JP2820885B2 - 陰極線管用ゲッタの固定装置 - Google Patents
陰極線管用ゲッタの固定装置Info
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- JP2820885B2 JP2820885B2 JP6078389A JP7838994A JP2820885B2 JP 2820885 B2 JP2820885 B2 JP 2820885B2 JP 6078389 A JP6078389 A JP 6078389A JP 7838994 A JP7838994 A JP 7838994A JP 2820885 B2 JP2820885 B2 JP 2820885B2
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J7/14—Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J7/18—Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering
- H01J7/186—Getter supports
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/94—Selection of substances for gas fillings; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the tube, e.g. by gettering
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は陰極線管用ゲッタの固定
装置に関し、特にゲッタを固定する支持部材の外側にス
トリップを備え、ゲッタカバーを固定させることによ
り、種々の形態のゲッタリング（ゲッタ環）を固定でき
るようにしたものである。
装置に関し、特にゲッタを固定する支持部材の外側にス
トリップを備え、ゲッタカバーを固定させることによ
り、種々の形態のゲッタリング（ゲッタ環）を固定でき
るようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は一般な陰極線管の要部構成図であ
る。一般に、陰極線管Ｃの内部には、図示のように、シ
ャドーマスク１が固定されたパネル２の後面にファネル
３を接合し、ファネル３の一定個所には陰極線管の内部
真空度を向上させるためのゲッタ組立体５が固定されて
いる。ここで、ゲッタとは、周知のように気体分子を化
学的に吸着して排気するためのものであり、例えば真空
管や陰極線管の内部に設けられ、内部の真空度を向上維
持するためのものである。
る。一般に、陰極線管Ｃの内部には、図示のように、シ
ャドーマスク１が固定されたパネル２の後面にファネル
３を接合し、ファネル３の一定個所には陰極線管の内部
真空度を向上させるためのゲッタ組立体５が固定されて
いる。ここで、ゲッタとは、周知のように気体分子を化
学的に吸着して排気するためのものであり、例えば真空
管や陰極線管の内部に設けられ、内部の真空度を向上維
持するためのものである。
【０００３】図４は従来のゲッタ固定装置の一例構成図
であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図である。ゲッ
タ組立体５は図示のように、ゲッタリング６と、このゲ
ッタリング６が溶接されて固定される支持部材７と、支
持部材７に固定されてゲッタ物質６ａの飛散方向を制限
するゲッタカバー８とで構成される。支持部材７とゲッ
タカバー８とは、通常、耐熱性に優れたステンレス鋼材
からなり、ゲッタリング６の内部にはバリウム、アルミ
ニウム、ニッケルを適正比率で混合したゲッタ物質６ａ
が圧着されている。なお、図３の参照番号１０はゲッタ
リング６を加熱するための高周波コイルである。
であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図である。ゲッ
タ組立体５は図示のように、ゲッタリング６と、このゲ
ッタリング６が溶接されて固定される支持部材７と、支
持部材７に固定されてゲッタ物質６ａの飛散方向を制限
するゲッタカバー８とで構成される。支持部材７とゲッ
タカバー８とは、通常、耐熱性に優れたステンレス鋼材
からなり、ゲッタリング６の内部にはバリウム、アルミ
ニウム、ニッケルを適正比率で混合したゲッタ物質６ａ
が圧着されている。なお、図３の参照番号１０はゲッタ
リング６を加熱するための高周波コイルである。
【０００４】このゲッタリング６は、陰極線管Ｃの製造
時に、機械的な排気工程以後に実施されるゲッタ工程に
おいて、高周波の渦流加熱により約１１５０°Ｃの温度
で加熱させると、ゲッタリング６に備わるゲッタ物質６
ａのバリウム成分が陰極線管Ｃの内部に飛散を開始する
