＣＯＮＨ−Ａ２５）、（ＣＯＮＨ
−Ａ２６）及び（ＣＯＮＨ−Ａ２７）の並び方は、（Ｃ
ＯＮＨ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮＨ
−Ａ２ ７）に限らず、（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ ２７）、（ＣＯＮＨ−Ａ
２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２６）、（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）、（ＣＯＮＨ−
Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２６）又は（ＣＯＮＨ−Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ
２６）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）のブロック状でもよく、
ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せでもよ
い。
−Ａ２６）及び（ＣＯＮＨ−Ａ２７）の並び方は、（Ｃ
ＯＮＨ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮＨ
−Ａ２ ７）に限らず、（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ ２７）、（ＣＯＮＨ−Ａ
２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２６）、（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）、（ＣＯＮＨ−
Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２６）又は（ＣＯＮＨ−Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ
２６）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）のブロック状でもよく、
ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せでもよ
い。
【００６８】
【化２４】
【００６９】一般式（９）において、ｈ１及びｈ２は、
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｈ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
２８は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基又はＱ
１を有するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ
１と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは２〜
５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整数、特
に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは５〜２
００の整数である。また、ｈ３は、０又は１〜２００の
整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整数、さら
に好ましくは０又は１〜５０の整数である。また、Ａ
２８は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ １）を有するアルキレン基、Ｑ１を有す
るアリーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基又はＱ
１を有するハロアルキレン基を表し、一般式（２）のＡ
１と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も同じであ
る。
【００７０】また、Ａ２９は、極性基（Ｋ）を少なくと
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２
を有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基
又はＱ ２を有するハロアルキレン基を表し、一般式
（２）のＡ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。また、Ａ３０は、アルキレン基、アリーレ
ン基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基又はオキシ
アルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じもの等
が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
も１個含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２
を有するアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基
又はＱ ２を有するハロアルキレン基を表し、一般式
（２）のＡ２と同じもの等が挙げられ、好ましい範囲も
同じである。また、Ａ３０は、アルキレン基、アリーレ
ン基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基又はオキシ
アルキレン基を表し、一般式（２）のＡ３と同じもの等
が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【００７１】なお、（ＯＣＯＯＡ２８）、（ＯＣＯＯＡ
２９）及び（ＯＣＯＯＡ３０）の並び方は、（ＯＣＯＯ
Ａ２８）−（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣＯＯＡ３０）に
限らず、（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣＯＯＡ２８）−
（ＯＣＯＯＡ３０）、（ＯＣＯＯＡ２８）−（ＯＣＯＯ
Ａ３０）−（ＯＣＯＯＡ２９）、（ＯＣＯＯＡ２９）−
（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯＯＡ２８）、（ＯＣＯＯ
Ａ３０）−（ＯＣＯＯＡ２ ８）−（ＯＣＯＯＡ２９）又
は（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣＯ
ＯＡ２８）のブロック状でもよく、ランダム状又はラン
ダム状とブロック状の組合せでもよい。
２９）及び（ＯＣＯＯＡ３０）の並び方は、（ＯＣＯＯ
Ａ２８）−（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣＯＯＡ３０）に
限らず、（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣＯＯＡ２８）−
（ＯＣＯＯＡ３０）、（ＯＣＯＯＡ２８）−（ＯＣＯＯ
Ａ３０）−（ＯＣＯＯＡ２９）、（ＯＣＯＯＡ２９）−
（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯＯＡ２８）、（ＯＣＯＯ
Ａ３０）−（ＯＣＯＯＡ２ ８）−（ＯＣＯＯＡ２９）又
は（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣＯ
ＯＡ２８）のブロック状でもよく、ランダム状又はラン
ダム状とブロック状の組合せでもよい。
【００７２】
【化２５】
【００７３】一般式（１０）において、ｋ１及びｋ２
は、それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは
２〜５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整
数、特に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは
５〜２００の整数である。また、ｋ３は、０又は１〜２
００の整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整
数、さらに好ましくは０又は１〜５０の整数である。ま
た、Ａｒは、芳香族環を表し、炭素数３〜１４のイミダ
ゾール環、ピロール環、ピリジン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環及びアントラセン環等が用いられる。また、Ｑ
１はプロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有
する基を表し、一般式（１２−１）〜（１２−３）とし
て例示した基等が使用でき、好ましい範囲も同じであ
る。また、Ｑ２は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有
する基を表し、一般式（１５−１）〜（１５−３）とし
て例示した基等が使用でき、好ましい範囲も同じであ
る。
は、それぞれ１〜１，０００の整数を表し、好ましくは
２〜５００の整数、さらに好ましくは３〜４００の整
数、特に好ましくは４〜３００の整数、最も好ましくは
５〜２００の整数である。また、ｋ３は、０又は１〜２
００の整数を表し、好ましくは０又は１〜１００の整
数、さらに好ましくは０又は１〜５０の整数である。ま
た、Ａｒは、芳香族環を表し、炭素数３〜１４のイミダ
ゾール環、ピロール環、ピリジン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環及びアントラセン環等が用いられる。また、Ｑ
１はプロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有
する基を表し、一般式（１２−１）〜（１２−３）とし
て例示した基等が使用でき、好ましい範囲も同じであ
る。また、Ｑ２は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有
する基を表し、一般式（１５−１）〜（１５−３）とし
て例示した基等が使用でき、好ましい範囲も同じであ
る。
【００７４】なお、（ＣＨ２−ＡｒＱ１）、（ＣＨ２−
ＡｒＱ２）及び（ＣＨ２−Ａｒ）の並び方は、（ＣＨ２
−ＡｒＱ１）−（ＣＨ２−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−Ａ
ｒ）に限らず、（ＣＨ２−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−Ａｒ
Ｑ１）−（ＣＨ２−Ａｒ）、（ＣＨ２−ＡｒＱ１）−
（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２−ＡｒＱ２）、（ＣＨ２−
ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２−Ａｒ
Ｑ１）、（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ ２−ＡｒＱ１）−
（ＣＨ２−ＡｒＱ２）又は（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２
−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−ＡｒＱ１）のブロック状でも
よく、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せ
でもよい。
ＡｒＱ２）及び（ＣＨ２−Ａｒ）の並び方は、（ＣＨ２
−ＡｒＱ１）−（ＣＨ２−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−Ａ
ｒ）に限らず、（ＣＨ２−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−Ａｒ
Ｑ１）−（ＣＨ２−Ａｒ）、（ＣＨ２−ＡｒＱ１）−
（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２−ＡｒＱ２）、（ＣＨ２−
ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２−Ａｒ
Ｑ１）、（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ ２−ＡｒＱ１）−
（ＣＨ２−ＡｒＱ２）又は（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２
−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−ＡｒＱ１）のブロック状でも
よく、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せ
でもよい。
【００７５】本願発明の重合体の末端の構造は、通常、
水素原子、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート
基、アミノ基及び／又は、カーボネート基等である。本
発明の重合体のＭｗは、２，０００〜１００，０００が
好ましく、さらに好ましくは４，０００〜８０，００
０、特に好ましくは６，０００〜４０，０００である。
水素原子、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート
基、アミノ基及び／又は、カーボネート基等である。本
発明の重合体のＭｗは、２，０００〜１００，０００が
好ましく、さらに好ましくは４，０００〜８０，００
０、特に好ましくは６，０００〜４０，０００である。
【００７６】本発明の重合体を得る方法としては特に限
定されず、一般的な方法を用いることができ、例えば、
（ｉ）プロペニルエーテル基（Ｐ）を持つモノマーと極
性基を有するモノマーと必要によりその他のモノマーと
を共重合する方法、（ｉｉ）プロペニルエーテル基
（Ｐ）を有する重合体に極性基（Ｋ）を導入する方法、
（ｉｉｉ）極性基（Ｋ）を有する重合体にプロペニルエ
ーテル基（Ｐ）を導入する方法、（ｉｖ）重合体にプロ
ペニルエーテル基（Ｐ）と極性基（Ｋ）を導入する方
法、（ｖ）アリルエーテル基を有するモノマーと極性基
（Ｋ）を有するモノマーと必要によりその他のモノマー
とを共重合した後、プロペニル転位させる方法、（ｖ
ｉ）アリルエーテル基を有する重合体に極性基（Ｋ）を
導入した後、プロペニル転位させる方法、（ｖｉｉ）ア
リルエーテル基を有する重合体をプロペニル転位させた
後、極性基（Ｋ）を導入する方法、（ｖｉｉｉ）極性基
（Ｋ）を有する重合体にアリルエーテル基を導入した
後、プロペニル転位させる方法、及び（ｉｘ）重合体に
アリルエーテル基と極性基（Ｋ）を導入した後、プロペ
ニル転位させる方法、等が挙げられる。
定されず、一般的な方法を用いることができ、例えば、
（ｉ）プロペニルエーテル基（Ｐ）を持つモノマーと極
性基を有するモノマーと必要によりその他のモノマーと
を共重合する方法、（ｉｉ）プロペニルエーテル基
（Ｐ）を有する重合体に極性基（Ｋ）を導入する方法、
（ｉｉｉ）極性基（Ｋ）を有する重合体にプロペニルエ
ーテル基（Ｐ）を導入する方法、（ｉｖ）重合体にプロ
ペニルエーテル基（Ｐ）と極性基（Ｋ）を導入する方
法、（ｖ）アリルエーテル基を有するモノマーと極性基
（Ｋ）を有するモノマーと必要によりその他のモノマー
とを共重合した後、プロペニル転位させる方法、（ｖ
ｉ）アリルエーテル基を有する重合体に極性基（Ｋ）を
導入した後、プロペニル転位させる方法、（ｖｉｉ）ア
リルエーテル基を有する重合体をプロペニル転位させた
後、極性基（Ｋ）を導入する方法、（ｖｉｉｉ）極性基
（Ｋ）を有する重合体にアリルエーテル基を導入した
後、プロペニル転位させる方法、及び（ｉｘ）重合体に
アリルエーテル基と極性基（Ｋ）を導入した後、プロペ
ニル転位させる方法、等が挙げられる。
【００７７】プロペニル転位させる方法、すなわちアリ
ルエーテル基をプロペニルエーテル基に転位させる方法
としては、アルカリ触媒又はルテニウム触媒を加えて１
３０〜１８０℃に加熱する方法等が挙げられる。アルカ
リ触媒としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウム
−ｔ−ブトキシド及びナトリウム−ｔ−ブトキシド等が
挙げられる。ルテニウム触媒としては、例えば、トリス
（トリフェニルフォスフィン）ルテニウム（ＩＩ）クロ
ライド等が挙げられる。
ルエーテル基をプロペニルエーテル基に転位させる方法
としては、アルカリ触媒又はルテニウム触媒を加えて１
３０〜１８０℃に加熱する方法等が挙げられる。アルカ
リ触媒としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウム
−ｔ−ブトキシド及びナトリウム−ｔ−ブトキシド等が
挙げられる。ルテニウム触媒としては、例えば、トリス
（トリフェニルフォスフィン）ルテニウム（ＩＩ）クロ
ライド等が挙げられる。
【００７８】これらのアルカリ触媒を使用する場合、ア
リルエーテル基を有する化合物（重合体）のアリルエー
テル基１．０モル当量に対してアルカリ触媒を０．０１
〜５モルの範囲、好ましくは０．１〜２モルの範囲にす
ることにより高い反応促進効果が得られる。ルテニウム
触媒を使用する場合は、アリルエーテル基を有する化合
物（重合体）のアリルエーテル基１．０モル当量に対し
てルテニウム触媒を０．０１〜５モルの範囲、好ましく
は０．１〜２モルの範囲にすることにより高い反応促進
効果が得られる。
リルエーテル基を有する化合物（重合体）のアリルエー
テル基１．０モル当量に対してアルカリ触媒を０．０１
〜５モルの範囲、好ましくは０．１〜２モルの範囲にす
ることにより高い反応促進効果が得られる。ルテニウム
触媒を使用する場合は、アリルエーテル基を有する化合
物（重合体）のアリルエーテル基１．０モル当量に対し
てルテニウム触媒を０．０１〜５モルの範囲、好ましく
は０．１〜２モルの範囲にすることにより高い反応促進
効果が得られる。
【００７９】一般式（２）で表される構造を有する本発
明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉｉ）の方
法としては、プロペニルグリシジルエーテルとグリシド
ールを開環共重合反応させ、共重合体を作った後、シュ
ウ酸を反応させる方法、（ｉｖ）の方法としては、グリ
シドールを開環重合反応させて得られた重合体に、プロ
ペニルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物を反応さ
せる方法、（ｖｉｉ）の方法としては、アリルグリシジ
ルエーテルとグリシドールを開環共重合反応させ、共重
合体を作った後、ルテニウム触媒を添加、加熱し、プロ
ペニル転位させ、その後シュウ酸を反応させる方法、
（ｉｘ）の方法としては、グリシドールを開環重合反応
させた重合体に、アリルグリシジルエーテルとシュウ酸
の混合物を反応させた後、ルテニウム触媒を添加、加熱
し、プロペニル転位させる方法等が挙げられる。
明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉｉ）の方
法としては、プロペニルグリシジルエーテルとグリシド
ールを開環共重合反応させ、共重合体を作った後、シュ
ウ酸を反応させる方法、（ｉｖ）の方法としては、グリ
シドールを開環重合反応させて得られた重合体に、プロ
ペニルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物を反応さ
せる方法、（ｖｉｉ）の方法としては、アリルグリシジ
ルエーテルとグリシドールを開環共重合反応させ、共重
