JP2863071B2 - 光ファイバの製法 - Google Patents
光ファイバの製法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は品質の良好な光ファイバ
素線を高速に製造する方法に関する。
素線を高速に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より光ファイバ素線を製造するに
は、以下のような製法が採用されている。まず、光ファ
イバ母材を、約２０００℃に加熱溶融しながら紡糸し、
得られた光ファイバ裸線を冷却装置を通過させて約１０
０℃以下の温度にまで冷却する。ついで、コーターにて
紫外線硬化型、あるいは熱硬化型の樹脂を被覆し、樹脂
硬化装置にて前記樹脂を硬化させ、得られた光ファイバ
素線をプーリーを経由させて、巻き取り装置により巻き
取る。
は、以下のような製法が採用されている。まず、光ファ
イバ母材を、約２０００℃に加熱溶融しながら紡糸し、
得られた光ファイバ裸線を冷却装置を通過させて約１０
０℃以下の温度にまで冷却する。ついで、コーターにて
紫外線硬化型、あるいは熱硬化型の樹脂を被覆し、樹脂
硬化装置にて前記樹脂を硬化させ、得られた光ファイバ
素線をプーリーを経由させて、巻き取り装置により巻き
取る。
【０００３】ところで、近時、紡糸速度を高速化させ
て、生産性を高めることが行われているが、紡糸速度を
４００ｍ／ｍｉｎ以上の高速とすると、線ブレ量が増加
し、コーターのニップルとの接触による強度低下や、被
覆層の厚みが偏ることによる側圧特性の低下などの問題
が生じる。この一因として、光ファイバ裸線や光ファイ
バ素線の冷却に必要な冷却ガスおよび樹脂硬化装置内の
パージガスの流量の増加にともない、前記ガスの流れに
より光ファイバ裸線や光ファイバ素線に振動が起こるた
めであるということが挙げられる。この他にも種々の要
因が考えられるが、本発明者は、その一つに、光ファイ
バ素線が最初に接触するプーリーなどの表面平滑性も関
与していることを見いだした。
て、生産性を高めることが行われているが、紡糸速度を
４００ｍ／ｍｉｎ以上の高速とすると、線ブレ量が増加
し、コーターのニップルとの接触による強度低下や、被
覆層の厚みが偏ることによる側圧特性の低下などの問題
が生じる。この一因として、光ファイバ裸線や光ファイ
バ素線の冷却に必要な冷却ガスおよび樹脂硬化装置内の
パージガスの流量の増加にともない、前記ガスの流れに
より光ファイバ裸線や光ファイバ素線に振動が起こるた
めであるということが挙げられる。この他にも種々の要
因が考えられるが、本発明者は、その一つに、光ファイ
バ素線が最初に接触するプーリーなどの表面平滑性も関
与していることを見いだした。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの事
情に鑑みてなされたものであって、光ファイバ素線の線
ブレ量を抑制し、品質の安定した光ファイバ素線を高速
に製造する方法を提供することを目的としている。
情に鑑みてなされたものであって、光ファイバ素線の線
ブレ量を抑制し、品質の安定した光ファイバ素線を高速
に製造する方法を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる目的は、光ファイ
バ裸線に被覆層を形成して光ファイバ素線とし、これ
を、ガイドコロやプーリーなどの固形物を経由して巻き
取り装置に巻き取る光ファイバの製造工程において、光
ファイバ素線が最初に接触する固形物として、光ファイ
バ素線が接触する表面の凹凸が０．６μｍ以下であるも
のを用いることで解決できる。
バ裸線に被覆層を形成して光ファイバ素線とし、これ
を、ガイドコロやプーリーなどの固形物を経由して巻き
取り装置に巻き取る光ファイバの製造工程において、光
ファイバ素線が最初に接触する固形物として、光ファイ
バ素線が接触する表面の凹凸が０．６μｍ以下であるも
のを用いることで解決できる。
【０００６】
【作用】本発明の光ファイバの製法は、表面が滑らかな
固形物を用いることにより、固形物表面の凹凸に起因す
る線ブレやゆらぎが抑制される。
固形物を用いることにより、固形物表面の凹凸に起因す
る線ブレやゆらぎが抑制される。
【０００７】
【実施例】次に、本発明の光ファイバの製法について詳
しく説明する。図１は、本発明で使用される製造装置１
の一例を示すものである。まず、光ファイバ母材２を約
２０００℃の加熱炉３で溶融しながら紡糸して、光ファ
イバ裸線とした後、この光ファイバ裸線を冷却装置４に
通し、約１００℃に冷却する。
しく説明する。図１は、本発明で使用される製造装置１
の一例を示すものである。まず、光ファイバ母材２を約