ことになる。この過程により飛散したバリウムは、エー
ジング過程においてイオン化現象により陰極線管Ｃの内
部の残留ガスを吸着することにより、陰極線管Ｃの内部
の真空度を約１０-7 Torr に保持させることになる。
時に、機械的な排気工程以後に実施されるゲッタ工程に
おいて、高周波の渦流加熱により約１１５０°Ｃの温度
で加熱させると、ゲッタリング６に備わるゲッタ物質６
ａのバリウム成分が陰極線管Ｃの内部に飛散を開始する
ことになる。この過程により飛散したバリウムは、エー
ジング過程においてイオン化現象により陰極線管Ｃの内
部の残留ガスを吸着することにより、陰極線管Ｃの内部
の真空度を約１０-7 Torr に保持させることになる。
【０００５】ここで、ゲッタカバー８は飛散されるバリ
ウムがシャドーマスク１に蒸着されるのを防止する機能
があるが、バリウムがシャドーマスク１に蒸着される場
合、蒸着程度が均一でないので偏って蒸着されるように
なる。一方、シャドーマスク１は電子銃４から放射され
るビームの衝突時に約８０°Ｃ以上の熱が発生し熱膨張
することになるが、上記のようなバリウムの偏り蒸着時
には、その蒸着の程度によって熱膨張率の偏差が生じる
ことにより、ドーミング(Doming,半球体状) 現象を起こ
すことになり、スクリーン特性を阻害することは勿論の
こと、輝度を低下させる主要因をもたらすことになる。
従って、ゲッタ組立体５にはゲッタカバー８によって、
ゲッタ物質６ａがシャドーマスク１側へ飛散することを
極力防止しなければならない。
ウムがシャドーマスク１に蒸着されるのを防止する機能
があるが、バリウムがシャドーマスク１に蒸着される場
合、蒸着程度が均一でないので偏って蒸着されるように
なる。一方、シャドーマスク１は電子銃４から放射され
るビームの衝突時に約８０°Ｃ以上の熱が発生し熱膨張
することになるが、上記のようなバリウムの偏り蒸着時
には、その蒸着の程度によって熱膨張率の偏差が生じる
ことにより、ドーミング(Doming,半球体状) 現象を起こ
すことになり、スクリーン特性を阻害することは勿論の
こと、輝度を低下させる主要因をもたらすことになる。
従って、ゲッタ組立体５にはゲッタカバー８によって、
ゲッタ物質６ａがシャドーマスク１側へ飛散することを
極力防止しなければならない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来構造では、ゲッタリング６の種々の形態に応じて、
ゲッタカバー８と支持部材７等の設計変更が必要にな
る。即ち、図４では、中央に固定孔６ｂが形成されたゲ
ッタリング６が示されており、このような構造では、ゲ
ッタカバー８はその中央にドローイング加工により陥没
された溶接部８ａを形成し、固定孔６ｂを通して支持部
材７に溶接固定させることになる。
従来構造では、ゲッタリング６の種々の形態に応じて、
ゲッタカバー８と支持部材７等の設計変更が必要にな
る。即ち、図４では、中央に固定孔６ｂが形成されたゲ
ッタリング６が示されており、このような構造では、ゲ
ッタカバー８はその中央にドローイング加工により陥没
された溶接部８ａを形成し、固定孔６ｂを通して支持部
材７に溶接固定させることになる。
【０００７】しかし、周知のように、ゲッタリング６は
図４に例示したもの以外にも種々の形態、例えば、図５
に示すように円板状の形態がある。この図５の場合に
は、ゲッタリング６のためにゲッタカバー８を支持部材
７に直接固定させることができないので、構成部品等の
設計変更が要求されることになる。従って、ゲッタリン
グ以外のゲッタ組立体５の標準化若しくは規格化を制限
する要因になる。
図４に例示したもの以外にも種々の形態、例えば、図５
に示すように円板状の形態がある。この図５の場合に
は、ゲッタリング６のためにゲッタカバー８を支持部材
７に直接固定させることができないので、構成部品等の
設計変更が要求されることになる。従って、ゲッタリン
グ以外のゲッタ組立体５の標準化若しくは規格化を制限
する要因になる。
【０００８】本発明の目的は、上述の従来の問題を解決
することにあり、ゲッタリングの形態に係わり無く種々
のゲッタリングを固定させることのできるゲッタ固定装
置を提供することにある。
することにあり、ゲッタリングの形態に係わり無く種々
のゲッタリングを固定させることのできるゲッタ固定装
置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は陰極線管用ゲッ
タの固定装置であって、ゲッタ物質を含むゲッタリング
と、ゲッタリングが溶接固定される支持部材と、ゲッタ
リングのゲッタ物質の飛散を制限するために設けられる
ゲッタカバーと、ゲッタリングの外側において支持部材
とゲッタカバーとの間を連結し固定する連結固定手段と
を備え、前記ゲッタカバーは両側に一定角度だけ折り曲
げて形成されており、前記連結固定手段は前記ゲッタリ
