JP2829703B2 - 発光スクリーン構体を電子写真的に形成する方法 - Google Patents
発光スクリーン構体を電子写真的に形成する方法Info
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、陰極線管(CRT)
のスクリーン構体を電子写真的に製造する方法に、更に
具体的には、蛍光体材料を被着した後、摩擦電気的に帯
電させた(荷電された)マトリクス材料を電子写真的に
被着する方法に関するものである。
のスクリーン構体を電子写真的に製造する方法に、更に
具体的には、蛍光体材料を被着した後、摩擦電気的に帯
電させた(荷電された)マトリクス材料を電子写真的に
被着する方法に関するものである。
【0002】
【発明の背景】1990年5月1日付でダッタ(Datta
)氏他に付与された米国特許第4921767号に
は、摩擦電気的に帯電させたマトリクス材料及び蛍光体
材料を用いてCRTの発光スクリーン構体を電子写真的
に製造する方法が示されている。この特許の方法では、
導電性層上に設けられた光導電性層を正の電位に静電気
的に帯電させ、これをライトハウス内に配置したキセノ
ンフラッシュランプからの光でシャドウマスクを通して
露光する。この露光を3つの相異なるランプ位置からの
光で計3回繰り返して、後にスクリーンを形成するため
に、発光蛍光体が被着される光導電性層の領域を放電し
て静電気的な像を生じさせる。次いで、シャドウマスク
を取り外し、摩擦電気的に(負に)帯電した吸光性マト
リクス材料の粒子を、光導電性層のマトリクス開口を定
める正に帯電した領域上に直接被着する。
)氏他に付与された米国特許第4921767号に
は、摩擦電気的に帯電させたマトリクス材料及び蛍光体
材料を用いてCRTの発光スクリーン構体を電子写真的
に製造する方法が示されている。この特許の方法では、
導電性層上に設けられた光導電性層を正の電位に静電気
的に帯電させ、これをライトハウス内に配置したキセノ
ンフラッシュランプからの光でシャドウマスクを通して
露光する。この露光を3つの相異なるランプ位置からの
光で計3回繰り返して、後にスクリーンを形成するため
に、発光蛍光体が被着される光導電性層の領域を放電し
て静電気的な像を生じさせる。次いで、シャドウマスク
を取り外し、摩擦電気的に(負に)帯電した吸光性マト
リクス材料の粒子を、光導電性層のマトリクス開口を定
める正に帯電した領域上に直接被着する。
【0003】マトリクスの形成後、光導電性層を再び正
電位に帯電させてから、シャドウマスクを介した光で露
光し、3つの摩擦電気的に(正に)帯電した発光蛍光体
の第1のものが被着される領域を放電させる。蛍光体を
被着する前に、再びシャドウマスクをフェースプレート
パネルから取り外す。次いで、第1の摩擦電気的に(正
に)帯電した蛍光体を、光導電性層の放電された領域上
に反転現像によって被着する。同様のプロセスを更に2
回繰り返して、第2及び第3の色光放出蛍光体材料を被
着させる。
電位に帯電させてから、シャドウマスクを介した光で露
光し、3つの摩擦電気的に(正に)帯電した発光蛍光体
の第1のものが被着される領域を放電させる。蛍光体を
被着する前に、再びシャドウマスクをフェースプレート
パネルから取り外す。次いで、第1の摩擦電気的に(正
に)帯電した蛍光体を、光導電性層の放電された領域上
に反転現像によって被着する。同様のプロセスを更に2
回繰り返して、第2及び第3の色光放出蛍光体材料を被
着させる。
【0004】この米国特許第4921767号の方法の
1つの欠点は、光導電性層を放電させて、蛍光体の他に
マトリクス材料も被着できるようにするためには1回余
分にシャドウマスクの挿入と除去を行う必要があること
である。このような工程が付加されると装置及びプロセ
スにかかるコストと時間が増え、また、スクリーンやマ
スクを損傷させる可能性が高くなる。別の欠点は、被着
したマトリクスが十分な不透光度を持つようにすること
が難しいことである。不透光度は、マトリクス開口中に
被着される吸光性材料の量に比例する。電子写真的スク
リーン形成プロセスでは、マトリクスの不透光度を高く
するためには、光導電性層上に形成されるパタンを有す
る静電像に大きな電位コントラストを持たせることが必
要である。51cm対角線寸法のCRTにおいては、同じ
色の光放出蛍光体についていえば、ラインの幅が約0.
27mmで、ピッチ、即ち、相互間隔が約0.84mm(3
3ミル)であるのに対し、マトリクスのラインは約0.