２０００℃の加熱炉３で溶融しながら紡糸して、光ファ
イバ裸線とした後、この光ファイバ裸線を冷却装置４に
通し、約１００℃に冷却する。
【０００８】ついで、前記光ファイバ裸線をコーター５
に通し、そこで、紫外線硬化型、あるいは熱硬化型の樹
脂を被覆する。その後ただちに紫外線照射炉あるいは加
熱炉などの樹脂硬化装置６を経て、前記樹脂を硬化さ
せ、光ファイバ素線を作成する。このようにして得られ
た光ファイバ素線は、プーリー７を経由して走行方向が
変えられ、巻き取り装置８により巻き取られる。
に通し、そこで、紫外線硬化型、あるいは熱硬化型の樹
脂を被覆する。その後ただちに紫外線照射炉あるいは加
熱炉などの樹脂硬化装置６を経て、前記樹脂を硬化さ
せ、光ファイバ素線を作成する。このようにして得られ
た光ファイバ素線は、プーリー７を経由して走行方向が
変えられ、巻き取り装置８により巻き取られる。
【０００９】そして、この発明では、前記プーリー７と
して、光ファイバ素線が接触する表面の凹凸が０．６μ
ｍ以下とされたものが用いられる。ここでの表面平滑性
の定義は、ＪＩＳーＢ０６０１によるもので、その測定
には、光学式表面粗さ計、接触式表面粗さ計が用いられ
る。このようにして、測定されたプーリー７の表面の凹
凸の値は、プーリー７の表面平滑性を示す指標として評
価される。また、このプーリー７には、張力測定機能が
付与されている。
して、光ファイバ素線が接触する表面の凹凸が０．６μ
ｍ以下とされたものが用いられる。ここでの表面平滑性
の定義は、ＪＩＳーＢ０６０１によるもので、その測定
には、光学式表面粗さ計、接触式表面粗さ計が用いられ
る。このようにして、測定されたプーリー７の表面の凹
凸の値は、プーリー７の表面平滑性を示す指標として評
価される。また、このプーリー７には、張力測定機能が
付与されている。
【００１０】このようなプーリー７の材質は、耐久性、
機械的強度などに優れているものであれば特に種類は限
定されるものではないが、金属、セラミック、硬質プラ
スチック、エンジニアリングプラスチックなどが好まし
い。
機械的強度などに優れているものであれば特に種類は限
定されるものではないが、金属、セラミック、硬質プラ
スチック、エンジニアリングプラスチックなどが好まし
い。
【００１１】さらに、プーリー７の表面には平滑性をも
たせるため、ハードコート処理を施すことが好ましい。
これは、プーリー７の表面を研磨した後、金属などの薄
膜を形成させるものである。薄膜形成法としては、クロ
ムメッキなどのメッキ法や、ＣＶＤ法、無電解メッキ法
など、金属薄膜を形成させるものが好ましいが、特に限
定されるものではない。また、コーティング材も、プー
リー７の大きさ、材質などによって、任意のものを選択
することができる。また、プーリー７の表面に平滑性を
もたせるには、研磨のみ、あるいは、薄膜形成のみであ
っても差し支えない。
たせるため、ハードコート処理を施すことが好ましい。
これは、プーリー７の表面を研磨した後、金属などの薄
膜を形成させるものである。薄膜形成法としては、クロ
ムメッキなどのメッキ法や、ＣＶＤ法、無電解メッキ法
など、金属薄膜を形成させるものが好ましいが、特に限
定されるものではない。また、コーティング材も、プー
リー７の大きさ、材質などによって、任意のものを選択
することができる。また、プーリー７の表面に平滑性を
もたせるには、研磨のみ、あるいは、薄膜形成のみであ
っても差し支えない。
【００１２】このような光ファイバ素線の製法は、光フ
ァイバ裸線に被覆層を形成して光ファイバ素線とし、こ
れを、表面の凹凸が０．６μｍ以下のプーリー７を経由
して巻き取り装置８に巻き取る製法であるので、プーリ
ー７の表面の凹凸に起因する線ブレやゆらぎが抑制され
るため、光ファイバ素線の被覆層の厚みが均一に保持さ
れ、高速で紡糸するにもかかわらず、常に良好な品質の
光ファイバ素線を得ることができる。
ァイバ裸線に被覆層を形成して光ファイバ素線とし、こ
れを、表面の凹凸が０．６μｍ以下のプーリー７を経由
して巻き取り装置８に巻き取る製法であるので、プーリ
ー７の表面の凹凸に起因する線ブレやゆらぎが抑制され
るため、光ファイバ素線の被覆層の厚みが均一に保持さ
れ、高速で紡糸するにもかかわらず、常に良好な品質の
光ファイバ素線を得ることができる。
【００１３】以下、具体例を示し、本発明の効果を明ら
かにする。 （実施例１）光ファイバ母材２を約２０００℃で加熱溶
融し、紡糸し、クラッド径が１２５μｍのシングルモー
ド光ファイバ裸線を得た。ついで、これを冷却装置４に
通して、約１００℃になるまで冷却した。冷却には、紡
糸速度が２００ｍ／ｍｉｎの場合にはヘリウムと窒素の
混合ガス（１：１の比率）を３ｌ／ｍｉｎ流した。ま