合体を作った後、ルテニウム触媒を添加、加熱し、プロ
ペニル転位させ、その後シュウ酸を反応させる方法、
（ｉｘ）の方法としては、グリシドールを開環重合反応
させた重合体に、アリルグリシジルエーテルとシュウ酸
の混合物を反応させた後、ルテニウム触媒を添加、加熱
し、プロペニル転位させる方法等が挙げられる。
【００８０】また、一般式（３）で表される構造を有す
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ）
の方法としては、プロペニルメタクリレートとメタクリ
ル酸とを共重合させる方法、（ｉｉ）の方法としては、
イソシアネート基を有するビニルモノマー（例えば、商
品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）とプロペニルメ
タクリレートを共重合させた後、グリコール酸を反応さ
せる方法、（ｉｉｉ）の方法としては、イソシアネート
基を有するビニルモノマー（例えば、商品名：カレンズ
ＭＯＩ、昭和電工社製）とメタクリル酸を共重合させた
後、２−（プロペニルオキシ）エタノールを反応させる
方法や、メチルメタクリレートと無水マレイン酸を共重
合させて得られた重合体に、２−（プロペニルオキシ）
エタノールを反応させる方法、（ｉｖ）の方法として
は、イソシアネート基を有するビニルモノマー（例え
ば、商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）を重合さ
せた後に、２−（プロペニルオキシ）エタノールとグリ
コール酸とを反応させる方法等が挙げられる。
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ）
の方法としては、プロペニルメタクリレートとメタクリ
ル酸とを共重合させる方法、（ｉｉ）の方法としては、
イソシアネート基を有するビニルモノマー（例えば、商
品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）とプロペニルメ
タクリレートを共重合させた後、グリコール酸を反応さ
せる方法、（ｉｉｉ）の方法としては、イソシアネート
基を有するビニルモノマー（例えば、商品名：カレンズ
ＭＯＩ、昭和電工社製）とメタクリル酸を共重合させた
後、２−（プロペニルオキシ）エタノールを反応させる
方法や、メチルメタクリレートと無水マレイン酸を共重
合させて得られた重合体に、２−（プロペニルオキシ）
エタノールを反応させる方法、（ｉｖ）の方法として
は、イソシアネート基を有するビニルモノマー（例え
ば、商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）を重合さ
せた後に、２−（プロペニルオキシ）エタノールとグリ
コール酸とを反応させる方法等が挙げられる。
【００８１】また、（ｖ）の方法としては、アリルメタ
クリレートとメタクリル酸とを共重合させ、ルテニウム
触媒を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法、（ｖ
ｉ）の方法としては、イソシアネート基を持つビニルモ
ノマー（例えば、商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社
製）とアリルメタクリレートを共重合して得られた共重
合体に、グリコール酸を反応させた後、ルテニウム触媒
を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法、（ｖｉ
ｉ）の方法としては、イソシアネート基を有するビニル
モノマー（例えば、商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工
社製）とアリルメタクリレートを共重合させ、ルテニウ
ム触媒を加え、加熱し、プロペニル転位させた後、グリ
コール酸を反応させる方法等が挙げられる。
クリレートとメタクリル酸とを共重合させ、ルテニウム
触媒を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法、（ｖ
ｉ）の方法としては、イソシアネート基を持つビニルモ
ノマー（例えば、商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社
製）とアリルメタクリレートを共重合して得られた共重
合体に、グリコール酸を反応させた後、ルテニウム触媒
を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法、（ｖｉ
ｉ）の方法としては、イソシアネート基を有するビニル
モノマー（例えば、商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工
社製）とアリルメタクリレートを共重合させ、ルテニウ
ム触媒を加え、加熱し、プロペニル転位させた後、グリ
コール酸を反応させる方法等が挙げられる。
【００８２】また、（ｖｉｉｉ）の方法としては、イソ
シアネート基を有するビニルモノマー（例えば、２−メ
タクリロイルエチルイソシアネート、商品名：カレンズ
ＭＯＩ、昭和電工社製）とメタクリル酸を共重合させ、
２−（アリルオキシ）エタノールを反応させ、ルテニウ
ム触媒を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法や、
メチルメタクリレートと無水マレイン酸を共重合させて
得られた重合体に、２−（アリルオキシ）エタノールを
反応させ、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニル
転位させる方法、（ｉｘ）の方法としては、イソシアネ
ート基を有するビニルモノマー（例えば、商品名：カレ
ンズＭＯＩ、昭和電工社製）を重合させた後に、２−
（アリルオキシ）エタノールとグリコール酸を反応さ
せ、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニル転位さ
せる方法等が挙げられる。
シアネート基を有するビニルモノマー（例えば、２−メ
タクリロイルエチルイソシアネート、商品名：カレンズ
ＭＯＩ、昭和電工社製）とメタクリル酸を共重合させ、
２−（アリルオキシ）エタノールを反応させ、ルテニウ
ム触媒を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法や、
メチルメタクリレートと無水マレイン酸を共重合させて
得られた重合体に、２−（アリルオキシ）エタノールを
反応させ、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニル
転位させる方法、（ｉｘ）の方法としては、イソシアネ
ート基を有するビニルモノマー（例えば、商品名：カレ
ンズＭＯＩ、昭和電工社製）を重合させた後に、２−
（アリルオキシ）エタノールとグリコール酸を反応さ
せ、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニル転位さ
せる方法等が挙げられる。
【００８３】また、一般式（４）で表される構造を有す
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｉ）の方法としては、プロペニルグリシジルエーテルを
開環重合させたジオール及びニトリル基をもつグリシジ
ルエーテルを開環重合反応させて得られたジオールの混
合物とアジピン酸を反応させ、重合体を合成した後、ニ
トリル基を加水分解し、カルボキシル基に変換する方法
等が挙げられる。
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｉ）の方法としては、プロペニルグリシジルエーテルを
開環重合させたジオール及びニトリル基をもつグリシジ
ルエーテルを開環重合反応させて得られたジオールの混
合物とアジピン酸を反応させ、重合体を合成した後、ニ
トリル基を加水分解し、カルボキシル基に変換する方法
等が挙げられる。
【００８４】また、一般式（５）で表される構造を有す
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、ジメチロールプロピオン酸を加熱
し、ポリエステルを合成した後、未反応の水酸基に、プ
ロペニルグリシジルエーテル基とシュウ酸を反応させる
方法、（ｖｉｉ）の方法としては、ジメチロールプロピ
オン酸とアリルグリシジルエーテルを反応させた後、ポ
リエステルを合成後、ルテニウム触媒を加えプロペニル
転位させ、未反応の水酸基にシュウ酸を反応させる方
法、（ｉｘ）の方法としては、ジメチロールプロピオン
酸を加熱し、ポリエステルを合成した後、未反応の水酸
基に、アリルグリシジルエーテル基とシュウ酸を反応さ
せ、ルテニウム触媒を加えプロペニル転位させる方法等
が挙げられる。
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、ジメチロールプロピオン酸を加熱
し、ポリエステルを合成した後、未反応の水酸基に、プ
ロペニルグリシジルエーテル基とシュウ酸を反応させる
方法、（ｖｉｉ）の方法としては、ジメチロールプロピ
オン酸とアリルグリシジルエーテルを反応させた後、ポ
リエステルを合成後、ルテニウム触媒を加えプロペニル
転位させ、未反応の水酸基にシュウ酸を反応させる方
法、（ｉｘ）の方法としては、ジメチロールプロピオン
酸を加熱し、ポリエステルを合成した後、未反応の水酸
基に、アリルグリシジルエーテル基とシュウ酸を反応さ
せ、ルテニウム触媒を加えプロペニル転位させる方法等
が挙げられる。
【００８５】また、一般式（６）で表される構造を有す
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｉ）の方法としては、プロペニルグリシジルエーテルを
開環重合反応させて得られたジオール及びニトリル基を
もつグリシジルエーテルを開環重合反応させて得られた
ジオールの混合物とジフェニルメタンジイソシアネート
とを反応させた後、ニトリル基を加水分解し、カルボキ
シル基に変換する方法、（ｖｉｉ）の方法としては、ア
リルグリシジルエーテルを開環重合反応させて得られた
ジオール及びニトリル基をもつグリシジルエーテルを開
環重合反応させて得られたジオールの混合物とジフェニ
ルメタンジイソシアネートを反応させ、ルテニウム触媒
を加え、加熱し、プロペニル転位させた後、ニトリル基
を加水分解し、カルボキシル基に変換する方法等が挙げ
られる。
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｉ）の方法としては、プロペニルグリシジルエーテルを
開環重合反応させて得られたジオール及びニトリル基を
もつグリシジルエーテルを開環重合反応させて得られた
ジオールの混合物とジフェニルメタンジイソシアネート
とを反応させた後、ニトリル基を加水分解し、カルボキ
シル基に変換する方法、（ｖｉｉ）の方法としては、ア
リルグリシジルエーテルを開環重合反応させて得られた
ジオール及びニトリル基をもつグリシジルエーテルを開
環重合反応させて得られたジオールの混合物とジフェニ
ルメタンジイソシアネートを反応させ、ルテニウム触媒
を加え、加熱し、プロペニル転位させた後、ニトリル基
を加水分解し、カルボキシル基に変換する方法等が挙げ
られる。
【００８６】また、一般式（７）で表される構造を有す
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、パラフェニルジアミンとテレフタ
ル酸とを反応させて、ポリアミドを得た後、ベンゼン環
をアセチルクロライドでアシル化し、グリニア試薬で水
酸基に変換した後、プロペニルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物と反応させる方法、（ｉｘ）の方法とし
ては、パラフェニルジアミンとテレフタル酸を反応させ
て、ポリアミドを得た後、ベンゼン環をアセチルクロラ
イドでアシル化し、グリニア試薬で水酸基に変換した
後、アリルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物と反
応させ、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニル転
位させる方法等が挙げられる。
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、パラフェニルジアミンとテレフタ
ル酸とを反応させて、ポリアミドを得た後、ベンゼン環
をアセチルクロライドでアシル化し、グリニア試薬で水
酸基に変換した後、プロペニルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物と反応させる方法、（ｉｘ）の方法とし
ては、パラフェニルジアミンとテレフタル酸を反応させ
て、ポリアミドを得た後、ベンゼン環をアセチルクロラ
イドでアシル化し、グリニア試薬で水酸基に変換した
後、アリルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物と反
応させ、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニル転
位させる方法等が挙げられる。
【００８７】また、一般式（８）で表される構造を有す
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、アミノサリチル酸を加熱し、得ら
れたポリアミドに、プロペニルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物を反応させる方法、（ｉｘ）の方法とし
ては、アミノサリチル酸を加熱し、得られたポリアミド
に、アリルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物を反
応させた後、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニ
ル転位させる方法等が挙げられる。
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、アミノサリチル酸を加熱し、得ら
れたポリアミドに、プロペニルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物を反応させる方法、（ｉｘ）の方法とし
ては、アミノサリチル酸を加熱し、得られたポリアミド
に、アリルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物を反
応させた後、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニ
ル転位させる方法等が挙げられる。
【００８８】また、一般式（９）で表される構造を有す
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｉ）の方法としてはプロペニルグリシジルエーテルを開
環重合反応させて得られたジオール及びジメチロールプ
ロピオン酸の混合物にホスゲンを反応させる方法、（ｖ
ｉ）の方法としては、アリルグリシジルエーテルを開環
重合反応させて得られたジオール及びジメチロールプロ
ピオン酸の混合物にホスゲンを反応させ、ルテニウム触
媒を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法等が挙げ
られる。
る本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｉ）の方法としてはプロペニルグリシジルエーテルを開
環重合反応させて得られたジオール及びジメチロールプ
ロピオン酸の混合物にホスゲンを反応させる方法、（ｖ
ｉ）の方法としては、アリルグリシジルエーテルを開環
重合反応させて得られたジオール及びジメチロールプロ
ピオン酸の混合物にホスゲンを反応させ、ルテニウム触
媒を加え、加熱し、プロペニル転位させる方法等が挙げ
られる。
【００８９】また、一般式（１０）で表される構造を有
する本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、ノボラック樹脂にプロペニルグリ
シジルエーテルとシュウ酸の混合物を反応させる方法
や、レゾール樹脂にプロペニルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物を反応させる方法、（ｉｘ）の方法とし
ては、ノボラック樹脂にアリルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物を反応させた後、ルテニウム触媒を加
え、加熱し、プロペニル転位させる方法や、レゾール樹
脂にアリルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物を反
応させた後、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニ
ル転位させる方法等が挙げられる。
する本発明の重合体の製法を例示すると、例えば、（ｉ
ｖ）の方法としては、ノボラック樹脂にプロペニルグリ
シジルエーテルとシュウ酸の混合物を反応させる方法
や、レゾール樹脂にプロペニルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物を反応させる方法、（ｉｘ）の方法とし
ては、ノボラック樹脂にアリルグリシジルエーテルとシ
ュウ酸の混合物を反応させた後、ルテニウム触媒を加
え、加熱し、プロペニル転位させる方法や、レゾール樹
脂にアリルグリシジルエーテルとシュウ酸の混合物を反
応させた後、ルテニウム触媒を加え、加熱し、プロペニ
ル転位させる方法等が挙げられる。
【００９０】これらの製法において、必要に応じて反応
溶媒や反応触媒等が使用できる。反応溶媒としては、一
般的に使用されるものが用いられ、例えば、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、シクロヘキサノン、アセトニトリル、
ブタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、２
−メトキシエタノール、メタノール、エタノール、プロ
パノール、トルエン、ポリエチレングリコール（Ｍｗ１
００〜２０，０００）等が挙げられる。これらのうち好
ましいものは、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド及び２−メトキシエタノール
である。反応触媒としては、一般的に使用されるものが
用いられ、酸、アルカリ、ラジカル発生剤等が挙げら
れ、反応の種類により適宜選択使用できる。反応温度は
特に限定がないが、３０〜１７０℃が好ましく、さらに
好ましくは６０〜１２０℃である。
溶媒や反応触媒等が使用できる。反応溶媒としては、一
般的に使用されるものが用いられ、例えば、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、シクロヘキサノン、アセトニトリル、
ブタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、２
−メトキシエタノール、メタノール、エタノール、プロ
パノール、トルエン、ポリエチレングリコール（Ｍｗ１
００〜２０，０００）等が挙げられる。これらのうち好
ましいものは、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド及び２−メトキシエタノール
である。反応触媒としては、一般的に使用されるものが
用いられ、酸、アルカリ、ラジカル発生剤等が挙げら
れ、反応の種類により適宜選択使用できる。反応温度は
特に限定がないが、３０〜１７０℃が好ましく、さらに
好ましくは６０〜１２０℃である。
【００９１】反応後の単離精製法は、公知の方法を採用
できる。例えば、反応液をトルエン又はエーテル等の有