ングの両側に設けられる、ことを特徴とする。
タの固定装置であって、ゲッタ物質を含むゲッタリング
と、ゲッタリングが溶接固定される支持部材と、ゲッタ
リングのゲッタ物質の飛散を制限するために設けられる
ゲッタカバーと、ゲッタリングの外側において支持部材
とゲッタカバーとの間を連結し固定する連結固定手段と
を備え、前記ゲッタカバーは両側に一定角度だけ折り曲
げて形成されており、前記連結固定手段は前記ゲッタリ
ングの両側に設けられる、ことを特徴とする。
【００１０】ここで、連結固定手段はゲッタカバーと一
体に構成することができ、また、支持部材と一体に構成
することもできる。さらに、ゲッタリングの両側に設け
られた連結固定手段は、ストリップで構成することがで
きる。
体に構成することができ、また、支持部材と一体に構成
することもできる。さらに、ゲッタリングの両側に設け
られた連結固定手段は、ストリップで構成することがで
きる。
【００１１】
【作用】本発明の構造上の特徴として、支持部材上に溶
接固定されるゲッタリングの周りに、１つ以上のストリ
ップを配置し、このストリップの上端にゲッタカバーを
直接固定させることにより、ゲッタリングの形態に係わ
り無く種々のゲッタリングを固定させることのできる。
接固定されるゲッタリングの周りに、１つ以上のストリ
ップを配置し、このストリップの上端にゲッタカバーを
直接固定させることにより、ゲッタリングの形態に係わ
り無く種々のゲッタリングを固定させることのできる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に沿って詳細に
説明する。従来と同一部品には同一の参照番号を付す。
図１（Ａ），（Ｂ）は本発明によるゲッタ固定装置の一
実施例構造図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図
である。図示のように、ゲッタ組立体５Ａは、ゲッタリ
ング６を固定する支持部材７Ａと、ゲッタリング６のゲ
ッタ物質６ａが飛散される方向を制限するゲッタカバー
８Ａと、ゲッタリング６の外側にて支持部材７Ａとゲッ
タカバー８Ａを連結固定させるように対向配置された板
状のストリップ９とで構成される。
説明する。従来と同一部品には同一の参照番号を付す。
図１（Ａ），（Ｂ）は本発明によるゲッタ固定装置の一
実施例構造図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図
である。図示のように、ゲッタ組立体５Ａは、ゲッタリ
ング６を固定する支持部材７Ａと、ゲッタリング６のゲ
ッタ物質６ａが飛散される方向を制限するゲッタカバー
８Ａと、ゲッタリング６の外側にて支持部材７Ａとゲッ
タカバー８Ａを連結固定させるように対向配置された板
状のストリップ９とで構成される。
【００１３】ここで、ゲッタカバー８Ａの面積はゲッタ
リング６の面積の８０〜１２０％の範囲で設定されるこ
とが好ましい。図２は図１の組立側面図である。ゲッタ
カバー８Ａは、図示のようにゲッタリング６に対して所
定の折り曲げ角（α）を有するようにすることにより、
ゲッタ物質６ａの飛散方向を調節できるようにしなけれ
ばならない。
リング６の面積の８０〜１２０％の範囲で設定されるこ
とが好ましい。図２は図１の組立側面図である。ゲッタ
カバー８Ａは、図示のようにゲッタリング６に対して所
定の折り曲げ角（α）を有するようにすることにより、
ゲッタ物質６ａの飛散方向を調節できるようにしなけれ
ばならない。
【００１４】また、図１において、支持部材７Ａの長さ
Ｌは、ゲッタリング６の長さＬ’よりも長くなっている
が、この長さは本発明の目的を損なわない範囲内におい
て制限されるものではない。一方、ストリップ９はその
上下両端に固定部９ａ，９ｂを折り曲げ形成し、各々支
持部材７Ａとゲッタカバー８Ａに溶接固定させたものを
示しているが、必要に応じて支持部材７Ａ又はゲッタカ
バー８Ａと一体に形成させることもでき、又、ゲッタリ
ング６の確実な固定のためにゲッタリング６の両方に支
持部材が突出されるようにすることも可能である。しか
し、如何なる場合でもストリップ９の高さｈｓはゲッタ
リング６の高さｈｇよりも高くしなければならないこと
は言うまでもない。
Ｌは、ゲッタリング６の長さＬ’よりも長くなっている
が、この長さは本発明の目的を損なわない範囲内におい
て制限されるものではない。一方、ストリップ９はその
上下両端に固定部９ａ，９ｂを折り曲げ形成し、各々支
持部材７Ａとゲッタカバー８Ａに溶接固定させたものを
示しているが、必要に応じて支持部材７Ａ又はゲッタカ
バー８Ａと一体に形成させることもでき、又、ゲッタリ
ング６の確実な固定のためにゲッタリング６の両方に支
持部材が突出されるようにすることも可能である。しか
し、如何なる場合でもストリップ９の高さｈｓはゲッタ
リング６の高さｈｇよりも高くしなければならないこと