た、紡糸速度の変化に伴い冷却ガス流量は適宜変更し
た。
かにする。 （実施例１）光ファイバ母材２を約２０００℃で加熱溶
融し、紡糸し、クラッド径が１２５μｍのシングルモー
ド光ファイバ裸線を得た。ついで、これを冷却装置４に
通して、約１００℃になるまで冷却した。冷却には、紡
糸速度が２００ｍ／ｍｉｎの場合にはヘリウムと窒素の
混合ガス（１：１の比率）を３ｌ／ｍｉｎ流した。ま
た、紡糸速度の変化に伴い冷却ガス流量は適宜変更し
た。
【００１４】ついでコーター５にてウレタンアクリレー
ト系ＵＶ樹脂を塗布し、ただちに、ＵＶ照射炉で前記樹
脂を硬化して光ファイバ素線を得た。この光ファイバ素
線の被覆径は２５０μｍで、被覆層は２層である。つい
でこれを、ステンレス製で、表面平滑性が０．６μｍの
プーリー７を経由して、巻き取り装置８に巻き取った。
また、前記プーリー７には、この表面を研磨し、なめら
かにしたものを用いた。
ト系ＵＶ樹脂を塗布し、ただちに、ＵＶ照射炉で前記樹
脂を硬化して光ファイバ素線を得た。この光ファイバ素
線の被覆径は２５０μｍで、被覆層は２層である。つい
でこれを、ステンレス製で、表面平滑性が０．６μｍの
プーリー７を経由して、巻き取り装置８に巻き取った。
また、前記プーリー７には、この表面を研磨し、なめら
かにしたものを用いた。
【００１５】（実施例２）アルミ製で、表面平滑性が
０．３μｍのプーリー７を用いた他は、実施例１と同様
の方法で、光ファイバ素線を得た。また、前記プーリー
７の表面を研磨した後、ハードコート処理を施した。こ
の際のコーティング材にはハードクロムメッキを用い
た。
０．３μｍのプーリー７を用いた他は、実施例１と同様
の方法で、光ファイバ素線を得た。また、前記プーリー
７の表面を研磨した後、ハードコート処理を施した。こ
の際のコーティング材にはハードクロムメッキを用い
た。
【００１６】（比較例１）ステンレス製で、表面平滑性
が１．０μｍのプーリー７を用いた他は、実施例１と同
様の方法で、光ファイバ素線を得た。
が１．０μｍのプーリー７を用いた他は、実施例１と同
様の方法で、光ファイバ素線を得た。
【００１７】（比較例２）鉄製で、表面平滑性が１．６
μｍのプーリー７を用いた他は、実施例１と同様の方法
で、光ファイバ素線を得た。
μｍのプーリー７を用いた他は、実施例１と同様の方法
で、光ファイバ素線を得た。
【００１８】（試験例１）実施例１、実施例２、比較例
１、比較例２で得られた光ファイバ素線の品質を示す指
標として、それぞれの、光ファイバ素線の紡糸速度を、
２００、４００、８００、１２００ｍ／ｍｉｎにしたと
きの線ブレ量を測定した。線ブレ量は、樹脂硬化装置６
からプーリー７までの任意の位置での線ブレ量を示して
いる。この結果を表１に示す。
１、比較例２で得られた光ファイバ素線の品質を示す指
標として、それぞれの、光ファイバ素線の紡糸速度を、
２００、４００、８００、１２００ｍ／ｍｉｎにしたと
きの線ブレ量を測定した。線ブレ量は、樹脂硬化装置６
からプーリー７までの任意の位置での線ブレ量を示して
いる。この結果を表１に示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】（試験例２）実施例１、実施例２、比較例
１、比較例２で得られた光ファイバ素線の品質を示す指
標として、それぞれの光ファイバ素線の被覆層の最も厚
い部分と、最も薄い部分を測定しこれらの値の比を求め
た。被覆層の厚みは、光ファイバ素線の断面の顕微鏡観
察によって測定し、最も薄い部分をａ、最も厚い部分を
ｂとして、これらの比をｂ／ａ値として示した。ａ、ｂ
は、光ファイバ素線上の任意の１００箇所で測定し、ｂ
／ａ値はそれぞれの平均値から算出した。この値が１に
近いほど、品質が良好であるといえる。ｂ／ａ値と紡糸
速度の関係を図２に示す。また、この時の紡糸速度は試
験例１と同様である。
１、比較例２で得られた光ファイバ素線の品質を示す指
標として、それぞれの光ファイバ素線の被覆層の最も厚
い部分と、最も薄い部分を測定しこれらの値の比を求め
た。被覆層の厚みは、光ファイバ素線の断面の顕微鏡観
察によって測定し、最も薄い部分をａ、最も厚い部分を
ｂとして、これらの比をｂ／ａ値として示した。ａ、ｂ
は、光ファイバ素線上の任意の１００箇所で測定し、ｂ
／ａ値はそれぞれの平均値から算出した。この値が１に
近いほど、品質が良好であるといえる。ｂ／ａ値と紡糸
速度の関係を図２に示す。また、この時の紡糸速度は試
験例１と同様である。
【００２１】（試験例３）実施例１、実施例２、比較例
１、比較例２で得られた光ファイバ素線の品質を示す指
標として、それぞれの光ファイバ素線がプーリー７に接
触することによる損失の程度を損失増分（ｄＢ／ｋｍ）
とし評価した。この損失増分は、プーリー７と接触した