1〜0.15mm(4〜6ミル)の幅しかなく、しかも、
隣接するマトリクスのライン相互間のピッチは約0.2
8mm(11ミル)しかない。このように、マトリクスの
ラインのサイズ及び間隔が小さいことにより、像の形成
がますます困難になってしまう。
1つの欠点は、光導電性層を放電させて、蛍光体の他に
マトリクス材料も被着できるようにするためには1回余
分にシャドウマスクの挿入と除去を行う必要があること
である。このような工程が付加されると装置及びプロセ
スにかかるコストと時間が増え、また、スクリーンやマ
スクを損傷させる可能性が高くなる。別の欠点は、被着
したマトリクスが十分な不透光度を持つようにすること
が難しいことである。不透光度は、マトリクス開口中に
被着される吸光性材料の量に比例する。電子写真的スク
リーン形成プロセスでは、マトリクスの不透光度を高く
するためには、光導電性層上に形成されるパタンを有す
る静電像に大きな電位コントラストを持たせることが必
要である。51cm対角線寸法のCRTにおいては、同じ
色の光放出蛍光体についていえば、ラインの幅が約0.
27mmで、ピッチ、即ち、相互間隔が約0.84mm(3
3ミル)であるのに対し、マトリクスのラインは約0.
1〜0.15mm(4〜6ミル)の幅しかなく、しかも、
隣接するマトリクスのライン相互間のピッチは約0.2
8mm(11ミル)しかない。このように、マトリクスの
ラインのサイズ及び間隔が小さいことにより、像の形成
がますます困難になってしまう。
【0005】フラッシュランプ光源が長いことと、マト
リクス像のパタン形成に必要な3回の露光のためにシャ
ドウマスクのスロット即ち開孔を通過する光が回折する
こととが複合した影響によって、光導電性層上に部分的
に重畳する半影部分が生じてしまう。この半影部分は完
全な黒ではないが、その光のレベルは、光導電性層の光
が強く当たる部分の光のレベルの約25%である。言い
換えれば、シャドウマスクを介した露光では、完全に光
が当たる部分又は完全に黒くなる部分からなる光のパタ
ンは形成されず、光の強度が低いグレーの半影部分によ
って互いに分離された明るい領域からなるパタンが形成
される。従って、光導電性層上に形成されるパタンを有
する静電像の電位のコントラストは、蛍光体のための露
光における場合よりもマトリクスのための露光において
かなり小さくなり、従って、その結果生じるマトリクス
のラインは、特にラインの端縁部において、所要の不透
光度よりも低い不透光度となってしまう。上述のシャド
ウマスクを介した光の回折パタンのために、露光時間を
長くしても電位コントラストは改善できないことがわか
った。何故なら、光導電性層の電位コントラストは、露
光時間が長くなるにつれて最大になった後、減少してい
くからである。
リクス像のパタン形成に必要な3回の露光のためにシャ
ドウマスクのスロット即ち開孔を通過する光が回折する
こととが複合した影響によって、光導電性層上に部分的
に重畳する半影部分が生じてしまう。この半影部分は完
全な黒ではないが、その光のレベルは、光導電性層の光
が強く当たる部分の光のレベルの約25%である。言い
換えれば、シャドウマスクを介した露光では、完全に光
が当たる部分又は完全に黒くなる部分からなる光のパタ
ンは形成されず、光の強度が低いグレーの半影部分によ
って互いに分離された明るい領域からなるパタンが形成
される。従って、光導電性層上に形成されるパタンを有
する静電像の電位のコントラストは、蛍光体のための露
光における場合よりもマトリクスのための露光において
かなり小さくなり、従って、その結果生じるマトリクス
のラインは、特にラインの端縁部において、所要の不透
光度よりも低い不透光度となってしまう。上述のシャド
ウマスクを介した光の回折パタンのために、露光時間を
長くしても電位コントラストは改善できないことがわか
った。何故なら、光導電性層の電位コントラストは、露
光時間が長くなるにつれて最大になった後、減少してい
くからである。
【0006】
【発明の概要】CRTのフェースプレートパネルの内面
に発光スクリーン構体を形成するための電子写真的プロ
セスにおいて、先ず、パネルを導電性層でコーティング
し、その上を光導電性層でコーティングする。多数の
赤、緑、青色発光蛍光体スクリーン素子が、循環的な順
序で配列された色群をなしてパネルの面上に被着され
る。次に、光導電性層に電荷を与える。電荷は、光導電
性層の蛍光体スクリーン素子の下にある領域では弱めら
れているが、蛍光体スクリーン素子を互いに分離してい
る露出した領域では何ら影響を受けない。少なくともこ
の露出領域に化学線を照射して、この領域の放電を行
う。光導電性層の露出領域は、その上に適切な摩擦電気
的な電荷を有する吸光性マトリクス材料粒子を被着する
ことによって反転現像される。
に発光スクリーン構体を形成するための電子写真的プロ
セスにおいて、先ず、パネルを導電性層でコーティング
し、その上を光導電性層でコーティングする。多数の
赤、緑、青色発光蛍光体スクリーン素子が、循環的な順
序で配列された色群をなしてパネルの面上に被着され
る。次に、光導電性層に電荷を与える。電荷は、光導電
性層の蛍光体スクリーン素子の下にある領域では弱めら
れているが、蛍光体スクリーン素子を互いに分離してい
る露出した領域では何ら影響を受けない。少なくともこ
の露出領域に化学線を照射して、この領域の放電を行
う。光導電性層の露出領域は、その上に適切な摩擦電気
的な電荷を有する吸光性マトリクス材料粒子を被着する
ことによって反転現像される。
【0007】
【詳細な説明と推奨実施例】図1は、矩形フェースプレ
ートパネル12とこれに矩形ファンネル15によって接