は言うまでもない。
【００１５】上述した本発明によるゲッタ固定装置は、
ゲッタカバー８Ａの翼部８ｂの中央の両側にストリップ
９の上部の固定部９ａを溶接固定させ、ストリップ９の
下部に形成された固定部９ｂは、支持部材７Ａに溶接固
定させられるので、ゲッタリング６の形態とは全く係わ
りなくゲッタカバー８Ａと支持部材７Ａとを連結固定で
きるようになる。
ゲッタカバー８Ａの翼部８ｂの中央の両側にストリップ
９の上部の固定部９ａを溶接固定させ、ストリップ９の
下部に形成された固定部９ｂは、支持部材７Ａに溶接固
定させられるので、ゲッタリング６の形態とは全く係わ
りなくゲッタカバー８Ａと支持部材７Ａとを連結固定で
きるようになる。
【００１６】このような連結状態でゲッタカバー８Ａと
支持部材７Ａとの間隙、即ち、ストリップ９の高さｈｓ
は、図４や図５に例示したもの以外にも種々の形態のゲ
ッタリング６の高さｈｇよりも高く形成されているの
で、支持部材７Ａの上面への挿入と溶接は極めて容易に
実施することができる。
支持部材７Ａとの間隙、即ち、ストリップ９の高さｈｓ
は、図４や図５に例示したもの以外にも種々の形態のゲ
ッタリング６の高さｈｇよりも高く形成されているの
で、支持部材７Ａの上面への挿入と溶接は極めて容易に
実施することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
種々の形態のゲッタリング６を容易に固定させることが
でき、ゲッタリングの形態に伴う構成部品の設計変更の
必要が無くなるので、コストの低減と生産性の向上及び
部品の標準化と規格化を達成することができ、しかもゲ
ッタカバーを上記した連結固定手段によってその両側に
て支持部材に確実に連結し固定することができる。
種々の形態のゲッタリング６を容易に固定させることが
でき、ゲッタリングの形態に伴う構成部品の設計変更の
必要が無くなるので、コストの低減と生産性の向上及び
部品の標準化と規格化を達成することができ、しかもゲ
ッタカバーを上記した連結固定手段によってその両側に
て支持部材に確実に連結し固定することができる。
【図１】本発明のゲッタ固定装置の一実施例構成図であ
って、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図である。
って、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図である。
【図２】図１の組立側面図である。
【図３】一般的な陰極線管の要部構成図である。
【図４】従来のゲッタ固定装置の一例構成図であって、
（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図である。
（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図である。
【図５】従来の他の例構成図であって、（Ａ）は平面
図、（Ｂ）は正面図である。
図、（Ｂ）は正面図である。
５，５Ａ…ゲッタ組立体 ６…ゲッタリング ６ａ…ゲッタ物質 ７…支持部材 ８，８Ａ…ゲッタカバー ９…ストリップ
Claims (4)
- 【請求項１】 陰極線管用ゲッタの固定装置であって、 ゲッタ物質を含むゲッタリングと、 該ゲッタリングが溶接固定される支持部材と、 前記ゲッタリングのゲッタ物質の飛散を制限するために
設けられるゲッタカバーと、 前記ゲッタリングの外側において、前記支持部材と前記
ゲッタカバーとの間を連結し固定する連結固定手段とを
備え、 前記ゲッタカバーは両側に一定角度だけ折り曲げて形成
されており、 前記連結固定手段は前記ゲッタリングの両側に設けられ
ることを特徴とする、 陰極線管用ゲッタの固定装置。 - 【請求項２】 前記連結固定手段は前記ゲッタカバーと
一体に構成される請求項１に記載の陰極線管用ゲッタの
固定装置。 - 【請求項３】 前記連結固定手段は前記支持部材と一体
に構成される請求項１に記載の陰極線管用ゲッタの固定
装置。 - 【請求項４】 前記連結固定手段はストリップで構成さ
れる請求項１に記載の陰極線管用ゲッタの固定装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930014110A KR960002929B1 (ko) | 1993-07-24 | 1993-07-24 | 음극선관용 게터(getter) 고정 장치 |
| KR14110/1993 | 1993-07-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745216A JPH0745216A (ja) | 1995-02-14 |