後の光ファイバ素線の損失から、プーリー７と接触する
前の光ファイバ素線の損失を引いたものであり、この損
失増分が０に近いほど品質が良好であるといえる。その
結果を図３に示す。これらは、いずれも、光ファイバ素
線を１００ｋｍ製造し、任意の２０箇所で１ｋｍとった
場合の平均値で示している。また、この時の紡糸速度は
試験例１と同様であり、４００ｇの巻張力で、鉄製のボ
ビンに巻き取った。
１、比較例２で得られた光ファイバ素線の品質を示す指
標として、それぞれの光ファイバ素線がプーリー７に接
触することによる損失の程度を損失増分（ｄＢ／ｋｍ）
とし評価した。この損失増分は、プーリー７と接触した
後の光ファイバ素線の損失から、プーリー７と接触する
前の光ファイバ素線の損失を引いたものであり、この損
失増分が０に近いほど品質が良好であるといえる。その
結果を図３に示す。これらは、いずれも、光ファイバ素
線を１００ｋｍ製造し、任意の２０箇所で１ｋｍとった
場合の平均値で示している。また、この時の紡糸速度は
試験例１と同様であり、４００ｇの巻張力で、鉄製のボ
ビンに巻き取った。
【００２２】ここで試験例１ないし試験例３の結果を説
明する。まず、表１から明らかなように、２００ｍ／ｍ
ｉｎの低速においては、いずれの線ブレ量も０．１ｍｍ
以下と、差はなかった。ところが、紡糸速度が高速化す
るにしたがって、比較例１および比較例２のものは、線
ブレ量が著しく増加した。この現象は、プーリー７の表
面平滑性が低下するとともに顕著になった。一方、プー
リー７の表面平滑性を０．６μｍ以下に抑えた実施例１
および実施例２では、１２００ｍ／ｍｉｎの高速で紡糸
しても、低速で紡糸したものと同様のものが得られた。
明する。まず、表１から明らかなように、２００ｍ／ｍ
ｉｎの低速においては、いずれの線ブレ量も０．１ｍｍ
以下と、差はなかった。ところが、紡糸速度が高速化す
るにしたがって、比較例１および比較例２のものは、線
ブレ量が著しく増加した。この現象は、プーリー７の表
面平滑性が低下するとともに顕著になった。一方、プー
リー７の表面平滑性を０．６μｍ以下に抑えた実施例１
および実施例２では、１２００ｍ／ｍｉｎの高速で紡糸
しても、低速で紡糸したものと同様のものが得られた。
【００２３】次に、図２に示すように、プーリー７の表
面平滑性の差による品質の差は、被覆層の厚みの偏りに
も表れた。実施例１および実施例２のものは、紡糸速度
を高速にしても被覆層の厚みの偏りはほとんど認められ
なかったが、比較例１および比較例２のものは、紡糸速
度に比例するように、被覆層の厚みに偏りがみられた。
面平滑性の差による品質の差は、被覆層の厚みの偏りに
も表れた。実施例１および実施例２のものは、紡糸速度
を高速にしても被覆層の厚みの偏りはほとんど認められ
なかったが、比較例１および比較例２のものは、紡糸速
度に比例するように、被覆層の厚みに偏りがみられた。
【００２４】このような品質の差は、図３に示すよう
に、損失増分においても表れた。実施例１および実施例
２のものは、紡糸速度を高速にしても、損失増分はほと
んど認められなかったが、比較例１および比較例２のも
のは、紡糸速度が高速になるにしたがって損失増分が増
加した。
に、損失増分においても表れた。実施例１および実施例
２のものは、紡糸速度を高速にしても、損失増分はほと
んど認められなかったが、比較例１および比較例２のも
のは、紡糸速度が高速になるにしたがって損失増分が増
加した。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ファイ
バの製法は、光ファイバ裸線に被覆層を形成して光ファ
イバ素線とし、これを、ガイドコロやプーリーなどの固
形物を経由して、巻き取り装置に巻き取る光ファイバの
製法において、光ファイバ素線が最初に接触する固形物
として、光ファイバ素線が接触する表面の凹凸が０．６
μｍ以下であるものを用いるので、固形物表面の凹凸に
起因する線ブレやゆらぎが抑制されるため、光ファイバ
素線の被覆層の厚みが均一に保持され、光ファイバ素線
にかかる側圧が光ファイバ素線のいずれの箇所でも一定
となる。また、高速で紡糸するにもかかわらず、品質の
良好な光ファイバ素線を得ることができるなどの効果も
得られる。
バの製法は、光ファイバ裸線に被覆層を形成して光ファ
イバ素線とし、これを、ガイドコロやプーリーなどの固
形物を経由して、巻き取り装置に巻き取る光ファイバの
製法において、光ファイバ素線が最初に接触する固形物
として、光ファイバ素線が接触する表面の凹凸が０．６
μｍ以下であるものを用いるので、固形物表面の凹凸に
起因する線ブレやゆらぎが抑制されるため、光ファイバ
素線の被覆層の厚みが均一に保持され、光ファイバ素線