続された管状ネック14とを備えたガラス外囲器11を
有するカラーCRT10を示す。ファンネル15には、
アノードボタン16と接触し、ネック14中にまで伸び
る内部導電性コーティング(図示せず)が施されてい
る。パネル12は、観察フェースプレート即ち基板1
8、及びガラスフリット21でファンネル15に封着さ
れた周縁フランジ即ち側壁20を含んでいる。3色蛍光
体スクリーン22がフェースプレート18の内面に支持
されている。図2に示すように、スクリーン22は、好
ましくは、循環的順序で配列された3本のストライプか
らなる色群即ち画素、即ち3つ組として構成され、か
つ、電子ビームが生成される面に全体として垂直な方向
に伸びる赤、緑、青の発光蛍光体ストライプR、G、B
からなる複数のスクリーン素子を含むラインスクリーン
である。51cm対角線寸法のCRTの場合、代表的に
は、蛍光体ストライプの各々は、約0.27mmの幅A
と、約0.84mmのピッチBを有している。この実施例
の通常の観察位置で見ると、蛍光体ストライプは吸光性
マトリクス材料23で互いに分離されている。代表的な
ものでは、マトリクスのラインは約0.10〜0.15
mmの幅Cと、約0.28mmのピッチDを有している。或
いは、スクリーンはドットスクリーンでもよい。好まし
くはアルミニウム製の薄い導電性層24がスクリーン2
2上に形成されており、これがスクリーンに均一な電位
を印加する手段と蛍光体素子から放射される光をフェー
スプレート18を通して反射する手段とを提供する。ス
クリーン22、マトリクス23及びその上のアルミニウ
ム層24によってスクリーン構体が構成されている。
ートパネル12とこれに矩形ファンネル15によって接
続された管状ネック14とを備えたガラス外囲器11を
有するカラーCRT10を示す。ファンネル15には、
アノードボタン16と接触し、ネック14中にまで伸び
る内部導電性コーティング(図示せず)が施されてい
る。パネル12は、観察フェースプレート即ち基板1
8、及びガラスフリット21でファンネル15に封着さ
れた周縁フランジ即ち側壁20を含んでいる。3色蛍光
体スクリーン22がフェースプレート18の内面に支持
されている。図2に示すように、スクリーン22は、好
ましくは、循環的順序で配列された3本のストライプか
らなる色群即ち画素、即ち3つ組として構成され、か
つ、電子ビームが生成される面に全体として垂直な方向
に伸びる赤、緑、青の発光蛍光体ストライプR、G、B
からなる複数のスクリーン素子を含むラインスクリーン
である。51cm対角線寸法のCRTの場合、代表的に
は、蛍光体ストライプの各々は、約0.27mmの幅A
と、約0.84mmのピッチBを有している。この実施例
の通常の観察位置で見ると、蛍光体ストライプは吸光性
マトリクス材料23で互いに分離されている。代表的な
ものでは、マトリクスのラインは約0.10〜0.15
mmの幅Cと、約0.28mmのピッチDを有している。或
いは、スクリーンはドットスクリーンでもよい。好まし
くはアルミニウム製の薄い導電性層24がスクリーン2
2上に形成されており、これがスクリーンに均一な電位
を印加する手段と蛍光体素子から放射される光をフェー
スプレート18を通して反射する手段とを提供する。ス
クリーン22、マトリクス23及びその上のアルミニウ
ム層24によってスクリーン構体が構成されている。
【0008】再度、図1を参照すると、多孔色選択電極
即ちシャドウマスク25が、通常の手段によりスクリー
ン構体に対して予め定められた間隔をおいて取り外し可
能に取り付けられている。図1に破線で概略的に示した
電子銃26がネック14内に中心合わせして配置されて
いる。この電子銃26は3本の電子ビーム28を生成し
てこれを集中径路に沿ってマスク25中の開孔即ちスロ
ットを通してスクリーン22に指向させる。
即ちシャドウマスク25が、通常の手段によりスクリー
ン構体に対して予め定められた間隔をおいて取り外し可
能に取り付けられている。図1に破線で概略的に示した
電子銃26がネック14内に中心合わせして配置されて
いる。この電子銃26は3本の電子ビーム28を生成し
てこれを集中径路に沿ってマスク25中の開孔即ちスロ
ットを通してスクリーン22に指向させる。
【0009】CRT10は、ヨーク30のような、ファ
ンネル−ネック接合領域に配置した外部磁気偏向ヨーク
と共に使用するように構成されている。このヨーク30
を付勢すると、ヨーク30によって3本のビーム28が
磁界の影響を受け、これによってビームが水平方向及び
垂直方向に走査されて、スクリーン22に矩形のラスタ
が描かれる。偏向の初期平面(0偏向時)は図1にヨー
ク30のほぼ中央に線P−Pで示す。簡略化のため、偏
向部分の偏向ビーム径路の実際の湾曲は図示していな
い。
ンネル−ネック接合領域に配置した外部磁気偏向ヨーク
と共に使用するように構成されている。このヨーク30
を付勢すると、ヨーク30によって3本のビーム28が
磁界の影響を受け、これによってビームが水平方向及び
垂直方向に走査されて、スクリーン22に矩形のラスタ
が描かれる。偏向の初期平面(0偏向時)は図1にヨー
ク30のほぼ中央に線P−Pで示す。簡略化のため、偏
向部分の偏向ビーム径路の実際の湾曲は図示していな
い。
【0010】スクリーン22は図3にブロック図として
示した電子写真的プロセスによって生成される。このプ
ロセスの中の選択された幾つかの工程を図4a〜図4g
に概略的に示す。このプロセスは、前述の米国特許第4
921767号及び1991年7月2日付でリット(Ri
tt)氏他に付与された米国特許第5028501号に開
