JP2854676B2 - スプレーフラクサ - Google Patents
スプレーフラクサInfo
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- JP2854676B2 JP2854676B2 JP14364690A JP14364690A JP2854676B2 JP 2854676 B2 JP2854676 B2 JP 2854676B2 JP 14364690 A JP14364690 A JP 14364690A JP 14364690 A JP14364690 A JP 14364690A JP 2854676 B2 JP2854676 B2 JP 2854676B2
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- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- flux
- spray
- diluting liquid
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、はんだ付けされるプリント配線基板等のワ
ークの下面にフラックスミストを噴霧して塗布するスプ
レーフラクサに関するものである。
ークの下面にフラックスミストを噴霧して塗布するスプ
レーフラクサに関するものである。
（従来の技術） 第５図に示されるように、従来のスプレーフラクサ
は、密閉タンク11内のフラックス面に、空圧源12から供
給される空圧をかけると、この空圧により、タンク11の
底部近傍まで挿入された管13にフラックスのみが押出さ
れ、このフラックスがノズル14からプリント配線基板等
のワーク15にフラックスミストとしてスプレーされ、そ
の下面にフラックスが塗布される。このスプレーされた
フラックスミストの飛散余剰分は、回収管路系のブロワ
16により回収ダクト17から吸引され、サイクロン18によ
りダストバンカー19に分離回収され、気体のみがブロワ
16から排気される。
は、密閉タンク11内のフラックス面に、空圧源12から供
給される空圧をかけると、この空圧により、タンク11の
底部近傍まで挿入された管13にフラックスのみが押出さ
れ、このフラックスがノズル14からプリント配線基板等
のワーク15にフラックスミストとしてスプレーされ、そ
の下面にフラックスが塗布される。このスプレーされた
フラックスミストの飛散余剰分は、回収管路系のブロワ
16により回収ダクト17から吸引され、サイクロン18によ
りダストバンカー19に分離回収され、気体のみがブロワ
16から排気される。
（発明が解決しようとする課題） このようにノズル14から噴霧されるフラックスは、揮
発性の稀釈液により液性が保たれているが、このスプレ
ーフラクサの稼働を停止して時間が経過すると、ノズル
14内に残留したフラックスの稀釈液が揮発して、フラッ
クス中の固形分によりノズル14の小孔が目詰りしてしま
う。このようなノズル14の目詰りが生じた場合は、作業
者がノズル14を外して洗浄するなどしているが、手間が
かかる。
発性の稀釈液により液性が保たれているが、このスプレ
ーフラクサの稼働を停止して時間が経過すると、ノズル
14内に残留したフラックスの稀釈液が揮発して、フラッ
クス中の固形分によりノズル14の小孔が目詰りしてしま
う。このようなノズル14の目詰りが生じた場合は、作業
者がノズル14を外して洗浄するなどしているが、手間が
かかる。
本発明は、このような点に鑑みなされたものであり、
ノズルの目詰りを容易に防止できるスプレーフラクサを
提供することを目的とするものである。
ノズルの目詰りを容易に防止できるスプレーフラクサを
提供することを目的とするものである。
（課題を解決するための手段） 本発明は、上向きに設けられたノズル14a,14bからワ
ーク15の下面にフラックスミスト51を噴霧するスプレー
フラクサにおいて、前記ノズル14a,14bが稀釈液槽23の
内部に設けられ、一定のレベルに固定されたノズル14a,
14bに対し、前記稀釈液槽23が、内部に収容した稀釈液2
5を少なくともノズル14a,14bの噴霧口26より下側から上
側に上昇できるストロークで昇降自在に設けられたスプ
レーフラクサである。
ーク15の下面にフラックスミスト51を噴霧するスプレー
フラクサにおいて、前記ノズル14a,14bが稀釈液槽23の
内部に設けられ、一定のレベルに固定されたノズル14a,
14bに対し、前記稀釈液槽23が、内部に収容した稀釈液2
5を少なくともノズル14a,14bの噴霧口26より下側から上
側に上昇できるストロークで昇降自在に設けられたスプ
レーフラクサである。
（作用） 本発明は、ノズル14a,14bを使用しないときは、稀釈
液槽23を上昇させて、この稀釈液槽23内の稀釈液25中に
ノズル14a,14bの噴霧口26を浸漬し、この噴霧口26の目
詰りを防止する。ノズル14a,14bを使用するときは、稀