にかかる側圧が光ファイバ素線のいずれの箇所でも一定
となる。また、高速で紡糸するにもかかわらず、品質の
良好な光ファイバ素線を得ることができるなどの効果も
得られる。
【図１】 本発明の光ファイバ素線の製法を示す概略構
成図である。
成図である。
【図２】 本発明の光ファイバ素線と、従来の光ファイ
バ素線それぞれの被覆層の偏りと紡糸速度との関係を示
すグラフである。
バ素線それぞれの被覆層の偏りと紡糸速度との関係を示
すグラフである。
【図３】 本発明の光ファイバ素線と、従来の光ファイ
バ素線それぞれの損失増分と紡糸速度との関係を示すグ
ラフである。
バ素線それぞれの損失増分と紡糸速度との関係を示すグ
ラフである。
１…製造装置、２…光ファイバ母材、３…加熱炉、７…
プーリー、８…巻き取り装置
プーリー、８…巻き取り装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 浩一 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フ ジクラ 佐倉工場内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C03C 25/02
Claims (1)
- 【請求項１】 光ファイバ裸線に被覆層を形成して光フ
ァイバ素線とし、これを、ガイドコロやプーリーなどの
固形物を経由して巻き取り装置に巻き取る光ファイバの
製法において、光ファイバ素線が最初に接触する固形物
として、光ファイバ素線が接触する表面の凹凸が０．６
μｍ以下であるものを用いることを特徴とする光ファイ
バの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5253499A JP2863071B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 光ファイバの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5253499A JP2863071B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 光ファイバの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07109150A JPH07109150A (ja) | 1995-04-25 |
| JP2863071B2 true JP2863071B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=17252234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5253499A Expired - Fee Related JP2863071B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 光ファイバの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2863071B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003206156A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-07-22 | Fujikura Ltd | 光ファイバ素線の製造方法、光ファイバ素線及び光ファイバ素線の製造装置 |
| JPWO2005063640A1 (ja) | 2003-12-26 | 2007-07-19 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ捻り装置、光ファイバ素線の製造方法、および、光ファイバ素線 |
| JP5250630B2 (ja) | 2008-12-19 | 2013-07-31 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造方法 |
| WO2010119696A1 (ja) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ素線の製造方法 |
-
1993
- 1993-10-08 JP JP5253499A patent/JP2863071B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07109150A (ja) | 1995-04-25 |
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