機相を抽出し数回水洗することで無機塩を除き、有機相
を減圧濃縮することにより目的物を取得する方法や、キ
ョーワード（協和化学：商品シリーズ名）及び活性白土
等の吸着剤を用いて無機塩等を吸着除去・精製する方法
等が挙げられるが、この方法に限定されるものではな
い。
できる。例えば、反応液をトルエン又はエーテル等の有
機相を抽出し数回水洗することで無機塩を除き、有機相
を減圧濃縮することにより目的物を取得する方法や、キ
ョーワード（協和化学：商品シリーズ名）及び活性白土
等の吸着剤を用いて無機塩等を吸着除去・精製する方法
等が挙げられるが、この方法に限定されるものではな
い。
【００９２】本発明の重合体（Ｂ）は、光カチオン開始
剤（Ｃ）を含んでなる組成物として好適に用いられる。
光カチオン開始剤（Ｃ）としては、公知の光カチオン開
始剤が使用でき、例えば、ヘキサフルオロアンチモネー
ト及びスルホニウムホスフェート等が用いられる。ヘキ
サフルオロアンチモネートとしては、例えば、トリフェ
ニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−
（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、４−クロルフェニルジフェ
ニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス
［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィ
ドビスヘキサフルオロアンチモネート及びジアリールヨ
ードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられ
る。
剤（Ｃ）を含んでなる組成物として好適に用いられる。
光カチオン開始剤（Ｃ）としては、公知の光カチオン開
始剤が使用でき、例えば、ヘキサフルオロアンチモネー
ト及びスルホニウムホスフェート等が用いられる。ヘキ
サフルオロアンチモネートとしては、例えば、トリフェ
ニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−
（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、４−クロルフェニルジフェ
ニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス
［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィ
ドビスヘキサフルオロアンチモネート及びジアリールヨ
ードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられ
る。
【００９３】スルホニウムホスフェートとしては、例え
ば、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フ
ェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−
（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビス
ヘキサフルオロフォスフェート及び（２，４−シクロペ
ンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼ
ン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられ
る。
ば、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フ
ェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−
（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビス
ヘキサフルオロフォスフェート及び（２，４−シクロペ
ンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼ
ン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられ
る。
【００９４】これらの光カチオン開始剤は、市場より容
易に入手することができ、商品名としては、例えば、Ｓ
Ｐ−１５０、ＳＰ−１７０（旭電化社）、イルガキュア
ー２６１（チバ・ガイギー社）、ＵＶＩ−６９９０（ユ
ニオンカーバイド社）、ＣＤ−１０１２（サートマー
社）及びＣＩ−２８５５（日本曹達社）等が挙げられ
る。本発明の重合体（Ｂ）と光カチオン開始剤（Ｃ）と
の使用割合（Ｂ：Ｃ、重量比）は、２０：８０〜９９．
９：０．１が好ましく、さらに好ましくは４０：６０〜
９９：１である。
易に入手することができ、商品名としては、例えば、Ｓ
Ｐ−１５０、ＳＰ−１７０（旭電化社）、イルガキュア
ー２６１（チバ・ガイギー社）、ＵＶＩ−６９９０（ユ
ニオンカーバイド社）、ＣＤ−１０１２（サートマー
社）及びＣＩ−２８５５（日本曹達社）等が挙げられ
る。本発明の重合体（Ｂ）と光カチオン開始剤（Ｃ）と
の使用割合（Ｂ：Ｃ、重量比）は、２０：８０〜９９．
９：０．１が好ましく、さらに好ましくは４０：６０〜
９９：１である。
【００９５】本発明の重合体（Ｂ）と光カチオン開始剤
（Ｃ）とを含んでなる重合体組成物には、必要により公
知の増感剤を配合することができる。増感剤としては、
例えば、キサンテン色素、チアジン色素、ピロニン色素
及びクマリン化合物等が用いられる。キサンテン色素と
しては、例えば、エオシンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４０
０）、エオシンＪ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５３８０）、アル
コール可溶性エオシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５３８６）、
シアノシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４１０）、ベンガルロ
ーズ、エリスロシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４３０）、
２，３，７−トリヒドロキシ−９−フェニルキサンテン
−６−オン、２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン
−９−オン及びローダミン６Ｇ等が挙げられる。
（Ｃ）とを含んでなる重合体組成物には、必要により公
知の増感剤を配合することができる。増感剤としては、
例えば、キサンテン色素、チアジン色素、ピロニン色素
及びクマリン化合物等が用いられる。キサンテン色素と
しては、例えば、エオシンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４０
０）、エオシンＪ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５３８０）、アル
コール可溶性エオシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５３８６）、
シアノシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４１０）、ベンガルロ
ーズ、エリスロシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４３０）、
２，３，７−トリヒドロキシ−９−フェニルキサンテン
−６−オン、２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン
−９−オン及びローダミン６Ｇ等が挙げられる。
【００９６】チアジン色素としては、例えば、チオニン
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２０００）、アズレＡ（Ｃ．Ｉ．Ｎ
ｏ．５２００５）及びアズレＣ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２０
０２）等が挙げられる。ピロニン色素としては、例え
ば、ピロニンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００５）、及びピ
ロニンＧＹ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００５）等が挙げられ
る。クマリン化合物としては、例えば、３−アセチルク
マリン及び３−アセチル７−ジエチルアミノクマリン等
が挙げられる。増感剤を使用する場合、増感剤の使用量
は、（Ｃ）１００重量部に対して、０．１〜３００重量
部が好ましく、さらに好ましくは１〜１００重量部であ
る。
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２０００）、アズレＡ（Ｃ．Ｉ．Ｎ
ｏ．５２００５）及びアズレＣ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２０
０２）等が挙げられる。ピロニン色素としては、例え
ば、ピロニンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００５）、及びピ
ロニンＧＹ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００５）等が挙げられ
る。クマリン化合物としては、例えば、３−アセチルク
マリン及び３−アセチル７−ジエチルアミノクマリン等
が挙げられる。増感剤を使用する場合、増感剤の使用量
は、（Ｃ）１００重量部に対して、０．１〜３００重量
部が好ましく、さらに好ましくは１〜１００重量部であ
る。
【００９７】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物には、必要により着色剤を配合することができる。着
色剤としては、公知の顔料及び染料が使用でき、例え
ば、特開平１０−１７１１１９号公報に記載の顔料及び
染料等が用いられる。顔料として、例えば、以下のカラ
ーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ナンバーで表されているも
の等が透明性が高く、しかも耐熱性、耐候性及び耐薬品
性に優れているため好適に用いられる。
物には、必要により着色剤を配合することができる。着
色剤としては、公知の顔料及び染料が使用でき、例え
ば、特開平１０−１７１１１９号公報に記載の顔料及び
染料等が用いられる。顔料として、例えば、以下のカラ
ーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ナンバーで表されているも
の等が透明性が高く、しかも耐熱性、耐候性及び耐薬品
性に優れているため好適に用いられる。
【００９８】黄色顔料：Ｃ．Ｉ．２０、２４、８３、８
６、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１２９、
１３７、１３８、１４７、１４８、１５０、１５３、１
５４、１６６、１６８ 橙色顔料：Ｃ．Ｉ．３６、４３、５１、５５、５９、６
１ 赤色顔料：Ｃ．Ｉ．９、９７、１２２、１２３、１４
９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２１
６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２
７、２２８、２４０ 紫色顔料：Ｃ．Ｉ．１９、２３、２９、３０、３７、４
０、５０ 青色顔料：Ｃ．Ｉ．１５、１５：６、２２、６０、６４ 緑色顔料：Ｃ．Ｉ．７、３６ 茶色顔料：Ｃ．Ｉ．２３、２５、２６
６、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１２９、
１３７、１３８、１４７、１４８、１５０、１５３、１
５４、１６６、１６８ 橙色顔料：Ｃ．Ｉ．３６、４３、５１、５５、５９、６
１ 赤色顔料：Ｃ．Ｉ．９、９７、１２２、１２３、１４
９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２１
６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２
７、２２８、２４０ 紫色顔料：Ｃ．Ｉ．１９、２３、２９、３０、３７、４
０、５０ 青色顔料：Ｃ．Ｉ．１５、１５：６、２２、６０、６４ 緑色顔料：Ｃ．Ｉ．７、３６ 茶色顔料：Ｃ．Ｉ．２３、２５、２６
【００９９】また、染料としては、例えば、黄色染料、
橙色染料、赤色染料、紫色染料、青色染料、緑色染料及
び茶色染料等が好適である。黄色染料としては、例え
ば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１、Ｃ．Ｉ．ダイレク
トイエロー１１、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１２、
Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー２８、Ｃ．Ｉ．アシッドイ
エロー１、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー３、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドイエロー１１、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１７、
Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー２３、Ｃ．Ｉ．アシッドイエ
ロー３８、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー４０、Ｃ．Ｉ．ア
シッドイエロー４２、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー７６、
Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー９８、Ｃ．Ｉ．ベイシックイ
エロー１、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー３、Ｃ．Ｉ．
ディスパースイエロー４、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロ
ー７、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー３１、Ｃ．Ｉ．デ
ィスパースイエロー６１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー
２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ソルベ
ントイエロー１５、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１６、
Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２１、Ｃ．Ｉ．ソルベント
イエロー３３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー５６及び
Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３３等が挙げられる。
橙色染料、赤色染料、紫色染料、青色染料、緑色染料及
び茶色染料等が好適である。黄色染料としては、例え
ば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１、Ｃ．Ｉ．ダイレク
トイエロー１１、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１２、
Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー２８、Ｃ．Ｉ．アシッドイ
エロー１、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー３、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドイエロー１１、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１７、
Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー２３、Ｃ．Ｉ．アシッドイエ
ロー３８、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー４０、Ｃ．Ｉ．ア
シッドイエロー４２、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー７６、
Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー９８、Ｃ．Ｉ．ベイシックイ
エロー１、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー３、Ｃ．Ｉ．
ディスパースイエロー４、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロ
ー７、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー３１、Ｃ．Ｉ．デ
ィスパースイエロー６１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー
２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ソルベ
ントイエロー１５、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１６、
Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２１、Ｃ．Ｉ．ソルベント
イエロー３３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー５６及び
Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３３等が挙げられる。
【０１００】橙色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドオレンジ１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７、Ｃ．
Ｉ．アシッドオレンジ８、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ１
０、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ２０、Ｃ．Ｉ．アシッド
オレンジ２４、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ２８、Ｃ．
Ｉ．アシッドオレンジ３３、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ
５６、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７４、Ｃ．Ｉ．ダイレ
クトオレンジ１、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ５、
Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ１、Ｃ．Ｉ．ソルベントオ
レンジ２、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントオレンジ６及びＣ．Ｉ．ソルベントオレンジ４