示されているプロセスに似たものである。
示した電子写真的プロセスによって生成される。このプ
ロセスの中の選択された幾つかの工程を図4a〜図4g
に概略的に示す。このプロセスは、前述の米国特許第4
921767号及び1991年7月2日付でリット(Ri
tt)氏他に付与された米国特許第5028501号に開
示されているプロセスに似たものである。
【0011】本願のプロセスでは、パネルを前処理する
技術で知られているように、最初にパネル12を苛性ア
ルカリ液で洗浄してから水洗し、緩衝フッ化水素酸でエ
ッチングして再び水洗する。次いで、図3及び図4aに
示すように、観察フェースプレート18の内面を有機導
電性(OC)層32を形成する導電性有機材料でコーテ
ィングする。OC層32はその上に形成される有機光導
電性(OPC)層34に対する電極として作用する。O
C層32及びOPC層34の双方は、約425℃の温度
で揮発させることができるものである。図4bに示すよ
うに、OPC層34は、暗くした環境下で、1992年
1月28日付でダッタ氏他に付与された米国特許第50
83959号に記載されている形式のコロナ荷電装置3
6によって約200〜600Vの正電位に荷電される。
シャドウマスク25がパネル12に挿入され、OPC層
34の緑色発光蛍光体材料が被着される位置に対応する
領域を化学線、例えば、図4cに示す第1のライトハウ
ス(レンズ40で表す)内に配置されたキセノンフラッ
シュランプ或いは水銀蒸気ランプ38からの光で露光す
ることによって選択的に放電させる。
技術で知られているように、最初にパネル12を苛性ア
ルカリ液で洗浄してから水洗し、緩衝フッ化水素酸でエ
ッチングして再び水洗する。次いで、図3及び図4aに
示すように、観察フェースプレート18の内面を有機導
電性(OC)層32を形成する導電性有機材料でコーテ
ィングする。OC層32はその上に形成される有機光導
電性(OPC)層34に対する電極として作用する。O
C層32及びOPC層34の双方は、約425℃の温度
で揮発させることができるものである。図4bに示すよ
うに、OPC層34は、暗くした環境下で、1992年
1月28日付でダッタ氏他に付与された米国特許第50
83959号に記載されている形式のコロナ荷電装置3
6によって約200〜600Vの正電位に荷電される。
シャドウマスク25がパネル12に挿入され、OPC層
34の緑色発光蛍光体材料が被着される位置に対応する
領域を化学線、例えば、図4cに示す第1のライトハウ
ス(レンズ40で表す)内に配置されたキセノンフラッ
シュランプ或いは水銀蒸気ランプ38からの光で露光す
ることによって選択的に放電させる。
【0012】第1のライトハウス内のランプの位置は、
緑色蛍光体に入射する電子ビームの集中角に近似する角
度で光が進むような位置とされている。次に、シャドウ
マスク25をパネル12から取り外し、パネルを、図4
dに示した、適切に調製された緑色発光蛍光体スクリー
ン構造材料の乾燥粉末状粒子を入れた第1の現像機42
に移す。この乾燥粉末状蛍光体粒子は、蛍光体粒子をカ
プセル化し、その上に摩擦電気的な正電荷を生じさせる
ことができる適切な電荷制御材料で予め表面処理されて
いる。正に帯電した緑色発光蛍光体粒子は、現像機から
放出され、OPC層34の正に帯電した領域には反発し
て付着せず、OPC層34の露光された放電された領域
上に被着される。これは「反転現像」として知られる。
蛍光体粒子の表面処理及び摩擦電気的荷電処理とOPC
層34の現像は、上記米国特許第4921767号に開
示されている。
緑色蛍光体に入射する電子ビームの集中角に近似する角
度で光が進むような位置とされている。次に、シャドウ
マスク25をパネル12から取り外し、パネルを、図4
dに示した、適切に調製された緑色発光蛍光体スクリー
ン構造材料の乾燥粉末状粒子を入れた第1の現像機42
に移す。この乾燥粉末状蛍光体粒子は、蛍光体粒子をカ
プセル化し、その上に摩擦電気的な正電荷を生じさせる
ことができる適切な電荷制御材料で予め表面処理されて
いる。正に帯電した緑色発光蛍光体粒子は、現像機から
放出され、OPC層34の正に帯電した領域には反発し
て付着せず、OPC層34の露光された放電された領域
上に被着される。これは「反転現像」として知られる。
蛍光体粒子の表面処理及び摩擦電気的荷電処理とOPC
層34の現像は、上記米国特許第4921767号に開
示されている。
【0013】荷電、選択的な放電及び蛍光体現像のプロ
セスが、スクリーン構造材料の乾燥粉末状青色発光及び
赤色発光蛍光体粒子についても繰り返して行われる。O
PC層34の正に帯電した領域を選択的に放電させるた
めの化学線による露光を、それぞれ、青色蛍光体に入射
する電子ビーム及び赤色蛍光体に入射する電子ビームの
集中角に近似する角度で光が進むような位置にランプが
配置されている第2と第3のライトハウスで順次行う。
青色発光蛍光体粒子及び赤色発光蛍光体粒子も摩擦電気
的に正電位に帯電させることが出来るように表面処理さ
れている。青色発光蛍光体粒子及び赤色発光蛍光体粒子
は、第2と第3の現像機42から放出されて、予め被着
されているスクリーン構造材料の正に帯電した領域には
反発して付着せずに、OPC層34の放電された領域に
は被着し、青色発光蛍光体素子及び赤色発光蛍光体素子
のそれぞれを生成する。
セスが、スクリーン構造材料の乾燥粉末状青色発光及び
赤色発光蛍光体粒子についても繰り返して行われる。O
PC層34の正に帯電した領域を選択的に放電させるた
めの化学線による露光を、それぞれ、青色蛍光体に入射
する電子ビーム及び赤色蛍光体に入射する電子ビームの
集中角に近似する角度で光が進むような位置にランプが