釈液槽23を下降させて、この稀釈液槽23内の稀釈液25中
からノズル14a,14bの噴霧口26を突出させる。
液槽23を上昇させて、この稀釈液槽23内の稀釈液25中に
ノズル14a,14bの噴霧口26を浸漬し、この噴霧口26の目
詰りを防止する。ノズル14a,14bを使用するときは、稀
釈液槽23を下降させて、この稀釈液槽23内の稀釈液25中
からノズル14a,14bの噴霧口26を突出させる。
（実施例） 以下、本発明を第１図乃至第４図に示される実施例を
参照して詳細に説明する。なお、第５図と同様の部分に
は同一符号を使用する。
参照して詳細に説明する。なお、第５図と同様の部分に
は同一符号を使用する。
第１図および第２図に示されるように、固定設置され
た装置本体21の内部に取付板22を介して２個のノズル14
a,14bが設けられ、また前記装置本体21の外周部に、稀
釈液槽23が設けられている。このため、ノズル14a,14b
は稀釈液槽23の内部に設けられていることにもなる。前
記取付板22には稀釈液透孔24が設けられている。
た装置本体21の内部に取付板22を介して２個のノズル14
a,14bが設けられ、また前記装置本体21の外周部に、稀
釈液槽23が設けられている。このため、ノズル14a,14b
は稀釈液槽23の内部に設けられていることにもなる。前
記取付板22には稀釈液透孔24が設けられている。
この稀釈液槽23は、図示されない液体圧シリンダ等の
昇降機構により昇降され、一定のレベルに固定されたノ
ズル14a,14bに対し、内部に収容した稀釈液（アルコー
ル、シンナー等）25を少なくともノズル14a,14bの噴霧
口26より下側から上側に上昇できるストロークを有す
る。
昇降機構により昇降され、一定のレベルに固定されたノ
ズル14a,14bに対し、内部に収容した稀釈液（アルコー
ル、シンナー等）25を少なくともノズル14a,14bの噴霧
口26より下側から上側に上昇できるストロークを有す
る。
第３図にも示されるように、前記装置本体21を構成す
るワーク搬入側板およびワーク搬出側板の内側面にそれ
ぞれワーク幅方向のガイド27が平行に設けられ、このガ
イド27に、装置本体21の一側開口28から内部に挿入され
た遮断板29の両側部が移動自在に嵌合されている。
るワーク搬入側板およびワーク搬出側板の内側面にそれ
ぞれワーク幅方向のガイド27が平行に設けられ、このガ
イド27に、装置本体21の一側開口28から内部に挿入され
た遮断板29の両側部が移動自在に嵌合されている。
この遮断板29は、第１図に示されるようにノズル14a,
14bの噴霧口26より上側で比較的近傍にて、ワーク（プ
リント配線基板）15の幅寸法に応じてフラックスミスト
噴霧範囲を規制するものである。すなわち、この遮蔽板
29は全体がコ字形に成形され、この遮蔽板29の上側板部
31がワーク搬送コンベヤ32の幅調フレーム33に連結され
ている。
14bの噴霧口26より上側で比較的近傍にて、ワーク（プ
リント配線基板）15の幅寸法に応じてフラックスミスト
噴霧範囲を規制するものである。すなわち、この遮蔽板
29は全体がコ字形に成形され、この遮蔽板29の上側板部
31がワーク搬送コンベヤ32の幅調フレーム33に連結され
ている。
前記ワーク搬送コンベヤ32は、この幅調フレーム33と
固定フレーム34とが平行に設けられ、この両側のフレー
ム33,34の下側に取付けられたレール35に沿ってそれぞ
れエンドレスチェン36が回行自在に設けられ、この両側
のエンドレスチェン36の全長にわたってそれぞれワーク
搬送爪37が取付けられ、この両側のワーク搬送爪37によ
りワーク（プリント配線基板）15が保持されて搬送され
るものである。前記幅調フレーム33は、固定フレーム34
に対し平行状態を維持したまま、ワーク15の幅寸法に応
じて第１図左右方向に移動調整される。
固定フレーム34とが平行に設けられ、この両側のフレー
ム33,34の下側に取付けられたレール35に沿ってそれぞ
れエンドレスチェン36が回行自在に設けられ、この両側
のエンドレスチェン36の全長にわたってそれぞれワーク
搬送爪37が取付けられ、この両側のワーク搬送爪37によ
りワーク（プリント配線基板）15が保持されて搬送され
るものである。前記幅調フレーム33は、固定フレーム34
に対し平行状態を維持したまま、ワーク15の幅寸法に応
じて第１図左右方向に移動調整される。
遮蔽板29の上側板部31は、定位置に設けられたリミッ
トスイッチ38を作動し、このリミットスイッチ38は、第
１図右側のノズル14bに対するフラックス供給管路の電
磁弁を開閉制御する。このリミットスイッチ38が遮蔽板
29の上側板部31を検知しているときは、第１図右側のノ
ズル14bに対しフラックスが供給され、このリミットス
イッチ38が遮蔽板29の上側板部31を検知しないときは、
第１図右側のノズル14bに対しフラックスが供給されな
い。第１図左側のノズル14aには、フラックスが常時供
給される。