５等が挙げられる。
ッドオレンジ１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７、Ｃ．
Ｉ．アシッドオレンジ８、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ１
０、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ２０、Ｃ．Ｉ．アシッド
オレンジ２４、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ２８、Ｃ．
Ｉ．アシッドオレンジ３３、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ
５６、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７４、Ｃ．Ｉ．ダイレ
クトオレンジ１、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ５、
Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ１、Ｃ．Ｉ．ソルベントオ
レンジ２、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントオレンジ６及びＣ．Ｉ．ソルベントオレンジ４
５等が挙げられる。
【０１０１】赤色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ダイ
レクトレッド２０、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド３７、
Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレ
ッド４４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド６、Ｃ．Ｉ．アシッ
ドレッド８、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドレッド１３、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１４、Ｃ．
Ｉ．アシッドレッド１８、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２
６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２７、Ｃ．Ｉ．アシッドレ
ッド５１、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド５２、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドレッド８７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド８８、Ｃ．
Ｉ．アシッドレッド８９、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９
２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９４、Ｃ．Ｉ．アシッドレ
ッド９７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１１、Ｃ．Ｉ．ア
シッドレッド１１４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１５、
Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１３４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッ
ド１４５、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１５４、Ｃ．Ｉ．ア
シッドレッド１８０、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８３、
Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッ
ド１８６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１９８、Ｃ．Ｉ．ベ
イシックレッド１２、Ｃ．Ｉ．ベイシックレッド１３、
Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド５、Ｃ．Ｉ．ディスパース
レッド７、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド１３、Ｃ．Ｉ．
ディスパースレッド１７、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド
５８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１、Ｃ．Ｉ．ソルベン
トレッド３、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントレッド２３、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２４、
Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２５、Ｃ．Ｉ．ソルベントレ
ッド２７、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３０、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントレッド４９及びＣ．Ｉ．ソルベントレッド１０
０等が挙げられる。
レクトレッド２０、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド３７、
Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレ
ッド４４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド６、Ｃ．Ｉ．アシッ
ドレッド８、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドレッド１３、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１４、Ｃ．
Ｉ．アシッドレッド１８、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２
６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２７、Ｃ．Ｉ．アシッドレ
ッド５１、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド５２、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドレッド８７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド８８、Ｃ．
Ｉ．アシッドレッド８９、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９
２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９４、Ｃ．Ｉ．アシッドレ
ッド９７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１１、Ｃ．Ｉ．ア
シッドレッド１１４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１５、
Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１３４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッ
ド１４５、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１５４、Ｃ．Ｉ．ア
シッドレッド１８０、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８３、
Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッ
ド１８６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１９８、Ｃ．Ｉ．ベ
イシックレッド１２、Ｃ．Ｉ．ベイシックレッド１３、
Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド５、Ｃ．Ｉ．ディスパース
レッド７、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド１３、Ｃ．Ｉ．
ディスパースレッド１７、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド
５８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１、Ｃ．Ｉ．ソルベン
トレッド３、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントレッド２３、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２４、
Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２５、Ｃ．Ｉ．ソルベントレ
ッド２７、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３０、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントレッド４９及びＣ．Ｉ．ソルベントレッド１０
０等が挙げられる。
【０１０２】紫色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ダイ
レクトバイオレット２２、Ｃ．Ｉ．アシッドバイオレッ
ト４９、Ｃ．Ｉ．ベイシックバイオレット２、Ｃ．Ｉ．
ベイシックバイオレット７、Ｃ．Ｉ．ベイシックバイオ
レット１０及びＣ．Ｉ．ディスパースバイオレット２４
等が挙げられる。青色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．
ダイレクトブルー２５、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８
６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレク
トブルー１０８、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１、Ｃ．Ｉ．
アシッドブルー７、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー９、Ｃ．
Ｉ．アシッドブルー１５、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１０
３、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１０４、Ｃ．Ｉ．アシッド
ブルー１５８、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１６１、Ｃ．
Ｉ．ベイシックブルー１、Ｃ．Ｉ．ベイシックブルー
３、Ｃ．Ｉ．ベイシックブルー９及びＣ．Ｉ．ベイシッ
クブルー２５等が挙げられる。
レクトバイオレット２２、Ｃ．Ｉ．アシッドバイオレッ
ト４９、Ｃ．Ｉ．ベイシックバイオレット２、Ｃ．Ｉ．
ベイシックバイオレット７、Ｃ．Ｉ．ベイシックバイオ
レット１０及びＣ．Ｉ．ディスパースバイオレット２４
等が挙げられる。青色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．
ダイレクトブルー２５、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８
６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレク
トブルー１０８、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１、Ｃ．Ｉ．
アシッドブルー７、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー９、Ｃ．
Ｉ．アシッドブルー１５、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１０
３、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１０４、Ｃ．Ｉ．アシッド
ブルー１５８、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１６１、Ｃ．
Ｉ．ベイシックブルー１、Ｃ．Ｉ．ベイシックブルー
３、Ｃ．Ｉ．ベイシックブルー９及びＣ．Ｉ．ベイシッ
クブルー２５等が挙げられる。
【０１０３】緑色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドグリーン３、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン９、Ｃ．
Ｉ．アシッドグリーン１６、Ｃ．Ｉ．ベイシックグリー
ン１及びＣ．Ｉ．ベイシックグリーン４等が挙げられ
る。茶色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブ
ラウン６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン５８、Ｃ．Ｉ．
ダイレクトブラウン９５、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン
１０１、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン１７３、Ｃ．Ｉ．
アシッドブラウン１４等が挙げられる。
ッドグリーン３、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン９、Ｃ．
Ｉ．アシッドグリーン１６、Ｃ．Ｉ．ベイシックグリー
ン１及びＣ．Ｉ．ベイシックグリーン４等が挙げられ
る。茶色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブ
ラウン６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン５８、Ｃ．Ｉ．
ダイレクトブラウン９５、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン
１０１、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン１７３、Ｃ．Ｉ．
アシッドブラウン１４等が挙げられる。
【０１０４】また、ブラックストライプ又はブラックマ
トリックス等の遮光膜の形成する場合等には、例えば、
カーボンブラック、チタンブラック、酸化クロム、酸化
鉄、アニリンブラック、ペリレン系顔料、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドブラック５１、Ｃ．Ｉ．アシッドブラック５２、
Ｃ．Ｉ．ベイシックブラック２及びＣ．Ｉ．ソルベント
ブラック１２３等が用いられる。着色剤を使用する場
合、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計重量と着色剤との使用重量
比｛（Ｂ＋Ｃ）：（着色剤）｝は、０．２：１〜４：１
が好ましく、さらに好ましくは０．３：１〜２：１であ
る。
トリックス等の遮光膜の形成する場合等には、例えば、
カーボンブラック、チタンブラック、酸化クロム、酸化
鉄、アニリンブラック、ペリレン系顔料、Ｃ．Ｉ．アシ
ッドブラック５１、Ｃ．Ｉ．アシッドブラック５２、
Ｃ．Ｉ．ベイシックブラック２及びＣ．Ｉ．ソルベント
ブラック１２３等が用いられる。着色剤を使用する場
合、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計重量と着色剤との使用重量
比｛（Ｂ＋Ｃ）：（着色剤）｝は、０．２：１〜４：１
が好ましく、さらに好ましくは０．３：１〜２：１であ
る。
【０１０５】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物には、必要により溶媒を配合できる。溶媒としては、
例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテル、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレング
リコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコール
ジアルキルエーテル、エチレングリコールアルキルエー
テルアセテート、プロピレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート、芳香族炭化水素、カーボネート、ケト
ン、アルコール、エステル、環状エステル及びこれらの
混合物等が使用できる。エチレングリコールモノアルキ
ルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノプロピルエーテル及びエチ
レングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
物には、必要により溶媒を配合できる。溶媒としては、
例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテル、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレング
リコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコール
ジアルキルエーテル、エチレングリコールアルキルエー
テルアセテート、プロピレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート、芳香族炭化水素、カーボネート、ケト
ン、アルコール、エステル、環状エステル及びこれらの
混合物等が使用できる。エチレングリコールモノアルキ
ルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノプロピルエーテル及びエチ
レングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【０１０６】ジエチレングリコールジアルキルエーテル
としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジプロピルエーテル及びジエチレングリ
コールジブチルエーテル等が挙げられる。プロピレング
リコールモノアルキルエーテルとしては、例えば、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリ
コールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモ
ノブチルエーテル等が挙げられる。プロピレングリコー
ルジアルキルエーテルとしては、例えば、プロピレング
リコールジメチルエーテル及びプロピレングリコールジ
エチルエーテル等が挙げられる。
としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジプロピルエーテル及びジエチレングリ
コールジブチルエーテル等が挙げられる。プロピレング
リコールモノアルキルエーテルとしては、例えば、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリ
コールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモ
ノブチルエーテル等が挙げられる。プロピレングリコー
ルジアルキルエーテルとしては、例えば、プロピレング
リコールジメチルエーテル及びプロピレングリコールジ
エチルエーテル等が挙げられる。
【０１０７】エチレングリコールアルキルエーテルアセ
テートとしては、例えば、メチルセロソルブアセテート
及びエチルセロソルブアセテート等が挙げられる。プロ
ピレングリコールアルキルエーテルアセテートとして
は、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート及びプロピレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート等が挙げられる。芳香族炭化水素として
は、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等が挙げ
られる。
テートとしては、例えば、メチルセロソルブアセテート
及びエチルセロソルブアセテート等が挙げられる。プロ
ピレングリコールアルキルエーテルアセテートとして
は、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート及びプロピレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート等が挙げられる。芳香族炭化水素として
は、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等が挙げ
られる。
【０１０８】カーボネートとしては、例えば、炭酸メチ
ル、炭酸エチル、炭酸プロピル及び炭酸ブチル等が挙げ
られる。ケトンとしては、例えば、メチルエチルケト
ン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチル
ケトン及びシクロヘキサノン等が挙げられる。アルコー
ルとしては、例えば、エタノール、プロパノール、ブタ
ノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレン
グリコール、グリセリン及び２−メトキシエタノール等
が挙げられる。
ル、炭酸エチル、炭酸プロピル及び炭酸ブチル等が挙げ
られる。ケトンとしては、例えば、メチルエチルケト
ン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチル
ケトン及びシクロヘキサノン等が挙げられる。アルコー
ルとしては、例えば、エタノール、プロパノール、ブタ
ノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレン
グリコール、グリセリン及び２−メトキシエタノール等
が挙げられる。
【０１０９】エステルとしては、例えば、酢酸ブチル、
乳酸エチル、２−メトキシブチルアセテート、３−メト
キシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテー
ト、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−
メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−
３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルア
セテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポ
キシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテー
ト、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペ
ンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチル
アセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテ
ート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート及
び４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート等が挙
げられる。
乳酸エチル、２−メトキシブチルアセテート、３−メト
キシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテー
ト、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−
メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−
３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルア
セテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポ
キシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテー
ト、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペ
ンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチル
アセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテ
ート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート及
び４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート等が挙
げられる。
【０１１０】環状エステルとしては、例えば、γ−ブチ
ロラクトン等が挙げられる。これらの溶媒の中で、アル
コール、エステル、エチレングリコールモノアルキルエ
ーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト及びブチルアセテートが好ましく、さらに好ましくは
アルコール及びエステルである。溶媒を使用する場合、
溶媒の使用量は、（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体
組成物（溶媒を含む）の重量に対して、６０〜９０重量
％が好ましく、さらに好ましくは、６５〜８０重量％で
ある。
ロラクトン等が挙げられる。これらの溶媒の中で、アル
コール、エステル、エチレングリコールモノアルキルエ
ーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト及びブチルアセテートが好ましく、さらに好ましくは
アルコール及びエステルである。溶媒を使用する場合、
溶媒の使用量は、（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体
組成物（溶媒を含む）の重量に対して、６０〜９０重量
％が好ましく、さらに好ましくは、６５〜８０重量％で
ある。
【０１１１】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物は、必要により、バインダーを使用できる。バインダ
ーとしては、公知のものが使用できるが、アクリルモノ
マーの（共）重合体（Ｍｗ１，０００〜２００，００
０）が好ましい。
物は、必要により、バインダーを使用できる。バインダ
ーとしては、公知のものが使用できるが、アクリルモノ
マーの（共）重合体（Ｍｗ１，０００〜２００，００
０）が好ましい。
【０１１２】アクリルモノマーとしては、例えば、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、ヒドロキシフェニルアクリレート、ヒドロキシフ
ェニルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキ
シメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボ
ルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ス
チレン、アクリルアミド及びアクリロニトリル等が挙げ
られる。バインダーを使用する場合、バインダーの使用
量は、（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成物（バ
インダーを含む）の重量に対して、３〜１５重量％が好
ましく、さらに好ましくは５〜１２重量％である。
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、ヒドロキシフェニルアクリレート、ヒドロキシフ
ェニルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキ
シメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボ
ルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ス
チレン、アクリルアミド及びアクリロニトリル等が挙げ
られる。バインダーを使用する場合、バインダーの使用
量は、（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成物（バ
インダーを含む）の重量に対して、３〜１５重量％が好
ましく、さらに好ましくは５〜１２重量％である。
【０１１３】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物には、粘度を調整する目的で、一般式（１１）で表さ
れる反応性希釈剤（Ｄ）を配合することができる。
物には、粘度を調整する目的で、一般式（１１）で表さ
れる反応性希釈剤（Ｄ）を配合することができる。
【０１１４】
【化２６】
【０１１５】一般式（１１）において、Ｒ４は、ＨＯ−
Ｒ４−ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレン
ジオール、ポリエーテルジオール又はポリエステルジオ
ールから水酸基を除いた残基である。ＨＯ−Ｒ４−ＯＨ
で表されるアルキレンジオールとしては、例えば、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグ
リコール及び１，４−シクロヘキサンジオール等が挙げ
られる。ＨＯ−Ｒ４−ＯＨで表されるアリーレンジオー
ルとしては、例えば、カテコール、ビス（２−ヒドロキ
シフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
メタン及びビスフェノールＡ等が挙げられる。
Ｒ４−ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレン
ジオール、ポリエーテルジオール又はポリエステルジオ
ールから水酸基を除いた残基である。ＨＯ−Ｒ４−ＯＨ
で表されるアルキレンジオールとしては、例えば、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグ
リコール及び１，４−シクロヘキサンジオール等が挙げ
られる。ＨＯ−Ｒ４−ＯＨで表されるアリーレンジオー
ルとしては、例えば、カテコール、ビス（２−ヒドロキ
シフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
メタン及びビスフェノールＡ等が挙げられる。
【０１１６】ＨＯ−Ｒ４−ＯＨで表されるポリエーテル
ジオールとしては、例えば、ポリ（オキシエチレン）ジ
オール、ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オ
キシテトラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエ
チレンオキサイド付加物及びビスフェノールＡのプロピ
レンオキサイド付加物等が挙げられる。ＨＯ−Ｒ４−Ｏ
Ｈで表されるポリエステルジオールとしては、例えば、
ポリ（エチレンアジペート）ジオール、ポリ（ブチレン
イソフタレート）ジオール及びポリカプロラクトンジオ
ール等が挙げられる。これらのうち好ましくは、ＨＯ−
Ｒ４−ＯＨで表されるポリ（オキシエチレン）ジオール
及びポリ（オキシプロピレン）ジオールである。
ジオールとしては、例えば、ポリ（オキシエチレン）ジ
オール、ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オ
キシテトラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエ
チレンオキサイド付加物及びビスフェノールＡのプロピ
レンオキサイド付加物等が挙げられる。ＨＯ−Ｒ４−Ｏ
Ｈで表されるポリエステルジオールとしては、例えば、
ポリ（エチレンアジペート）ジオール、ポリ（ブチレン
イソフタレート）ジオール及びポリカプロラクトンジオ
ール等が挙げられる。これらのうち好ましくは、ＨＯ−
Ｒ４−ＯＨで表されるポリ（オキシエチレン）ジオール
及びポリ（オキシプロピレン）ジオールである。
【０１１７】一般式（１１）において、Ｒ５としては、
水素原子、アルキル基、アリール基、アルアルキル基、
シクロアルキル基又は複素環基を表す。アルキル基、ア
リール基及びアルアルキル基としては、一般式（３）で
用いられているものを使用できる。シクロアルキル基と
しては、炭素数４〜２０（好ましくは５〜１０）のシク
ロアルキル基が使用でき、例えば、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、［４，０，４］ジ
シクロデシル基及びシクロヘプチル基等が挙げられる。
複素環基としては、炭素数３〜２０の複素環基が使用で
き、例えば、１，３−ジオキソリル−２−オン基、ピリ
ジル基、ピロリル基、フリル基、チオニル基、イミダゾ
リル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、ピロリジル基、
ピリミジル基、キノリル基、イソキノリル基及びカルバ
ゾリル基等が挙げられる。反応性希釈剤（Ｄ）のＭｗ
は、５００未満が好ましく、さらに好ましくはＭｗ１０
０〜４００である。反応性希釈剤（Ｄ）を使用する場
合、（Ｄ）の使用量は、（Ｂ）及び（Ｄ）の合計量に対
して、５〜６０重量％が好ましく、さらに好ましくは１
０〜３０重量％である。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルアルキル基、
シクロアルキル基又は複素環基を表す。アルキル基、ア
リール基及びアルアルキル基としては、一般式（３）で
用いられているものを使用できる。シクロアルキル基と
しては、炭素数４〜２０（好ましくは５〜１０）のシク
ロアルキル基が使用でき、例えば、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、［４，０，４］ジ
シクロデシル基及びシクロヘプチル基等が挙げられる。
複素環基としては、炭素数３〜２０の複素環基が使用で
き、例えば、１，３−ジオキソリル−２−オン基、ピリ
ジル基、ピロリル基、フリル基、チオニル基、イミダゾ
リル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、ピロリジル基、
ピリミジル基、キノリル基、イソキノリル基及びカルバ
ゾリル基等が挙げられる。反応性希釈剤（Ｄ）のＭｗ
は、５００未満が好ましく、さらに好ましくはＭｗ１０
０〜４００である。反応性希釈剤（Ｄ）を使用する場
合、（Ｄ）の使用量は、（Ｂ）及び（Ｄ）の合計量に対
して、５〜６０重量％が好ましく、さらに好ましくは１
０〜３０重量％である。
【０１１８】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物においては、ビニル化合物（Ｅ）及び／又はアリル化
合物（Ｆ）を使用することができる。また、この重合体
組成物中に公知の光ラジカル重合開始剤を含有させても
よい。ビニル化合物（Ｅ）としては、公知のビニル化合
物が使用でき、例えば、スチレン、α−メチルスチレ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルエーテル、（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリレート及び（メタ）ア
クリレートオリゴマー等が挙げられる。ビニルエーテル
としては、例えば、エチレングリコールモノビニルエー
テル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、ト
リエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレング
リコールジビニルエーテル及びトリメチロールプロパン
トリビニルエーテル等が挙げられる。
物においては、ビニル化合物（Ｅ）及び／又はアリル化
合物（Ｆ）を使用することができる。また、この重合体
組成物中に公知の光ラジカル重合開始剤を含有させても
よい。ビニル化合物（Ｅ）としては、公知のビニル化合
物が使用でき、例えば、スチレン、α−メチルスチレ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルエーテル、（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリレート及び（メタ）ア
クリレートオリゴマー等が挙げられる。ビニルエーテル
としては、例えば、エチレングリコールモノビニルエー
テル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、ト
リエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレング
リコールジビニルエーテル及びトリメチロールプロパン
トリビニルエーテル等が挙げられる。
【０１１９】（メタ）アクリレートとしては、例えば、
メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパンジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート及びトリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。（メタ）アクリレー
トオリゴマーとしては、Ｍｗ１，０００〜５０，０００
の反応性基を有するポリ（メタ）アクリレート等が挙げ
られる。反応性基としてはイソシアネート基及びグリシ
ジル基等が挙げられる。
メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパンジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート及びトリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。（メタ）アクリレー
トオリゴマーとしては、Ｍｗ１，０００〜５０，０００
の反応性基を有するポリ（メタ）アクリレート等が挙げ
られる。反応性基としてはイソシアネート基及びグリシ
ジル基等が挙げられる。
【０１２０】アリル化合物（Ｆ）としては、公知のアリ
ル化合物が使用でき、例えば、エチレングリコールモノ
アリルエーテル、トリエチレングリコールモノアリルエ
ーテル、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル、
ジアリルエーテル、エチレングリコールジアリルエーテ
ル、テトラアリロキシエタン、トリアリロキシエタン、
エチレングリコールジアリルエーテル、アリルグリシジ
ルエーテル、アリルアルコール、トリメチロールプロパ
ントリアリルエーテル、トリメチロールプロパンジアリ
ルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル
及びペンタエリスリトールテトラアリルエーテル等が挙
げられる。光ラジカル開始剤としては、公知のものが使
用でき、例えば、ベンゾインアルキルエーテル系開始
剤、アセトフェノン系開始剤及びアントラキノン系開始
剤等が用いられる。
ル化合物が使用でき、例えば、エチレングリコールモノ
アリルエーテル、トリエチレングリコールモノアリルエ
ーテル、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル、
ジアリルエーテル、エチレングリコールジアリルエーテ
ル、テトラアリロキシエタン、トリアリロキシエタン、
エチレングリコールジアリルエーテル、アリルグリシジ
ルエーテル、アリルアルコール、トリメチロールプロパ
ントリアリルエーテル、トリメチロールプロパンジアリ
ルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル
及びペンタエリスリトールテトラアリルエーテル等が挙
げられる。光ラジカル開始剤としては、公知のものが使
用でき、例えば、ベンゾインアルキルエーテル系開始
剤、アセトフェノン系開始剤及びアントラキノン系開始
剤等が用いられる。
【０１２１】ベンゾインアルキルエーテル系開始剤とし
ては、例えば、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾイ
ンイソブチルエーテル等が挙げられる。アセトフェノン
系開始剤としては、例えば、２，２−ジエトキシアセト
フェノン等が挙げられる。アントラキノン系開始剤とし
ては、例えば、ベンジルジメチルケタール等が挙げられ
る。（Ｅ）及び／又は（Ｆ）を使用する場合、（Ｅ）及
び／又は（Ｆ）の使用量は、（Ｂ）１００重量部に対し
て、１〜３００重量部が好ましく、さらに好ましくは５
〜２００重量部である。光ラジカル開始剤を使用する場
合、光ラジカル開始剤の使用量は、（Ｅ）及び（Ｆ）と
の合計量に対して、１〜４０重量％が好ましく、さらに
好ましくは２〜２０重量％である。
ては、例えば、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾイ
ンイソブチルエーテル等が挙げられる。アセトフェノン
系開始剤としては、例えば、２，２−ジエトキシアセト
フェノン等が挙げられる。アントラキノン系開始剤とし
ては、例えば、ベンジルジメチルケタール等が挙げられ
る。（Ｅ）及び／又は（Ｆ）を使用する場合、（Ｅ）及
び／又は（Ｆ）の使用量は、（Ｂ）１００重量部に対し
て、１〜３００重量部が好ましく、さらに好ましくは５
〜２００重量部である。光ラジカル開始剤を使用する場
合、光ラジカル開始剤の使用量は、（Ｅ）及び（Ｆ）と
の合計量に対して、１〜４０重量％が好ましく、さらに
好ましくは２〜２０重量％である。
【０１２２】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物は、必要に応じて、エポキシ樹脂（例えば、ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ
樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、
ノボラック型エポキシ樹脂等）、無機充填剤、非反応性
樹脂、その他各種添加剤を添加することができる。
物は、必要に応じて、エポキシ樹脂（例えば、ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ
樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、
ノボラック型エポキシ樹脂等）、無機充填剤、非反応性
樹脂、その他各種添加剤を添加することができる。
【０１２３】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物は、公知の方法で容易に得ることができ、例えば、
（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）等を
同時に投入し、万能混練機で混合する方法、（Ｂ）、
（Ｄ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）とを混合した後、
（Ｃ）及び／又はラジカル重合開始剤等を加えて万能混
練機で混合する方法、（Ｂ）、着色剤、溶媒を混合した
後、（Ｃ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）等を加えて万能混
練機で混合する方法等が挙げられる。
物は、公知の方法で容易に得ることができ、例えば、
（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）等を
同時に投入し、万能混練機で混合する方法、（Ｂ）、
（Ｄ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）とを混合した後、
（Ｃ）及び／又はラジカル重合開始剤等を加えて万能混
練機で混合する方法、（Ｂ）、着色剤、溶媒を混合した
後、（Ｃ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）等を加えて万能混
練機で混合する方法等が挙げられる。
【０１２４】また、（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合
体組成物は、紫外線又は電子線を照射することにより容
易に硬化させて成型体を得ることができる。紫外線照射
装置としては、特に限定されず、例えば、高圧水銀ラン
プ、超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ及びメタルハラ
イドランプ等が使用できる。電子線照射装置としては、
特に限定されず、例えば、走査型照射装置（例えば、日
新電機社製）及びカーテン型照射装置（例えば、岩崎電
機社製）等が使用できる。
体組成物は、紫外線又は電子線を照射することにより容
易に硬化させて成型体を得ることができる。紫外線照射
装置としては、特に限定されず、例えば、高圧水銀ラン
プ、超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ及びメタルハラ
イドランプ等が使用できる。電子線照射装置としては、
特に限定されず、例えば、走査型照射装置（例えば、日
新電機社製）及びカーテン型照射装置（例えば、岩崎電
機社製）等が使用できる。
【０１２５】（Ｂ）と（Ｃ）とを含んでなる重合体組成
物は、金属（例えば、鉄、アルミニウム、チタン、銅
等）、プラスチック（例えば、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリアクリレート等）、紙、
ガラス、ゴム、木材等の各種材料に対するコーティング
剤、塗料、印刷インキ、レジスト材料、接着剤や成形材
料等の多方面に応用できる。特に、プリント配線基板用
レジスト、顔料分散レジスト、印刷インキ、塗料、紙用
コーティング剤、金属用コーティング剤、光ファイバー
用コーティング剤、ハードコート剤及び接着剤として好
適である。
物は、金属（例えば、鉄、アルミニウム、チタン、銅
等）、プラスチック（例えば、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリアクリレート等）、紙、
ガラス、ゴム、木材等の各種材料に対するコーティング
剤、塗料、印刷インキ、レジスト材料、接着剤や成形材
料等の多方面に応用できる。特に、プリント配線基板用
レジスト、顔料分散レジスト、印刷インキ、塗料、紙用
コーティング剤、金属用コーティング剤、光ファイバー
用コーティング剤、ハードコート剤及び接着剤として好
適である。
【０１２６】
【実施例】以下、実施例を以て本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。 製造例１ ＳＵＳ製オートクレーブにアリルグリシジルエーテル１
００重量部及びトリス（トリフェニルフォスフィン）ル
テニウム（ＩＩ）クロライド０．３重量部を加え、１３
０℃で５時間転位反応させ、プロペニルグリシジルエー
テル（Ｇ１）１００重量部を得た。反応容器に得られた
プロペニルグリシジルエーテル（Ｇ１）１００重量部、
グリシドール１００重量部及びピリジン４重量部を仕込
み、６０℃で６時間反応させてポリエーテル重合体（Ｇ
２）を得た。その後、シュウ酸７０重量部を加え、１０
０℃で６時間反応させ、水酸基をエステル化し、プロペ
ニルエーテル基とカルボキシル基を有するポリマー混合
物を得た。次いで、系内の過剰のシュウ酸を除去するた
め、反応物に水を加えて水洗し、プロペニルエーテル基
とカルボキシル基とを有するポリエーテルオリゴマーで
ある本発明の重合体（Ｂ１）１５０重量部を得た。Ｂ１
は、１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲにより確認した。
Ｂ１のＳＰＡは９．３７、ＳＰＫは１５．２、Ｍｗ＝
７，０００であった。
るが、本発明はこれらに限定されない。 製造例１ ＳＵＳ製オートクレーブにアリルグリシジルエーテル１
００重量部及びトリス（トリフェニルフォスフィン）ル
テニウム（ＩＩ）クロライド０．３重量部を加え、１３
０℃で５時間転位反応させ、プロペニルグリシジルエー
テル（Ｇ１）１００重量部を得た。反応容器に得られた
プロペニルグリシジルエーテル（Ｇ１）１００重量部、
グリシドール１００重量部及びピリジン４重量部を仕込
み、６０℃で６時間反応させてポリエーテル重合体（Ｇ
２）を得た。その後、シュウ酸７０重量部を加え、１０
０℃で６時間反応させ、水酸基をエステル化し、プロペ
ニルエーテル基とカルボキシル基を有するポリマー混合
物を得た。次いで、系内の過剰のシュウ酸を除去するた
め、反応物に水を加えて水洗し、プロペニルエーテル基
とカルボキシル基とを有するポリエーテルオリゴマーで
ある本発明の重合体（Ｂ１）１５０重量部を得た。Ｂ１
は、１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲにより確認した。
Ｂ１のＳＰＡは９．３７、ＳＰＫは１５．２、Ｍｗ＝
７，０００であった。
【０１２７】製造例２ ＳＵＳ製オートクレーブに、メタクリル酸メチル２０重
量部、イソシアネート基を有するビニルモノマー（商品
名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）４０重量部、過酸
化ベンゾイル１重量部及びシクロヘキサノン３００重量
部を仕込み、６０℃で６時間反応させ、イソシアネート
基を有するビニル共重合体（Ｇ３）を得た。また、反応
容器に、２−アリルオキシエタノール１０２重量部を仕
込み、触媒としてトリス（トリフェニルフォスフィン）
ルテニウム（ＩＩ）クロライド０．３重量部を添加し、
９０℃で１５分転位反応させた。この生成物を１４０℃
で蒸留して、２−プロペノキシエタノール９５重量部を
得た（Ｇ４）。反応容器にビニル共重合体（Ｇ３）５０
重量部、ジブチルチンオキサイド０．１重量部及び２−
プロペノキシエタノール（Ｇ４）８重量部を仕込み、６
０℃で５時間加熱した。その後、グリコール酸６重量部
及びジブチルチンオキサイド０．１重量部を加えて、イ
ソシアネート基がなくなるまで、２５℃で反応させ、プ
ロペニルエーテル基とカルボキシル基を有するポリビニ
ル化合物である本発明の重合体（Ｂ２）６０重量部を得
た。生成物は１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲにより確
認した。Ｂ２のＳＰＡは７．２８、ＳＰＫは１５．２、
Ｍｗは１５，０００であった。
量部、イソシアネート基を有するビニルモノマー（商品
名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）４０重量部、過酸
化ベンゾイル１重量部及びシクロヘキサノン３００重量
部を仕込み、６０℃で６時間反応させ、イソシアネート
基を有するビニル共重合体（Ｇ３）を得た。また、反応
容器に、２−アリルオキシエタノール１０２重量部を仕
込み、触媒としてトリス（トリフェニルフォスフィン）
ルテニウム（ＩＩ）クロライド０．３重量部を添加し、
９０℃で１５分転位反応させた。この生成物を１４０℃
で蒸留して、２−プロペノキシエタノール９５重量部を
得た（Ｇ４）。反応容器にビニル共重合体（Ｇ３）５０
重量部、ジブチルチンオキサイド０．１重量部及び２−
プロペノキシエタノール（Ｇ４）８重量部を仕込み、６
０℃で５時間加熱した。その後、グリコール酸６重量部
及びジブチルチンオキサイド０．１重量部を加えて、イ
ソシアネート基がなくなるまで、２５℃で反応させ、プ
ロペニルエーテル基とカルボキシル基を有するポリビニ
ル化合物である本発明の重合体（Ｂ２）６０重量部を得
た。生成物は１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲにより確
認した。Ｂ２のＳＰＡは７．２８、ＳＰＫは１５．２、
Ｍｗは１５，０００であった。
【０１２８】製造例３ ＳＵＳ製オートクレーブに、プロペニルグリシジルエー
テル（Ｇ１）１００重量部及びピリジン３重量部を仕込
み、８０℃で３時間反応させ、側鎖にプロペニルエーテ
ル基を有するポリエーテル化合物（Ｇ５）１００重量部
を得た。反応容器にエピクロルヒドリン１００重量部、
シアン化ナトリウム５０重量部及びジメチルスルホキシ
ド３００重量部を加え、５０℃で３時間反応させ、側鎖
にニトリル基を有するグリシジルエーテル（Ｇ６）４３
０重量部を得た。反応容器にニトリル基を持つグリシジ
ルエーテル（Ｇ６）１００重量部及びピリジン５重量部
を仕込み、６０℃で５時間反応させ、側鎖にニトリル基
を有するポリエーテル化合物（Ｇ７）９５重量部を得
た。ＳＵＳ製オートクレーブにアジピン酸１００重量
部、側鎖にプロペニルエーテル基を有するポリエーテル
化合物（Ｇ５）５０重量部、及び側鎖にニトリル基を持
つポリエーテル化合物（Ｇ７）５０重量部を仕込み、生
成する水を減圧除去しながら、１５０℃で６時間反応さ
せ、プロペニルエーテル基とニトリル基を有するポリエ
ステルである本発明の重合体（Ｂ３）１９０重量部を得
た。Ｂ３のＳＰＡは１０．９、ＳＰＫは１５．９、Ｍｗ
は１２，０００であった。反応容器にプロペニルエーテ
ル基とニトリル基を有するポリエステル（Ｂ３）１００
重量部、アセトン２００重量部及び濃硫酸２０重量部を
加え、１４０℃で６時間加熱し、プロペニルエーテル基
とカルボキシル基を有するポリエステルである本発明の
重合体（Ｂ４）３００重量部を得た。Ｂ４のＳＰＡは１
０．９、ＳＰ Ｋは１５．２、Ｍｗは１２，０００であっ
た。
テル（Ｇ１）１００重量部及びピリジン３重量部を仕込
み、８０℃で３時間反応させ、側鎖にプロペニルエーテ
ル基を有するポリエーテル化合物（Ｇ５）１００重量部
を得た。反応容器にエピクロルヒドリン１００重量部、
シアン化ナトリウム５０重量部及びジメチルスルホキシ
ド３００重量部を加え、５０℃で３時間反応させ、側鎖
にニトリル基を有するグリシジルエーテル（Ｇ６）４３
０重量部を得た。反応容器にニトリル基を持つグリシジ
ルエーテル（Ｇ６）１００重量部及びピリジン５重量部
を仕込み、６０℃で５時間反応させ、側鎖にニトリル基
を有するポリエーテル化合物（Ｇ７）９５重量部を得
た。ＳＵＳ製オートクレーブにアジピン酸１００重量
部、側鎖にプロペニルエーテル基を有するポリエーテル
化合物（Ｇ５）５０重量部、及び側鎖にニトリル基を持
つポリエーテル化合物（Ｇ７）５０重量部を仕込み、生
成する水を減圧除去しながら、１５０℃で６時間反応さ
せ、プロペニルエーテル基とニトリル基を有するポリエ
ステルである本発明の重合体（Ｂ３）１９０重量部を得
た。Ｂ３のＳＰＡは１０．９、ＳＰＫは１５．９、Ｍｗ
は１２，０００であった。反応容器にプロペニルエーテ
ル基とニトリル基を有するポリエステル（Ｂ３）１００
重量部、アセトン２００重量部及び濃硫酸２０重量部を
加え、１４０℃で６時間加熱し、プロペニルエーテル基
とカルボキシル基を有するポリエステルである本発明の
重合体（Ｂ４）３００重量部を得た。Ｂ４のＳＰＡは１
０．９、ＳＰ Ｋは１５．２、Ｍｗは１２，０００であっ
た。
【０１２９】製造例４ ＳＵＳ製オートクレーブに、トリレンジイソシアネート
８０重量部、ジメチルホルムアミド２００重量部、側鎖
にプロペニルエーテル基を有するポリエーテル化合物
（Ｇ５）５０重量部、側鎖にニトリル基を持つポリエー
テル化合物（Ｇ７）５０重量部、及びジブチルチンオキ
サイド０．２重量部を仕込み、６０℃で６時間反応さ
せ、プロペニルエーテル基とニトリル基を有するポリウ
レタンである本発明の重合体（Ｂ５）３６０重量部を得
た。Ｂ５のＳＰＡは１３．２、ＳＰＫは１５．９、Ｍｗ
＝２１，０００であった。ＳＵＳ製オートクレーブにプ
ロペニルエーテル基とニトリル基を有するポリウレタン
化合物（Ｂ５）２００重量部及び濃硫酸２０重量部を仕
込み、１４０℃で６時間還流し、プロペニルエーテル基
とカルボキシル基を有するポリウレタンである本発明の
重合体（Ｂ６）２００重量部を得た。Ｂ６のＳＰＡは１
３．２、ＳＰ Ｋは１５．２、Ｍｗ＝２１，０００であっ
た。
８０重量部、ジメチルホルムアミド２００重量部、側鎖
にプロペニルエーテル基を有するポリエーテル化合物
（Ｇ５）５０重量部、側鎖にニトリル基を持つポリエー
テル化合物（Ｇ７）５０重量部、及びジブチルチンオキ
サイド０．２重量部を仕込み、６０℃で６時間反応さ
せ、プロペニルエーテル基とニトリル基を有するポリウ
レタンである本発明の重合体（Ｂ５）３６０重量部を得
た。Ｂ５のＳＰＡは１３．２、ＳＰＫは１５．９、Ｍｗ
＝２１，０００であった。ＳＵＳ製オートクレーブにプ
ロペニルエーテル基とニトリル基を有するポリウレタン
化合物（Ｂ５）２００重量部及び濃硫酸２０重量部を仕
込み、１４０℃で６時間還流し、プロペニルエーテル基
とカルボキシル基を有するポリウレタンである本発明の
重合体（Ｂ６）２００重量部を得た。Ｂ６のＳＰＡは１
３．２、ＳＰ Ｋは１５．２、Ｍｗ＝２１，０００であっ
た。
【０１３０】比較製造例１ ＳＵＳ製オートクレーブにメタクリル酸２０重量部、
Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン２０重量部を仕込
み、８０℃で３時間反応させ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
エチルメタクリレート（Ｇ８）３８重量部を得た。ＳＵ
Ｓ製オートクレーブに、イソシネート基を有するビニル
モノマー（商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）４
０重量部、（Ｇ８）３０重量部、過酸化ベンゾイル１重
量部及びシクロヘキサノン３００重量部を仕込み、６０
℃で６時間反応させ、イソシアネート基とＮ，Ｎ−ジメ
チルアミノ基とを有するビニル共重合体（Ｇ９）を得
た。ガラス製コルベンに、（Ｇ９）４０重量部、ジブチ
ルチンオキサイド０．１重量部及び２−プロペノキシエ
タノール（Ｇ４）８重量部を仕込み、６０℃で５時間加
熱し、プロペニルエーテル基及びＮ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ基とを有する比較用の重合体（Ｇ１０）を得た。生成
物は、１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲにより確認し