| JP2820885B2 true JP2820885B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=19359968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6078389A Expired - Fee Related JP2820885B2 (ja) | 1993-07-24 | 1994-04-18 | 陰極線管用ゲッタの固定装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5443410A (ja) |
| JP (1) | JP2820885B2 (ja) |
| KR (1) | KR960002929B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990044059A (ko) * | 1996-06-24 | 1999-06-25 | 요트.게.아. 롤페즈 | 진공 장치 |
| SE9700612D0 (sv) * | 1997-02-20 | 1997-02-20 | Cecap Ab | Sensorelement med integrerat referenstryck |
| KR100286586B1 (ko) * | 1997-07-25 | 2001-05-02 | 김순택 | 음극선관의 게터플래싱방법 및 음극선관용 게터 |
| IT1303731B1 (it) * | 1998-11-10 | 2001-02-23 | Getters Spa | Dispositivo getter evaporabile con ridotta perdita di particelle eprocesso per la sua produzione. |
| FR2818676B1 (fr) * | 2000-12-27 | 2003-03-07 | Freyssinet Int Stup | Procede de demontage d'un cable de precontrainte et dispositif pour la mise en oeuvre |
| ITMI20011341A1 (it) * | 2001-06-26 | 2002-12-26 | Getters Spa | Dispositivo getter evaporabile per tubi a raggi catodici |
| US7137301B2 (en) * | 2004-10-07 | 2006-11-21 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for forming a reference pressure within a chamber of a capacitance sensor |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE527340A (ja) * | 1953-04-24 | |||
| GB1169730A (en) * | 1966-07-08 | 1969-11-05 | Getters Spa | An Improved Getter Assembly |
| US3432712A (en) * | 1966-11-17 | 1969-03-11 | Sylvania Electric Prod | Cathode ray tube having a perforated electrode for releasing a selected gas sorbed therein |
| NL8006123A (nl) * | 1980-11-10 | 1982-06-01 | Philips Nv | Kathodestraalbuis. |
-
1993
- 1993-07-24 KR KR1019930014110A patent/KR960002929B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-04-08 US US08/224,974 patent/US5443410A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-18 JP JP6078389A patent/JP2820885B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950004357A (ko) | 1995-02-17 |
| JPH0745216A (ja) | 1995-02-14 |
| KR960002929B1 (ko) | 1996-02-28 |
| US5443410A (en) | 1995-08-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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