トスイッチ38を作動し、このリミットスイッチ38は、第
１図右側のノズル14bに対するフラックス供給管路の電
磁弁を開閉制御する。このリミットスイッチ38が遮蔽板
29の上側板部31を検知しているときは、第１図右側のノ
ズル14bに対しフラックスが供給され、このリミットス
イッチ38が遮蔽板29の上側板部31を検知しないときは、
第１図右側のノズル14bに対しフラックスが供給されな
い。第１図左側のノズル14aには、フラックスが常時供
給される。
第４図にも示されるように、装置本体21の上部に全周
にわたって堰板41が設けられている。この堰板41は、ワ
ーク15の搬送ベルトより下側であってフラックスミスト
が噴霧される範囲の周囲に設けられている。さらに、こ
の堰板41の外周部にフラックスミスト吸引管42が配設さ
れ、このフラックスミスト吸引管42は、管43を経てブロ
ワの吸込口に連通されている。このフラックスミスト吸
引管42の上面にはミスト吸引スリット44が穿設されてい
る。
にわたって堰板41が設けられている。この堰板41は、ワ
ーク15の搬送ベルトより下側であってフラックスミスト
が噴霧される範囲の周囲に設けられている。さらに、こ
の堰板41の外周部にフラックスミスト吸引管42が配設さ
れ、このフラックスミスト吸引管42は、管43を経てブロ
ワの吸込口に連通されている。このフラックスミスト吸
引管42の上面にはミスト吸引スリット44が穿設されてい
る。
さらに、このフラックスミスト吸引管42の外周部およ
び下部には、装置本体21の上部と一体の受枠部45が全周
にわたって設けられ、この受枠部45の内部は、前記堰板
41の下部に設けられた間隙46を経て装置本体21内に連通
されている。そして、フラックスミスト吸引管42のミス
ト吸引スリット44に吸込まれないで吸引管42の表面等に
附着したフラックスが、この受枠部45から間隙46を経て
装置本体21内に回収される。
び下部には、装置本体21の上部と一体の受枠部45が全周
にわたって設けられ、この受枠部45の内部は、前記堰板
41の下部に設けられた間隙46を経て装置本体21内に連通
されている。そして、フラックスミスト吸引管42のミス
ト吸引スリット44に吸込まれないで吸引管42の表面等に
附着したフラックスが、この受枠部45から間隙46を経て
装置本体21内に回収される。
次に、この実施例の作用を説明する。
第１図に示されるように、上向きに設けられた左方ノ
ズル14aの噴霧口26からワーク15の下面にフラックスミ
スト51が噴霧される。このとき、右方ノズル14bには、
既に述べたようにリミットスイッチ38によりフラックス
が供給されない。
ズル14aの噴霧口26からワーク15の下面にフラックスミ
スト51が噴霧される。このとき、右方ノズル14bには、
既に述べたようにリミットスイッチ38によりフラックス
が供給されない。
この第１図に示されたワーク15は幅寸法が小さいの
で、幅調フレーム33が固定フレーム34側に寄せられ、こ
の幅調フレーム33と一体の遮蔽板29も左方ノズル14a上
まで移動されている。そして、この遮蔽板29により、左
方ノズル14aの噴霧口26の上側半分が覆われ、この噴霧
口26から噴射されたフラックスミスト51のうち、ワーク
15から外れる噴霧範囲のフラックスミスト51aは、噴射
直後に遮蔽板29によって遮られ、拡散することなく回収
される。
で、幅調フレーム33が固定フレーム34側に寄せられ、こ
の幅調フレーム33と一体の遮蔽板29も左方ノズル14a上
まで移動されている。そして、この遮蔽板29により、左
方ノズル14aの噴霧口26の上側半分が覆われ、この噴霧
口26から噴射されたフラックスミスト51のうち、ワーク
15から外れる噴霧範囲のフラックスミスト51aは、噴射
直後に遮蔽板29によって遮られ、拡散することなく回収
される。
一方、この遮蔽板29によって遮られることなく噴霧さ
れたフラックスミスト51は、周囲の堰板41によって噴霧
範囲が制限されるとともに、ワーク15と堰板41との間の
隙間から漏れたフラックスミストは、フラックスミスト
吸引管42のミスト吸引スリット44に吸込まれて回収され
る。
れたフラックスミスト51は、周囲の堰板41によって噴霧
範囲が制限されるとともに、ワーク15と堰板41との間の
隙間から漏れたフラックスミストは、フラックスミスト
吸引管42のミスト吸引スリット44に吸込まれて回収され
る。
また、このスプレーフラクサの稼働を停止させ、ノズ
ル14a,14bを使用しないときは、稀釈液槽23を上昇させ
て、この稀釈液槽23内の稀釈液25中にノズル14a,14bの
噴霧口26を浸漬し、この噴霧口26の目詰りを防止する。
さらに、ノズル14a,14bを使用するときは、稀釈液槽23
を下降させて、この稀釈液槽23内の稀釈液25中からノズ
ル14a,14bの噴霧口26を突出させる。実線が稀釈液下降
レベルであり、２点鎖線で稀釈液上昇レベルである。
ル14a,14bを使用しないときは、稀釈液槽23を上昇させ