た。なお、Ｇ１０のＳＰｋは７．４９、ＳＰＡは７．２
８であり、Ｍｗは７，０００であった。
Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン２０重量部を仕込
み、８０℃で３時間反応させ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
エチルメタクリレート（Ｇ８）３８重量部を得た。ＳＵ
Ｓ製オートクレーブに、イソシネート基を有するビニル
モノマー（商品名：カレンズＭＯＩ、昭和電工社製）４
０重量部、（Ｇ８）３０重量部、過酸化ベンゾイル１重
量部及びシクロヘキサノン３００重量部を仕込み、６０
℃で６時間反応させ、イソシアネート基とＮ，Ｎ−ジメ
チルアミノ基とを有するビニル共重合体（Ｇ９）を得
た。ガラス製コルベンに、（Ｇ９）４０重量部、ジブチ
ルチンオキサイド０．１重量部及び２−プロペノキシエ
タノール（Ｇ４）８重量部を仕込み、６０℃で５時間加
熱し、プロペニルエーテル基及びＮ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ基とを有する比較用の重合体（Ｇ１０）を得た。生成
物は、１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲにより確認し
た。なお、Ｇ１０のＳＰｋは７．４９、ＳＰＡは７．２
８であり、Ｍｗは７，０００であった。
【０１３１】実施例１ 表１に記載の組成割合で各成分をプラネタリーミキサー
を用いて３０分間プレミックスした後、３本ロールミル
で１時間分散・混練し、本発明の重合体組成物を得た。現像性評価用サンプル 上記で得た重合体組成物を、厚さ２ｍｍの清浄な表面を
有するガラス基板上に、スピンコーターを用いて乾燥膜
厚２μｍとなるように塗布し、５０℃、真空下（真空度
０．５ｍｍＨｇ）で５分間乾燥させて光硬化性樹脂層を
形成した。その後、該光硬化性樹脂層上に線幅１０μｍ
〜２００μｍ、長さ５ｍｍの直線状のポジ型の櫛形パタ
ーンを持つフォトマスク（ライン幅及びスペース幅共
に、２５、５０、１００、２００μｍの４種類のパター
ン）を密着させ、高圧水銀灯（１ｋＷ）を用いて、１０
０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を全面照射して露光した後、炭
酸ナトリウム０．５％水溶液で２５℃、６０秒間スプレ
ー現像して現像性評価用サンプルを作成し、以下の評価
方法に従い評価しその結果を表１に示す。密着性評価用サンプル 上記で得た重合体組成物を、厚さ２ｍｍの清浄な表面を
有する各種基材上にナイフコーターを用いて乾燥膜厚２
０μｍとなるように塗布し、５０℃、真空下（真空度
０．５ｍｍＨｇ）で３０分間乾燥させて光硬化性樹脂層
を形成した。次いで、該光硬化性樹脂層に、高圧水銀灯
（１ｋＷ）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を全
面照射・露光して密着性評価用サンプルを作成し、以下
の評価方法に従い評価しその結果を表１に示す。
を用いて３０分間プレミックスした後、３本ロールミル
で１時間分散・混練し、本発明の重合体組成物を得た。現像性評価用サンプル 上記で得た重合体組成物を、厚さ２ｍｍの清浄な表面を
有するガラス基板上に、スピンコーターを用いて乾燥膜
厚２μｍとなるように塗布し、５０℃、真空下（真空度
０．５ｍｍＨｇ）で５分間乾燥させて光硬化性樹脂層を
形成した。その後、該光硬化性樹脂層上に線幅１０μｍ
〜２００μｍ、長さ５ｍｍの直線状のポジ型の櫛形パタ
ーンを持つフォトマスク（ライン幅及びスペース幅共
に、２５、５０、１００、２００μｍの４種類のパター
ン）を密着させ、高圧水銀灯（１ｋＷ）を用いて、１０
０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を全面照射して露光した後、炭
酸ナトリウム０．５％水溶液で２５℃、６０秒間スプレ
ー現像して現像性評価用サンプルを作成し、以下の評価
方法に従い評価しその結果を表１に示す。密着性評価用サンプル 上記で得た重合体組成物を、厚さ２ｍｍの清浄な表面を
有する各種基材上にナイフコーターを用いて乾燥膜厚２
０μｍとなるように塗布し、５０℃、真空下（真空度
０．５ｍｍＨｇ）で３０分間乾燥させて光硬化性樹脂層
を形成した。次いで、該光硬化性樹脂層に、高圧水銀灯
（１ｋＷ）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を全
面照射・露光して密着性評価用サンプルを作成し、以下
の評価方法に従い評価しその結果を表１に示す。
【０１３２】＜評価方法＞ 現像性：各パターン（２５、５０、１００、２００μ
ｍ）のひび割れ、現像残りを以下の基準で評価した。 ○：ひび割れ、現像残り無し △：ひび割れ有り ×：ひび割れ、現像残り有り
ｍ）のひび割れ、現像残りを以下の基準で評価した。 ○：ひび割れ、現像残り無し △：ひび割れ有り ×：ひび割れ、現像残り有り
【０１３３】密着性：碁盤目試験（ＪＩＳ Ｋ５４００
−１９９０、８．５．２碁盤目テープ法）で評価した。
なお、対象基材は、ガラス板、鋼板、ＳＵＳ３０４を使
用した。
−１９９０、８．５．２碁盤目テープ法）で評価した。
なお、対象基材は、ガラス板、鋼板、ＳＵＳ３０４を使
用した。
【０１３４】実施例２〜１２ 表１に記載の組成割合で実施例１と同様にして、本発明
の重合体組成物を得た。次いで、該重合体組成物を用い
て、実施例１と同様にして、現像性評価用サンプルを作
成し、以下の評価方法に従い評価しその結果を表１に示
す。また、該光硬化性樹脂層を用いて、実施例１と同様
にして、密着性評価用サンプルを作成し、以下の評価方
法に従い評価しその結果を表１に示す。
の重合体組成物を得た。次いで、該重合体組成物を用い
て、実施例１と同様にして、現像性評価用サンプルを作
成し、以下の評価方法に従い評価しその結果を表１に示
す。また、該光硬化性樹脂層を用いて、実施例１と同様
にして、密着性評価用サンプルを作成し、以下の評価方
法に従い評価しその結果を表１に示す。
【０１３５】
【表１】
【０１３６】表１中、各記号等は、以下の通りである。 （Ｂ１） ：製造例１で得た本発明の重合体 （Ｂ２） ：製造例２で得た本発明の重合体 （Ｂ３） ：製造例３で得た本発明の重合体 （Ｂ４） ：製造例３で得た本発明の重合体 （Ｂ５） ：製造例４で得た本発明の重合体 （Ｂ６） ：製造例４で得た本発明の重合体 （Ｃ） ：光カチオン開始剤、商品名：ＣＩ−２８５
５（日本曹達社製） （Ｄ） ：反応性希釈剤 ４−（プロペニロキシメチル）−１，３−ジオキソラン
−２−オン （Ｅ） ：ビニル化合物：トリメチロールプロパンジ
アクリレート （Ｆ） ：アリル化合物：トリメチロールプロパンジ
アリルエーテル バインダー：アクリル酸・アクリル酸メチル共重合体 （モノマー重量比３０／７０、Ｍｗ：２０，０００） 増感剤 ：２，４−ジエチルチオキサントン 溶剤 ：シクロヘキサノン なお、（Ｃ）成分の光カチオン開始剤であるＣＩ−２８
５５（日本曹達社製）は以下のような化合物である。
５（日本曹達社製） （Ｄ） ：反応性希釈剤 ４−（プロペニロキシメチル）−１，３−ジオキソラン
−２−オン （Ｅ） ：ビニル化合物：トリメチロールプロパンジ
アクリレート （Ｆ） ：アリル化合物：トリメチロールプロパンジ
アリルエーテル バインダー：アクリル酸・アクリル酸メチル共重合体 （モノマー重量比３０／７０、Ｍｗ：２０，０００） 増感剤 ：２，４−ジエチルチオキサントン 溶剤 ：シクロヘキサノン なお、（Ｃ）成分の光カチオン開始剤であるＣＩ−２８
５５（日本曹達社製）は以下のような化合物である。
【０１３７】
【化２７】
【０１３８】比較例１〜５ 表２に記載の組成割合で実施例１と同様にして、比較用
の重合体組成物を得た。次いで、該重合体組成物を用い
て、実施例１と同様にして、現像性評価用サンプルを作
成し、実施例１と同様の評価方法に従い評価しその結果
を表２に示す。また、該光硬化性樹脂層を用いて、実施
例１と同様にして、密着性評価用サンプルを作成し、以
下の評価方法に従い評価しその結果を表２に示す。
の重合体組成物を得た。次いで、該重合体組成物を用い
て、実施例１と同様にして、現像性評価用サンプルを作
成し、実施例１と同様の評価方法に従い評価しその結果
を表２に示す。また、該光硬化性樹脂層を用いて、実施
例１と同様にして、密着性評価用サンプルを作成し、以
下の評価方法に従い評価しその結果を表２に示す。
【０１３９】
【表２】
【０１４０】表２中、各記号等は、以下の通りである。 （Ｇ５） ：製造例３で得たプロペニルエーテル基を有
するポリエーテル化合物 （Ｇ１０）：比較製造例１で得たプロペニルエーテル基
及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基とを有する比較用の重合
体 バインダー：アクリル酸・アクリル酸メチル共重合体 （モノマー重量比３０／７０、Ｍｗ：２０，０００） （Ｃ） ：光カチオン開始剤：ＣＩ−２８５５（日本
曹達社製） 増感剤 ：２，４−ジエチルチオキサントン 溶剤 ：シクロヘキサノン
するポリエーテル化合物 （Ｇ１０）：比較製造例１で得たプロペニルエーテル基
及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基とを有する比較用の重合
体 バインダー：アクリル酸・アクリル酸メチル共重合体 （モノマー重量比３０／７０、Ｍｗ：２０，０００） （Ｃ） ：光カチオン開始剤：ＣＩ−２８５５（日本
曹達社製） 増感剤 ：２，４−ジエチルチオキサントン 溶剤 ：シクロヘキサノン
【０１４１】
【発明の効果】本発明のプロペニルエーテル基含有重合
体は、従来のプロペニルエーテル基を含有したものより
も、各種基材に対する密着性とパターン形成能力（現像
性）に極めて優れるという特徴を有する。このことか
ら、本発明のプロペニルエーテル基含有重合体をレジス
ト材料、コーティング材料として用いると、従来に比べ
て現像性能、被膜特性を飛躍的に高めることができ、産
業上極めて有用である。
体は、従来のプロペニルエーテル基を含有したものより
も、各種基材に対する密着性とパターン形成能力（現像
性）に極めて優れるという特徴を有する。このことか
ら、本発明のプロペニルエーテル基含有重合体をレジス
ト材料、コーティング材料として用いると、従来に比べ
て現像性能、被膜特性を飛躍的に高めることができ、産
業上極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ ４Ｊ１００ 7/038 ６０１ 7/038 ６０１ // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00 (72)発明者 伊藤 浩光 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA04 AA14 AB15 AB17 AC01 AD01 BC19 BC23 BC42 BC65 BC67 BC83 BC84 CA48 CC11 DA19 4F071 AA31 AA43 AA51 AA54 AA78 AH12 BA07 BB02 BC01 BC07 4J011 QA02 QA03 QA05 QA06 QA08 QA09 QA20 QA26 QA37 SA31 SA51 SA63 SA84 SA87 SA88 UA01 VA01 WA01 WA02 WA03 4J027 AA02 AB03 AC07 AD02 AG36 BA04 BA05 BA06 BA07 BA17 CA34 CC05 CD03 CD08 CD10 4J031 CD01 CD05 CD09 CD10 4J100 CA31 HA62 HB39 HC13 HC51 HC90
Claims (9)
- 【請求項１】 側鎖を有する線状重合体であって、前記
側鎖として、化学式（１）で示されるプロペニルエーテ
ル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）、及び
Ｆｅｄｏｒｓ法によって計算される溶解度パラメーター
（ＳＰ値）が９．５〜３０である極性基（Ｋ）を少なく
とも１個含有する基（Ｑ２）、をそれぞれ少なくとも１
個ずつ有することを特徴とする重合体。 【化１】 - 【請求項２】 極性基（Ｋ）のＳＰ値（ＳＰＫ）と側鎖
（Ｑ１）及び側鎖（Ｑ２）以外の部分（Ａ）のＳＰ値
（ＳＰＡ）との差ΔＳＰ（＝ＳＰＫ−ＳＰＡ）が１〜２
０である請求項１記載の重合体。 - 【請求項３】 極性基（Ｋ）が、カルボキシル基、スル
ホ基、アミノ基、ホスホノ基、Ｍｗ８８〜１，４００の
ポリ（オキシエチレン）カルボキシル基、Ｍｗ１２４〜
１，４００のポリ（オキシエチレン）スルホ基、Ｍｗ６
０〜１，４００のポリ（オキシエチレン）アミノ基、Ｍ
ｗ１００〜１，４００のポリ（オキシエチレン）ホスホ
ノ基、アミド基、ニトロ基、ニトリル基、塩素原子、臭
素原子及びヨウ素原子からなる群より選択される少なく
とも１種である請求項１又は２記載の重合体。 - 【請求項４】 一般式（２）〜（１０）のいずれかで示
される構造を有してなる請求項１、２又は３記載の重合
体。 【化２】 一般式（２）において、ａ１及びａ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ａ３は０又は１〜２００の整
数を表す。また、Ａ１はプロペニルエーテル基（Ｐ）を
少なくとも１個含有する基（Ｑ１）を有するアルキレン
基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルアル
キレン基、Ｑ１を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有す
るグリシジルエーテル開環反応残基又はＱ１を有するグ
リシジルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、Ａ２
は極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ２）を
有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレン基、Ｑ２
を有するアルアルキレン基、Ｑ２を有するハロアルキレ
ン基、Ｑ２を有するグリシジルエーテル開環反応残基又
はＱ２を有するグリシジルエーテルの開環（共）重合体
残基を表し、Ａ３はアルキレン基、アリーレン基、アル
アルキレン基、ハロアルキレン基、オキシアルキレン
基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリシジルエ
ーテルの開環（共）重合体残基を表す。なお、（Ａ１−
Ｏ）、（Ａ２−Ｏ）及び（Ａ３−Ｏ）の並び方は、（Ａ
１−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）−（Ａ３−Ｏ）に限らず、（Ａ
２−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）−（Ａ３−Ｏ）、（Ａ１−Ｏ）
−（Ａ３−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）、（Ａ２−Ｏ）−（Ａ３
−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）、（Ａ３−Ｏ）−（Ａ１−Ｏ）−
（Ａ２−Ｏ）又は（Ａ３−Ｏ）−（Ａ２−Ｏ）−（Ａ１
−Ｏ）のブロック状でもよく、ランダム状又はランダム
状とブロック状の組合せでもよい。 【化３】 一般式（３）において、ｂ１及びｂ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｂ３は０又は１〜２００の整
数を表す。また、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原
子又はメチル基を表し、Ｑ１はプロペニルエーテル基
（Ｐ）を少なくとも１個含有する基を表し、Ｑ２は極性
基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基を表し、βは疎水
性基を表す。なお、（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）、（ＣＨ２
−ＣＲ２Ｑ２）及び（ＣＨ２−ＣＲ３β）の並び方は、
（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ２Ｑ２）−
（ＣＨ２−ＣＲ３β）に限らず、（ＣＨ２−ＣＲ
２Ｑ２）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ３
β）、（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２−ＣＲ３β）
−（ＣＨ ２−ＣＲ２Ｑ２）、（ＣＨ２−ＣＲ２Ｑ２）−
（ＣＨ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）、（Ｃ
Ｈ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）−（ＣＨ２
−ＣＲ２Ｑ２）又は（ＣＨ２−ＣＲ３β）−（ＣＨ２−
ＣＲ２Ｑ２）−（ＣＨ２−ＣＲ１Ｑ１）のブロック状で
もよく、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合
せでもよい。 【化４】 一般式（４）において、ｃ１及びｃ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｃ３は０又は１〜２００の整
数を表す。また、Ａ４は、プロペニルエーテル基（Ｐ）
を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）を有するアルキレ
ン基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルア
ルキレン基、Ｑ１を有するハロアルキレン基、Ｑ１を有
するグリシジルエーテル開環反応残基又はＱ１を有する
グリシジルエーテルの開環（共）重合体残基を表し、Ａ
６は極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ２）
を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレン基、Ｑ
２を有するアルアルキレン基、Ｑ２を有するハロアルキ
レン基、Ｑ２を有するグリシジルエーテル開環反応残基
又はＱ２を有するグリシジルエーテルの開環（共）重合
体残基を表し、Ａ８はアルキレン基、アリーレン基、ア
ルアルキレン基、ハロアルキレン基、オキシアルキレン
基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリシジルエ
ーテルの開環（共）重合体残基を表し、Ａ５、Ａ７及び
Ａ９はそれぞれアルキレン基、アリーレン基、アルアル
キレン基又はハロアルキレン基を表す。なお、（ＯＡ４
Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）、（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）及び
（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）の並び方は、（ＯＡ４Ｏ−
ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ
８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）に限らず、（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７
ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ８Ｏ−Ｃ
ＯＡ９ＣＯ）−、（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ
８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）、
（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９Ｃ
Ｏ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）、（ＯＡ８Ｏ−ＣＯ
Ａ９ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５ＣＯ）−（ＯＡ６Ｏ
−ＣＯＡ７ＣＯ）又は（ＯＡ８Ｏ−ＣＯＡ９ＣＯ）−
（ＯＡ６Ｏ−ＣＯＡ７ＣＯ）−（ＯＡ４Ｏ−ＣＯＡ５Ｃ
Ｏ）のブッロク状でもよく、ランダム状又はランダム状
とブロック状の組合せでもよい。 【化５】 一般式（５）において、ｄ１及びｄ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｄ３は０又は１〜２００の整
数を表す。また、Ａ１０は、プロペニルエーテル基
（Ｐ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）を有するア
ルキレン基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有する
アルアルキレン基又はＱ１を有するハロアルキレン基を
表す。Ａ１１は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有す
る基（Ｑ２）を有するアリーレン基、Ｑ２を有するアル
アルキレン基又はＱ２を有するハロアルキレン基を表
す。Ａ１２はアリーレン基、アルアルキレン基、ハロア
ルキレン基又はオキシアルキレン基を表す。なお、（Ｃ
Ｏ−Ａ１０Ｏ）、（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）及び（ＣＯ−Ａ
１２Ｏ）の並び方は、（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ
１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）に限らず、（ＣＯ−Ａ
１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）、
（ＣＯ−Ａ １０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ
１１Ｏ）、（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）−
（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）、（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）−（ＣＯ−Ａ
１０Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）又は（ＣＯ−Ａ１２Ｏ）
−（ＣＯ−Ａ１１Ｏ）−（ＣＯ−Ａ１０Ｏ）のブロック
状でもよく、ランダム状又はランダム状とブロック状の
組合せでもよい。 【化６】 一般式（６）において、ｅ１及びｅ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｅ３は０又は１〜２００の整
数を表す。また、Ａ１４は、プロペニルエーテル基
（Ｐ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ１）を有するア
ルキレン基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有する
アルアルキレン基、Ｑ１を有するハロアルキレン基、Ｑ
１を有するグリシジルエーテル開環反応残基又はＱ１を
有するグリシジルエーテルの開環（共）重合体残基を表
す。Ａ１６は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する
基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリー
レン基、Ｑ ２を有するアルアルキレン基、Ｑ２を有する
ハロアルキレン基、Ｑ２を有するグリシジルエーテル開
環反応残基又はＱ２を有するグリシジルエーテルの開環
（共）重合体残基を表す。Ａ１３、Ａ１５及びＡ
１７は、それぞれ、アルキレン基、アリーレン基、アル
アルキレン基、ハロアルキレン基、グリシジルエーテル
開環反応残基又はグリシジルエーテルの開環（共）重合
体残基を表す。Ａ１８は、アルキレン基、アリーレン
基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基、オキシアル
キレン基、グリシジルエーテル開環反応残基又はグリシ
ジルエーテルの開環（共）重合体残基を表す。なお、
（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）、（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）及び（ＣＯＮＨ−Ａ
１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）の並び方は、（ＣＯＮＨ−
Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１５Ｎ
ＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−
ＯＡ１８Ｏ）に限らず、（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−
ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４
Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）、
（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−（ＣＯＮ
Ｈ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１
５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１５ＮＨＣ
Ｏ−ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ
１８Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ
１ ４Ｏ）、（ＣＯＮＨ−Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）
−（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−ＯＡ１４Ｏ）−（ＣＯ
ＮＨ−Ａ１５ＮＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）又は（ＣＯＮＨ−
Ａ１７ＮＨＣＯ−ＯＡ１８Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１５Ｎ
ＨＣＯ−ＯＡ１６Ｏ）−（ＣＯＮＨ−Ａ１３ＮＨＣＯ−
ＯＡ１４Ｏ）のブロック状でもよく、ランダム状又はラ
ンダム状とブロック状の組合せでもよい。 【化７】 一般式（７）において、ｆ１及びｆ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｆ３は０又は１〜２００の整
数を表す。Ａ１９及びＡ２０は、同一若しくは異なっ
て、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有
する基（Ｑ１）を有するアルキレン基、Ｑ１を有するア
リーレン基、Ｑ１を有するアルアルキレン基又はＱ１を
有するハロアルキレン基を表す。Ａ２１及びＡ２２は、
同一若しくは異なって、極性基（Ｋ）を少なくとも１個
含有する基（Ｑ２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有す
るアリーレン基、Ｑ２を有するアルアルキレン基又はＱ
２を有するハロアルキレン基を表す。Ａ２３及びＡ２４
は、同一若しくは異なって、アルキレン基、アリーレン
基、アルアルキレン基又はハロアルキレン基を表す。な
お、（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）、（ＮＨＡ
２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）及び（ＮＨＡ２３ＮＨ−Ｃ
ＯＡ２４ＣＯ）の並び方は、（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ
２０ＣＯ）−（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）−
（ＮＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）に限らず、（ＮＨ
Ａ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）−（ＮＨＡ１ ９ＮＨ−Ｃ
ＯＡ２０ＣＯ）−（ＮＨＡ２３ＮＨ−ＣＯＡ２４Ｃ
Ｏ）、（ＮＨＡ１ ９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）−（ＮＨＡ
２３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ２ １ＮＨ−ＣＯ
Ａ２２ＣＯ）、（ＮＨＡ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）−
（ＮＨＡ２ ３ＮＨ−ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ１９Ｎ
Ｈ−ＣＯＡ２０ＣＯ）、（ＮＨＡ２ ３ＮＨ−ＣＯＡ２４
ＣＯ）−（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）−（ＮＨ
Ａ２ １ＮＨ−ＣＯＡ２２ＣＯ）又は（ＮＨＡ２３ＮＨ−
ＣＯＡ２４ＣＯ）−（ＮＨＡ ２１ＮＨ−ＣＯＡ２２Ｃ
Ｏ）−（ＮＨＡ１９ＮＨ−ＣＯＡ２０ＣＯ）のブロック
状でもよく、ランダム状又はランダム状とブロック状の
組合せでもよい。 【化８】 一般式（８）において、ｇ１及びｇ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｇ３は０又は１〜２００の整
数を表す。Ａ２５は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少
なくとも１個含有する基（Ｑ１）を有するアルキレン
基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルアル
キレン基又はＱ１を有するハロアルキレン基を表す。Ａ
２６は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ
２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレン
基、Ｑ２を有するアルアルキレン基又はＱ ２を有するハ
ロアルキレン基を表す。Ａ２７はアルキレン基、アリー
レン基、アルアルキレン基又はハロアルキレン基を表
す。なお、（ＣＯＮＨ−Ａ２５）、（ＣＯＮＨ−
Ａ２６）及び（ＣＯＮＨ−Ａ２７）の並び方は、（ＣＯ
ＮＨ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２ ７）に限らず、（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮＨ
−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ ２７）、（ＣＯＮＨ−Ａ
２５）−（ＣＯＮＨ−Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２６）、（ＣＯＮＨ−Ａ２６）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）、（ＣＯＮＨ−
Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）−（ＣＯＮＨ−
Ａ２６）又は（ＣＯＮＨ−Ａ２７）−（ＣＯＮＨ−Ａ
２６）−（ＣＯＮＨ−Ａ２５）のブロック状でもよく、
ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せでもよ
い。 【化９】 一般式（９）において、ｈ１及びｈ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｈ３は０又は１〜２００の整
数を表す。Ａ２８は、プロペニルエーテル基（Ｐ）を少
なくとも１個含有する基（Ｑ１）を有するアルキレン
基、Ｑ１を有するアリーレン基、Ｑ１を有するアルアル
キレン基又はＱ１を有するハロアルキレン基を表す。Ａ
２９は、極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基（Ｑ
２）を有するアルキレン基、Ｑ２を有するアリーレン
基、Ｑ２を有するアルアルキレン基又はＱ ２を有するハ
ロアルキレン基を表す。Ａ３０はアルキレン基、アリー
レン基、アルアルキレン基、ハロアルキレン基又はオキ
シアルキレン基を表す。なお、（ＯＣＯＯＡ２８）、
（ＯＣＯＯＡ２９）及び（ＯＣＯＯＡ３０）の並び方
は、（ＯＣＯＯＡ２８）−（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣ
ＯＯＡ３０）に限らず、（ＯＣＯＯＡ２９）−（ＯＣＯ
ＯＡ２８）−（ＯＣＯＯＡ３０）、（ＯＣＯＯＡ２８）
−（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯＯＡ２９）、（ＯＣＯ
ＯＡ２９）−（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯＯ
Ａ２８）、（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯＯＡ２ ８）−
（ＯＣＯＯＡ２９）又は（ＯＣＯＯＡ３０）−（ＯＣＯ
ＯＡ２９）−（ＯＣＯＯＡ２８）のブロック状でもよ
く、ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せで
もよい。 【化１０】 一般式（１０）において、ｋ１及びｋ２はそれぞれ１〜
１，０００の整数を表し、ｋ３は０又は１〜２００の整
数を表す。また、Ａｒは、芳香族環を表す。Ｑ１はプロ
ペニルエーテル基（Ｐ）を少なくとも１個含有する基を
表し、Ｑ２は極性基（Ｋ）を少なくとも１個含有する基
を表す。なお、（ＣＨ２−ＡｒＱ１）、（ＣＨ２−Ａｒ
Ｑ２）及び（ＣＨ２−Ａｒ）の並び方は、（ＣＨ２−Ａ
ｒＱ１）−（ＣＨ２−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−Ａｒ）に
限らず、（ＣＨ２−ＡｒＱ２）−（ＣＨ２−ＡｒＱ１）
−（ＣＨ２−Ａｒ）、（ＣＨ２−ＡｒＱ１）−（ＣＨ２
−Ａｒ）−（ＣＨ２−ＡｒＱ２）、（ＣＨ２−Ａｒ
Ｑ２）−（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２−ＡｒＱ１）、
（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ ２−ＡｒＱ１）−（ＣＨ２−
ＡｒＱ２）又は（ＣＨ２−Ａｒ）−（ＣＨ２−Ａｒ
Ｑ２）−（ＣＨ２−ＡｒＱ１）のブロック状でもよく、
ランダム状又はランダム状とブロック状の組合せでもよ
い。 - 【請求項５】 請求項１〜４何れか記載の重合体（Ｂ）
及び光カチオン開始剤（Ｃ）を含んでなる重合体組成
物。 - 【請求項６】 さらに着色剤を含んでなる請求項５記載
の重合体組成物。 - 【請求項７】 さらに一般式（１１）で表される反応性
希釈剤（Ｄ）を含んでなる請求項５又は６記載の重合体
組成物。 【化１１】 一般式（１１）において、Ｒ４は、ＨＯ−Ｒ４−ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール又はポリエステルジオールから水酸
基を除いた残基を表す。Ｒ５は、アルキル基、アリール
基、アルアルキル基、シクロアルキル基又は水素原子を
表す。 - 【請求項８】 さらにビニル化合物（Ｅ）及び／又はア
リル化合物（Ｆ）を含んでなる請求項５〜７何れか記載
の重合体組成物。 - 【請求項９】 請求項５〜８何れか記載の重合体組成物
を用いてなる成形体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000387894A JP2002187912A (ja) | 2000-12-20 | 2000-12-20 | プロペニルエーテル基含有重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000387894A JP2002187912A (ja) | 2000-12-20 | 2000-12-20 | プロペニルエーテル基含有重合体 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002187912A true JP2002187912A (ja) | 2002-07-05 |
Family
ID=18854732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000387894A Pending JP2002187912A (ja) | 2000-12-20 | 2000-12-20 | プロペニルエーテル基含有重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002187912A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007500768A (ja) * | 2003-07-31 | 2007-01-18 | ジョンソン ポリマー エルエルシー | 改質アニオン重合ポリマー |
| JP2009258506A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP2018173622A (ja) * | 2017-01-18 | 2018-11-08 | 東友ファインケム株式会社Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 光硬化性組成物及びそれから形成された光硬化膜 |
-
2000
- 2000-12-20 JP JP2000387894A patent/JP2002187912A/ja active Pending
Cited By (4)
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| JP4928264B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2012-05-09 | バスフ コーポレーション | 改質アニオン重合ポリマー |
| JP2009258506A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP2018173622A (ja) * | 2017-01-18 | 2018-11-08 | 東友ファインケム株式会社Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 光硬化性組成物及びそれから形成された光硬化膜 |
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