配置されている第2と第3のライトハウスで順次行う。
青色発光蛍光体粒子及び赤色発光蛍光体粒子も摩擦電気
的に正電位に帯電させることが出来るように表面処理さ
れている。青色発光蛍光体粒子及び赤色発光蛍光体粒子
は、第2と第3の現像機42から放出されて、予め被着
されているスクリーン構造材料の正に帯電した領域には
反発して付着せずに、OPC層34の放電された領域に
は被着し、青色発光蛍光体素子及び赤色発光蛍光体素子
のそれぞれを生成する。
【0014】マトリクス23はOPC層34とその上の
蛍光体とを約200〜600V、好ましくは約350V
の負電位に帯電させることによって形成される。図4e
に示すように、荷電装置36と同様であるが負のコロナ
放電を発生させることが出来る荷電装置36’が使用さ
れる。この荷電によって、OPC層34の上に蛍光体粒
子が重なっている領域では弱く、OPC層34の互いに
隣接する蛍光体領域の間に露出している部分では強い静
電気的「映像引力(イメージ・フォース)」が形成され
る。
蛍光体とを約200〜600V、好ましくは約350V
の負電位に帯電させることによって形成される。図4e
に示すように、荷電装置36と同様であるが負のコロナ
放電を発生させることが出来る荷電装置36’が使用さ
れる。この荷電によって、OPC層34の上に蛍光体粒
子が重なっている領域では弱く、OPC層34の互いに
隣接する蛍光体領域の間に露出している部分では強い静
電気的「映像引力(イメージ・フォース)」が形成され
る。
【0015】図4fに示すように、365nmの波長の紫
外光を含むスペクトル分布を有する水銀アーク光源44
を使用してOPC層34をフラッド照明する。米国ニュ
ーヨーク州コーニング(Corning )のコーニンググラス
社(Corning Glass Co. )製のNo.5840フィルタ
のような紫外線透過可視光遮蔽フィルタ46を光源とO
PC層34との間の適切な場所に配置して、このフィル
タによって400nmよりも長い波長の光を除去してもよ
い。OPC層34に入射する紫外線によって露出領域
が、例えば、最初の電荷約−350Vから約−190V
(フラッド照明による露光後)まで放電される。しか
し、OPC層34の他の部分の上に設けられている蛍光
体材料は、入射光を吸収するが電荷は保持しているた
め、遮蔽効果を有しているので、その下にあるOPC層
の電荷は減少せず、蛍光体及びOPC層の電荷は約−3
50Vに維持される。この発明のプロセスは、OPC層
34をフラッド光で露光することを利用したものである
ため、付加的な精密なライトハウスが不必要であり、ま
たマトリクスの露光の前にシャドウマスクを挿入し、露
光の後で取り外すという工程も必要ない。但し、この発
明のプロセスは、照明をOPC層34の露出領域に限定
するためのマスクの使用を妨げるものではない。
外光を含むスペクトル分布を有する水銀アーク光源44
を使用してOPC層34をフラッド照明する。米国ニュ
ーヨーク州コーニング(Corning )のコーニンググラス
社(Corning Glass Co. )製のNo.5840フィルタ
のような紫外線透過可視光遮蔽フィルタ46を光源とO
PC層34との間の適切な場所に配置して、このフィル
タによって400nmよりも長い波長の光を除去してもよ
い。OPC層34に入射する紫外線によって露出領域
が、例えば、最初の電荷約−350Vから約−190V
(フラッド照明による露光後)まで放電される。しか
し、OPC層34の他の部分の上に設けられている蛍光
体材料は、入射光を吸収するが電荷は保持しているた
め、遮蔽効果を有しているので、その下にあるOPC層
の電荷は減少せず、蛍光体及びOPC層の電荷は約−3
50Vに維持される。この発明のプロセスは、OPC層
34をフラッド光で露光することを利用したものである
ため、付加的な精密なライトハウスが不必要であり、ま
たマトリクスの露光の前にシャドウマスクを挿入し、露
光の後で取り外すという工程も必要ない。但し、この発
明のプロセスは、照明をOPC層34の露出領域に限定
するためのマスクの使用を妨げるものではない。
【0016】フラッド光による露光を行うと、OPC層
の放電された露出領域と、蛍光体で覆われた負に帯電し
たOPC層の領域との間には大きな電位コントラストが
生じる。マトリクス材料は、通常、CRT処理温度で安
定な黒色顔料、ポリマ及び適切な電荷制御剤を含んでい
る。上記米国特許第4921767号に記載されている
ように、電荷制御剤は、マトリクス粒子を摩擦電気的に
負に帯電しやすくするものである。次いで、パネル12
がマトリクス現像機42’上に配置される。マトリクス
現像機42’から、負に帯電した吸光性マトリクス材料
の微細な粒子が図4gに示すように放出される。映像引
力は負に帯電したOPC層34からの距離の2乗に反比
例して変化するため、負に帯電したマトリクス粒子は優
先的に、放電された露出OPC領域の方に引き寄せられ
るが、蛍光体及びその下のOPC層34では負電荷が減
少していないのでその負の電荷によって強くはねのけら
れる。このように、マトリクス粒子は蛍光体素子相互間
の負の帯電がより少ない間隙に向かい、より強く負に帯
電した蛍光体粒子で既に覆われている領域からははねか
えされる。従って、蛍光体の汚染は殆ど起こらない。従
って、高電位コントラストを用いたこの発明のマトリク
ス被着プロセスによって、上記米国特許第492176
7号及び第5028501号に開示された従来の電子写
真的マトリクス形成プロセスよりも、少ない処理工程で
より高い不透光度のマトリクスを形成することが出来
る。
の放電された露出領域と、蛍光体で覆われた負に帯電し
たOPC層の領域との間には大きな電位コントラストが
生じる。マトリクス材料は、通常、CRT処理温度で安
定な黒色顔料、ポリマ及び適切な電荷制御剤を含んでい
る。上記米国特許第4921767号に記載されている
ように、電荷制御剤は、マトリクス粒子を摩擦電気的に
負に帯電しやすくするものである。次いで、パネル12
がマトリクス現像機42’上に配置される。マトリクス
現像機42’から、負に帯電した吸光性マトリクス材料
の微細な粒子が図4gに示すように放出される。映像引
力は負に帯電したOPC層34からの距離の2乗に反比
例して変化するため、負に帯電したマトリクス粒子は優
先的に、放電された露出OPC領域の方に引き寄せられ
るが、蛍光体及びその下のOPC層34では負電荷が減
少していないのでその負の電荷によって強くはねのけら
れる。このように、マトリクス粒子は蛍光体素子相互間
の負の帯電がより少ない間隙に向かい、より強く負に帯
電した蛍光体粒子で既に覆われている領域からははねか
えされる。従って、蛍光体の汚染は殆ど起こらない。従
って、高電位コントラストを用いたこの発明のマトリク
ス被着プロセスによって、上記米国特許第492176
7号及び第5028501号に開示された従来の電子写
真的マトリクス形成プロセスよりも、少ない処理工程で
より高い不透光度のマトリクスを形成することが出来
る。
【0017】表面処理されたブラックマトリクス材料及
び緑色、青色及び赤色発光蛍光体粒子を含むスクリーン
構造材料は、OPC層34に静電気的に付着即ち接着さ
れる。上記米国特許第5028501号に記載されてい
るように、スクリーン構造材料の接着性は、その上に静
電気的に荷電された乾燥粉末状のフィルム形成樹脂を第
5の現像機(図示せず)により直接被着することによっ
て増大させることが出来る。OC層32はフィルム形成
樹脂を被着する間は接地しておく。フィルム形成ステッ
プに進む前に、図4bに示したものと同様の荷電装置3
6を使用して約200〜400Vの実質的に均一な正電
位をOPC層34に印加し、樹脂を吸引して均一な被着
が行われるようにする。この場合、樹脂は負に荷電され
る。この現像機としては、樹脂粒子を荷電する通常の静
電銃を用いてもよい。樹脂は、約120℃よりも低いガ
ラス転移温度/メルトフローインデックスを有し、かつ
約400℃よりも低い熱分解温度を有する有機材料であ
る。
び緑色、青色及び赤色発光蛍光体粒子を含むスクリーン
構造材料は、OPC層34に静電気的に付着即ち接着さ
れる。上記米国特許第5028501号に記載されてい
るように、スクリーン構造材料の接着性は、その上に静
電気的に荷電された乾燥粉末状のフィルム形成樹脂を第
5の現像機(図示せず)により直接被着することによっ
て増大させることが出来る。OC層32はフィルム形成
樹脂を被着する間は接地しておく。フィルム形成ステッ
プに進む前に、図4bに示したものと同様の荷電装置3
6を使用して約200〜400Vの実質的に均一な正電
位をOPC層34に印加し、樹脂を吸引して均一な被着
が行われるようにする。この場合、樹脂は負に荷電され
る。この現像機としては、樹脂粒子を荷電する通常の静
電銃を用いてもよい。樹脂は、約120℃よりも低いガ
ラス転移温度/メルトフローインデックスを有し、かつ
約400℃よりも低い熱分解温度を有する有機材料であ
る。
【0018】樹脂は、水に不溶で、好ましくは電荷分布
を良くするために不規則な粒子形状を有し、約50ミク
ロンよりも小さい粒径を持つ。推奨される材料は、n−
ブチルメタクリレートであるが、他のアクリル樹脂、メ
チルメタクリレート及びポリエチレンワックスを使用し
ても好結果が得られた。約2gの粉末状フィルム形成樹
脂をフェースプレート18のスクリーン表面22上に被
着させる。次いで、適当な加熱源、例えば、輻射加熱器
を使用してフェースプレートを100〜120℃の温度
で約1〜5分間加熱し、樹脂を溶かしてフィルム(図示
せず)にする。このようにして形成されたフィルムは水
に不溶であり、この後に、フィルムに厚さや均一性を付
加するために湿式フィルム形成ステップを行う必要があ
る場合には、保護バリヤとして作用する。或いは、スク
リーン構造材料に、この技術分野で知られているよう
に、水性エマルジョンを用いてフィルムを形成してもよ
い。ホウ酸、又は、シュウ酸アンモニウムの2〜4重量
%水溶液を、フィルム上に噴霧して通気促進コーティン
グ(図示せず)を形成する。次いで、パネル12を、こ
の技術分野で知られているように、アルミニウム処理し
てアルミニウム層24を形成し、これを約425℃の温
度で約30〜60分間、或いはスクリーン構体の揮発性
有機成分が除去されるまでベーキングする。
を良くするために不規則な粒子形状を有し、約50ミク
ロンよりも小さい粒径を持つ。推奨される材料は、n−
ブチルメタクリレートであるが、他のアクリル樹脂、メ
チルメタクリレート及びポリエチレンワックスを使用し
ても好結果が得られた。約2gの粉末状フィルム形成樹
脂をフェースプレート18のスクリーン表面22上に被
着させる。次いで、適当な加熱源、例えば、輻射加熱器
を使用してフェースプレートを100〜120℃の温度
で約1〜5分間加熱し、樹脂を溶かしてフィルム(図示
せず)にする。このようにして形成されたフィルムは水
に不溶であり、この後に、フィルムに厚さや均一性を付
加するために湿式フィルム形成ステップを行う必要があ
る場合には、保護バリヤとして作用する。或いは、スク
リーン構造材料に、この技術分野で知られているよう
に、水性エマルジョンを用いてフィルムを形成してもよ
い。ホウ酸、又は、シュウ酸アンモニウムの2〜4重量
%水溶液を、フィルム上に噴霧して通気促進コーティン
グ(図示せず)を形成する。次いで、パネル12を、こ
の技術分野で知られているように、アルミニウム処理し
てアルミニウム層24を形成し、これを約425℃の温
度で約30〜60分間、或いはスクリーン構体の揮発性
有機成分が除去されるまでベーキングする。
【図1】この発明によって製造されたカラー陰極線管
の、一部を軸方向の断面で示す平面図である。
の、一部を軸方向の断面で示す平面図である。
【図2】スクリーン構体を示す図1の陰極線管のフェー
スプレートパネルの断面図である。
スプレートパネルの断面図である。
【図3】この発明によるスクリーン構体製造プロセスの
ブロック図である。
ブロック図である。
【図4】図2のスクリーン構体の製造プロセス中の幾つ
かの選択された工程を示す図である。
かの選択された工程を示す図である。
10 陰極線管 12 フェースプレートパネル 23 吸光性マトリクス 32 導電性層 34 光導電性層
フロントページの続き (72)発明者 ジヨージ ミルトン エヒマン ジユニ ア アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 17601 ランカスター ヘレン・アベニ ユ 837 (56)参考文献 特開 平2−284331(JP,A) 特開 平5−258668(JP,A) 特開 平7−254362(JP,A) 特公 昭53−32677(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 9/227
Claims (4)
- 【請求項1】 陰極線管のフェースプレートパネルの内
面に発光スクリーン構体を電子写真的に形成する方法で
あって、上記発光スクリーン構体は光導電性層で覆われ
た導電性層と、循環する順序で色群をなして配列された
多数の赤、緑及び青色発光蛍光体スクリーン素子とを含
み、上記蛍光体スクリーン素子は、上記光導電性層の選
択された領域を順次化学線に露光してその電荷に変化を
与え、次いで、摩擦電気的に帯電した赤、緑及び青色発
光蛍光体スクリーン材料をそれぞれ上記選択された領域
に被着することにより形成されたものであり、かつ、上
記各蛍光体スクリーン素子は上記光導電性層の上記蛍光
体スクリーン素子によって覆われていない領域を覆うよ
うに設けられた吸光性マトリクスによって相互に分離さ
れており、上記マトリクスが、 上記光導電性層に、当初は、上記光導電性層の上記蛍光
体スクリーン素子によって覆われている領域におけるよ
りも上記覆われていない領域において大きい電荷を付与
し;少なくとも上記蛍光体スクリーン素子間の上記光導
電性層の上記覆われていない領域に化学線を照射するこ
とにより、上記覆われていない領域を放電させ;上記覆
われていない領域に適当な摩擦電気的な電荷を有するマ
トリクス材料の粒子を被着して、上記覆われていない領
域を現像することによって形成される、発光スクリーン
構体を電子写真的に形成する方法。 - 【請求項2】 上記放電ステップが光導電性層全体をフ
ラッド照明することを含んでおり、それによって上記光
導電性層の上記覆われていない領域上の電荷が低減さ
れ、一方、上記蛍光体スクリーン素子の下にある上記光
導電性層の電荷が上記蛍光体スクリーン素子の遮蔽効果
及びその上に残留する電荷のために実質的に影響を受け
ないようにされている、請求項1に記載の発光スクリー
ン構体を電子写真的に形成する方法。 - 【請求項3】 上記フラッド照明光が実質的に可視波長
成分を持たず、365nmの波長を有している請求項2に
記載の発光スクリーン構体を電子写真的に形成する方
法。 - 【請求項4】 上記マトリクス粒子の上記適切な摩擦電
気的な電荷が、上記光導電性層に形成された電荷と同じ
極性を有し、上記覆われていない領域が反転現像によっ
て現像されるものである、請求項1又は2に記載の発光
スクリーン構体を電子写真的に形成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US037637 | 1993-03-19 | ||
US08/037,637 US5340674A (en) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | Method of electrophotographically manufacturing a screen assembly for a cathode-ray tube with a subsequently formed matrix |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0721914A JPH0721914A (ja) | 1995-01-24 |
JP2829703B2 true JP2829703B2 (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=21895436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6074215A Expired - Fee Related JP2829703B2 (ja) | 1993-03-19 | 1994-03-18 | 発光スクリーン構体を電子写真的に形成する方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5340674A (ja) |
JP (1) | JP2829703B2 (ja) |
KR (1) | KR970007706B1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5477285A (en) * | 1993-10-06 | 1995-12-19 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | CRT developing apparatus |
WO1996035222A1 (en) * | 1995-04-29 | 1996-11-07 | Orion Electric Co., Ltd. | AN ELECTROPHOTOGRAPHICALLY MANUFACTURING OF A LUMINESCENT SCREEN FOR CRTs |
KR100388899B1 (ko) * | 1995-12-29 | 2003-09-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | 도전막조성물및이를사용하여형성된도전막을채용한음극선관용벌브 |
IT1283024B1 (it) * | 1996-05-16 | 1998-04-03 | Videocolor Spa | Metodo di fabbricazione di uno schermo a fosfori |
KR19980036683A (ko) * | 1996-11-19 | 1998-08-05 | 손욱 | 음극선관의 형광막 제조방법 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3489556A (en) * | 1966-03-16 | 1970-01-13 | Zenith Radio Corp | Process fo electrostatically screening color cathode-ray tubes |
NL8102224A (nl) * | 1981-05-07 | 1982-12-01 | Philips Nv | Werkwijze voor het langs elektrofotografische weg vervaardigen van een beeldscherm voor een kleurenbeeldbuis. |
US4921767A (en) * | 1988-12-21 | 1990-05-01 | Rca Licensing Corp. | Method of electrophotographically manufacturing a luminescent screen assembly for a cathode-ray-tube |
US5028501A (en) * | 1989-06-14 | 1991-07-02 | Rca Licensing Corp. | Method of manufacturing a luminescent screen assembly using a dry-powdered filming material |
US5093217A (en) * | 1989-10-11 | 1992-03-03 | Rca Thomson Licensing Corporation | Apparatus and method for manufacturing a screen assembly for a crt utilizing a grid-developing electrode |
US5083959A (en) * | 1990-08-13 | 1992-01-28 | Rca Thomson Licensing Corp. | CRT charging apparatus |
US5229234A (en) * | 1992-01-27 | 1993-07-20 | Rca Thomson Licensing Corp. | Dual exposure method of forming a matrix for an electrophotographically manufactured screen assembly of a cathode-ray tube |
US5240798A (en) * | 1992-01-27 | 1993-08-31 | Thomson Consumer Electronics | Method of forming a matrix for an electrophotographically manufactured screen assembly for a cathode-ray tube |
-
1993
- 1993-03-19 US US08/037,637 patent/US5340674A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-03-17 KR KR1019940005309A patent/KR970007706B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-18 JP JP6074215A patent/JP2829703B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5340674A (en) | 1994-08-23 |
JPH0721914A (ja) | 1995-01-24 |
KR940022644A (ko) | 1994-10-21 |
KR970007706B1 (ko) | 1997-05-15 |
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