て、この稀釈液槽23内の稀釈液25中にノズル14a,14bの
噴霧口26を浸漬し、この噴霧口26の目詰りを防止する。
さらに、ノズル14a,14bを使用するときは、稀釈液槽23
を下降させて、この稀釈液槽23内の稀釈液25中からノズ
ル14a,14bの噴霧口26を突出させる。実線が稀釈液下降
レベルであり、２点鎖線で稀釈液上昇レベルである。
本発明によれば、ノズルが稀釈液槽の内部に設けら
れ、一定のレベルに固定されたノズルに対し、前記稀釈
液槽が、内部に収容した稀釈液を少なくともノズルの噴
霧口より下側から上側に上昇できるストロークで昇降自
在に設けられたから、ノズル不使用時は、稀釈液槽を上
昇させておくのみで、ノズルの向詰りを容易に防止でき
る。
れ、一定のレベルに固定されたノズルに対し、前記稀釈
液槽が、内部に収容した稀釈液を少なくともノズルの噴
霧口より下側から上側に上昇できるストロークで昇降自
在に設けられたから、ノズル不使用時は、稀釈液槽を上
昇させておくのみで、ノズルの向詰りを容易に防止でき
る。
第１図は本発明のスプレーフラクサの一実施例を示す断
面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図はその
遮蔽板の移動案内部分を示す破断斜視図、第４図はその
フラックスミスト吸引管の配管部分を示す斜視図、第５
図は一般的なスプレーフラクサおよびそのフラックス回
収系を示す説明図である。 14a,14b……ノズル、15……ワーク、23……稀釈液槽、2
5……稀釈液、26……噴霧口、51……フラックスミス
ト。
面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図はその
遮蔽板の移動案内部分を示す破断斜視図、第４図はその
フラックスミスト吸引管の配管部分を示す斜視図、第５
図は一般的なスプレーフラクサおよびそのフラックス回
収系を示す説明図である。 14a,14b……ノズル、15……ワーク、23……稀釈液槽、2
5……稀釈液、26……噴霧口、51……フラックスミス
ト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B23K 3/00 H05K 3/34 503
Claims (1)
- 【請求項１】上向きに設けられたノズルからワークの下
面にフラックスミストを噴霧するスプレーフラクサにお
いて、 前記ノズルが稀釈液槽の内部に設けられ、一定のレベル
に固定されたノズルに対し、前記稀釈液槽が、内部に収
容した稀釈液を少なくともノズルの噴霧口より下側から
上側に上昇できるストロークで昇降自在に設けられたこ
とを特徴とするスプレーフラクサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14364690A JP2854676B2 (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | スプレーフラクサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14364690A JP2854676B2 (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | スプレーフラクサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0437472A JPH0437472A (ja) | 1992-02-07 |
| JP2854676B2 true JP2854676B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=15343627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14364690A Expired - Fee Related JP2854676B2 (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | スプレーフラクサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2854676B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2986153B2 (ja) | 1998-04-03 | 1999-12-06 | 茂 喜多 | 球技練習具 |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP14364690A patent/JP2854676B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0437472A (ja) | 1992-02-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |