JP2815653B2 - 単量体組成物およびその使用 - Google Patents
単量体組成物およびその使用Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の背景〕 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は高屈折率を有する光学用樹脂およびそれを与
えるジエチレン性不飽和単量体組成物に関する。更に詳
細には、軽量で、耐熱性、光学的均一性、注型重合成形
性等に優れ、且つ高屈折率を有する光学用樹脂に関す
る。
えるジエチレン性不飽和単量体組成物に関する。更に詳
細には、軽量で、耐熱性、光学的均一性、注型重合成形
性等に優れ、且つ高屈折率を有する光学用樹脂に関す
る。
＜従来の技術＞ 近年、高度に透明なプラスチック材料は、その軽量
性、易成形性、安全性等の優れた特性を生かし、無機ガ
ラスの代替品として、レンズ、光ファイバー、光ディス
ク基板等の光学用に用いられている。
性、易成形性、安全性等の優れた特性を生かし、無機ガ
ラスの代替品として、レンズ、光ファイバー、光ディス
ク基板等の光学用に用いられている。
しかしながら、例えばポリメチルメタクリレートやポ
リジエチレングリコールビスアリルカーボネート等で
は、屈折率nDが1.49〜1.50と低く、レンズ等に使用した
場合に、より一層の軽量化、コンパクト化というニーズ
には対応できないという欠点があった。
リジエチレングリコールビスアリルカーボネート等で
は、屈折率nDが1.49〜1.50と低く、レンズ等に使用した
場合に、より一層の軽量化、コンパクト化というニーズ
には対応できないという欠点があった。
また、例えばポリスチレン、ポリカーボネート等で
は、屈折率nDが1.58〜1.59程度と比較的高いものの、こ
れらの樹脂が熱可塑性である為、耐熱性に欠け、さらに
成形時に複屈折による光学歪を生じ易く、耐溶剤性、耐
擦傷性にも欠ける等の欠点があった。
は、屈折率nDが1.58〜1.59程度と比較的高いものの、こ
れらの樹脂が熱可塑性である為、耐熱性に欠け、さらに
成形時に複屈折による光学歪を生じ易く、耐溶剤性、耐
擦傷性にも欠ける等の欠点があった。
最近では、高屈折率でありしかもこれらの欠点を改善
する為に、高屈折率を有する架橋性単量体を用いること
が提案されている。例えば、テトラブロモビスフェノー
ルＡ骨格（特開昭57−147505号、同58−18602号、同60
−51706号、同61−64716号、同61−28901号各公報
等）、テトラブロモフタル酸骨格（特開昭60−166307
号、同60−173006号、同60−137912号公報等）などの核
ハロゲン置換芳香環を有する多官能単量体、及びアルキ
レンスルフィド骨格に官能基としてスチレン基を導入し
た単量体（特開昭59−164501号公報）等を主成分若しく
は共重合成分として用いる例が挙げられている。
する為に、高屈折率を有する架橋性単量体を用いること
が提案されている。例えば、テトラブロモビスフェノー
ルＡ骨格（特開昭57−147505号、同58−18602号、同60
−51706号、同61−64716号、同61−28901号各公報
等）、テトラブロモフタル酸骨格（特開昭60−166307
号、同60−173006号、同60−137912号公報等）などの核
ハロゲン置換芳香環を有する多官能単量体、及びアルキ
レンスルフィド骨格に官能基としてスチレン基を導入し
た単量体（特開昭59−164501号公報）等を主成分若しく
は共重合成分として用いる例が挙げられている。
しかしながら、これらの高屈折率を有する多官能単量
体は、多くの場合、室温で固体である為、そのままでは
注型重合成形が難かしく、屈折率の低下を招くことを承
知でスチレン等の反応性希釈剤の併用を余儀なくされて
いるのが実状である。屈折率の低下を避ける為に反応性
希釈剤の使用量を極力少量におさえたり、あるいは融点
の比較的低い単量体では加熱して液状化して注型するこ
とも可能であるが、この場合はしばしば硬化物中に微細
な結晶が残存して、透明性や光学的均一性を損なう。
体は、多くの場合、室温で固体である為、そのままでは
注型重合成形が難かしく、屈折率の低下を招くことを承
知でスチレン等の反応性希釈剤の併用を余儀なくされて
いるのが実状である。屈折率の低下を避ける為に反応性
希釈剤の使用量を極力少量におさえたり、あるいは融点
の比較的低い単量体では加熱して液状化して注型するこ
とも可能であるが、この場合はしばしば硬化物中に微細
な結晶が残存して、透明性や光学的均一性を損なう。
また、キシリレン骨格に官能基として（メタ）アクリ
ロイルオキシ基をアルキレンスルフィド基を介して導入
した単量体（特開昭62−195357号公報）も提案されてい
る。
ロイルオキシ基をアルキレンスルフィド基を介して導入
した単量体（特開昭62−195357号公報）も提案されてい
る。
この単量体は、室温で液体であり、注型重合成形性に
優れているが、屈折率nDが1.59程度であり、より一層の
軽量化、コンパクト化というニーズには、十分には対応
できないという欠点があった。
優れているが、屈折率nDが1.59程度であり、より一層の
軽量化、コンパクト化というニーズには、十分には対応
できないという欠点があった。
＜発明が解決しようとする課題＞ 本発明は、上記の問題点を解決し、耐熱性、光学的均
一性、注型重合成形性等の優れ、且つ高屈折率を有する
光学用樹脂を提供することを目的とするものである。
一性、注型重合成形性等の優れ、且つ高屈折率を有する
光学用樹脂を提供することを目的とするものである。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明による単量体組成物は、下式〔I a〕で示され
るジエチレン性不飽和単量体90〜30重量％および下式
〔II a〕で示されるスチレン系単量体10〜70重量％（重
量％は両者の合計量基準）を含んでなる、常温で液状の
ものである。
るジエチレン性不飽和単量体90〜30重量％および下式
〔II a〕で示されるスチレン系単量体10〜70重量％（重
量％は両者の合計量基準）を含んでなる、常温で液状の
ものである。
（ここで、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2およ
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） （ここで、R4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘはフ
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。） また、このジエチレン性不飽和単量体組成物の使用に
かかる、本発明による光学用樹脂は、下式〔I b〕で示
される繰返し単位90〜30重量％と下式〔II b〕で示され
る繰返し単位10〜70重量％（重量％は両者の合計量基
準）を含んでなり、実質的に不溶および不融で、屈折率
nDが1.60以上であるものである。
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） （ここで、R4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘはフ
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。） また、このジエチレン性不飽和単量体組成物の使用に
かかる、本発明による光学用樹脂は、下式〔I b〕で示
される繰返し単位90〜30重量％と下式〔II b〕で示され
る繰返し単位10〜70重量％（重量％は両者の合計量基
準）を含んでなり、実質的に不溶および不融で、屈折率
nDが1.60以上であるものである。
（ここで、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2およ
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） （ここで、R4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘはフ
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。） ＜発明の効果＞ 前記の目的が達成される。すなわち、本発明による光
学用樹脂は、耐熱性、光学的均一性、注型重合成形性等
に優れ、しかも高屈折率、すなわちnD≧1.60を有する。
そしてそれを与える単量体組成物は常温で液状であっ
て、溶剤（たとえばスチレン）を使用しなくても、それ
自身で注型重合が可能である。
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） （ここで、R4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘはフ
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。） ＜発明の効果＞ 前記の目的が達成される。すなわち、本発明による光
学用樹脂は、耐熱性、光学的均一性、注型重合成形性等
に優れ、しかも高屈折率、すなわちnD≧1.60を有する。
そしてそれを与える単量体組成物は常温で液状であっ
て、溶剤（たとえばスチレン）を使用しなくても、それ
自身で注型重合が可能である。
＜単量体＞ 本発明による光学用樹脂は、前記の式〔I b〕および
前記の式〔II b〕で示される各繰返し単位を含んでなる
ものである。これらの繰返し単位のうち、前記の式〔I
b〕で示される繰返し単位は、下式〔I a〕で示されるジ
エチレン性不飽和単量体の重合によって形成させること
ができる。
前記の式〔II b〕で示される各繰返し単位を含んでなる
ものである。これらの繰返し単位のうち、前記の式〔I
b〕で示される繰返し単位は、下式〔I a〕で示されるジ
エチレン性不飽和単量体の重合によって形成させること
ができる。
（ここで、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2およ
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） このジエチレン性不飽和単量体は、アクリル酸または
メタクリル酸をチオエーテル鎖で連結した構造を有する
ものであって、そのチオエーテル鎖中にフェニレン基が
存在する。このフェニレン基へのチオエーテル鎖の結合
位置は、ｏ−、ｍ−、ｐ−のいずれでもよいが、ｍ−お
よびｐ−が代表的である。また、R2およびR3は炭素数１
〜８のアルキレン基であるが、特に炭素数１〜４のアル
キレン基である場合が好ましい。
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） このジエチレン性不飽和単量体は、アクリル酸または
メタクリル酸をチオエーテル鎖で連結した構造を有する
ものであって、そのチオエーテル鎖中にフェニレン基が
存在する。このフェニレン基へのチオエーテル鎖の結合
位置は、ｏ−、ｍ−、ｐ−のいずれでもよいが、ｍ−お
よびｐ−が代表的である。また、R2およびR3は炭素数１
〜８のアルキレン基であるが、特に炭素数１〜４のアル
キレン基である場合が好ましい。
式〔I a〕のジエチレン性不飽和単量体の具体例のう
ち、フェニレン基へのチオエーテル鎖の結合位置が異な
るジメタクリル酸エステルの場合の具体例は、下記の通
りである。
ち、フェニレン基へのチオエーテル鎖の結合位置が異な
るジメタクリル酸エステルの場合の具体例は、下記の通
りである。
これらの単量体は、例えば以下のようにして合成され
る。
る。
先ず、ｐ−またはｍ−キシリレンジクロライドと２−
メルカプトエタノールとを塩基の存在下で反応させて、
ｐ−またはｍ−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）キシ
リレンを生成させる。
メルカプトエタノールとを塩基の存在下で反応させて、
ｐ−またはｍ−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）キシ
リレンを生成させる。
この反応は、溶剤中で行なうことが好ましく、特に、
アルコール、水−アルコール混合系、ケトン等の溶剤の
使用が好ましい。塩基は水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸カリウム等の使用が好ましい。
アルコール、水−アルコール混合系、ケトン等の溶剤の
使用が好ましい。塩基は水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸カリウム等の使用が好ましい。
次に、このｐ−またはｍ−ビス（２−ヒドロキシエチ
ルチオ）キシリレンとメタクリル酸クロライドとを有機
塩基の存在下で反応させれば、単量体が得られる。
ルチオ）キシリレンとメタクリル酸クロライドとを有機
塩基の存在下で反応させれば、単量体が得られる。
この反応も、溶剤中で行なうことが好ましく、特に、
ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素系、ケトン等の
溶剤の使用が好ましい。有機塩基は、第三アミンの使用
が好ましく、特にトリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン等の使用が好ましい。
ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素系、ケトン等の
溶剤の使用が好ましい。有機塩基は、第三アミンの使用
が好ましく、特にトリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン等の使用が好ましい。
式〔II b〕で示される繰返し単位は、下式〔II a〕で
示されるスチレン系単量体の重合によって形成させるこ
とができる。
示されるスチレン系単量体の重合によって形成させるこ
とができる。
（ここで、R4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘはフ
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。） この核ハロゲン置換スチレンまたはα−メチルスチレ
ンのハロゲン原子は、塩素または臭素が好ましく、ｎは
２または３であることが好ましい。
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。） この核ハロゲン置換スチレンまたはα−メチルスチレ
ンのハロゲン原子は、塩素または臭素が好ましく、ｎは
２または３であることが好ましい。
このスチレン系単量体の具体例を挙げれば、下記の通
りである。
りである。
すなわち、例えば、トリブロモスチレン、トリクロロ
スチレン、ジブロモスチレン、ジクロロスチレン、ブロ
モスチレン、クロロスチレン、トリブロモ−α−メチル
スチレン、トリクロロ−α−メチルスチレン、ジブロモ
−α−メチルスチレン、ジクロロ−α−メチルスチレ
ン、ブロモ−α−メチルスチレン、クロロ−α−メチル
スチレン等である。
スチレン、ジブロモスチレン、ジクロロスチレン、ブロ
モスチレン、クロロスチレン、トリブロモ−α−メチル
スチレン、トリクロロ−α−メチルスチレン、ジブロモ
−α−メチルスチレン、ジクロロ−α−メチルスチレ
ン、ブロモ−α−メチルスチレン、クロロ−α−メチル
スチレン等である。
このうち、ジブロモスチレン、トリブロモスチレン、
トリブロモ−α−メチルスチレンおよびジクロロスチレ
ンが好ましい。
トリブロモ−α−メチルスチレンおよびジクロロスチレ
ンが好ましい。
本発明による単量体組成物は、単量体〔I a〕および
単量体〔II a〕を含んでなる、常温で液状のものであ
る。
単量体〔II a〕を含んでなる、常温で液状のものであ
る。
この単量体組成物は、単量体〔I a〕を90〜30重量
％、好ましくは90〜50重量％、単量体〔II a〕を10〜70
重量％、好ましくは10〜50重量％（いずれも（I a＋II
a）重量基準）、を含んでなるものである。本発明の利
点を最大限に享有するものはこの単量体組成物が単量体
〔I a〕および単量体〔II a〕のみからなるものである
（〔I a〕および〔II a〕は、それぞれが混合物であっ
てもよい）。しかし、生成重合体の光学的性質その他の
調節あるいは単量体組成物の粘度の調節その他の目的
で、この単量体組成物はスチレン、メチルメタクリレー
ト、ジビニルベンゼン、その他の共単量体を少量（（I
a＋II a）に対して50重量％程度まで）含んでいてもよ
い。
％、好ましくは90〜50重量％、単量体〔II a〕を10〜70
重量％、好ましくは10〜50重量％（いずれも（I a＋II
a）重量基準）、を含んでなるものである。本発明の利
点を最大限に享有するものはこの単量体組成物が単量体
〔I a〕および単量体〔II a〕のみからなるものである
（〔I a〕および〔II a〕は、それぞれが混合物であっ
てもよい）。しかし、生成重合体の光学的性質その他の
調節あるいは単量体組成物の粘度の調節その他の目的
で、この単量体組成物はスチレン、メチルメタクリレー
ト、ジビニルベンゼン、その他の共単量体を少量（（I
a＋II a）に対して50重量％程度まで）含んでいてもよ
い。
＜重合体＞ 本発明による光学用樹脂は、式〔I a〕の単量体の一
種または二種以上を90〜30重量％、特に好ましくは90〜
50重量％、および式〔II a〕の単量体の一種または二種
以上を10〜70重量％、特に好ましくは10〜50重量％（重
量％は〔I a〕と〔II a〕との合計量基準）、含んでな
る単量体組成物の重合、により形成させることができ
る。
種または二種以上を90〜30重量％、特に好ましくは90〜
50重量％、および式〔II a〕の単量体の一種または二種
以上を10〜70重量％、特に好ましくは10〜50重量％（重
量％は〔I a〕と〔II a〕との合計量基準）、含んでな
る単量体組成物の重合、により形成させることができ
る。
すなわち、その単量体組成物を重合させることによ
り、式〔I b〕で示される繰返し単位を90〜30重量％、
好ましくは90〜50重量％、と式〔II b〕で示される繰返
し単位を10〜70重量％、好ましくは10〜50重量％（重量
％は〔I b〕と〔II b〕との合計量基準）含んでなり、
実質的に不溶および不融で、屈折率nDが1.60以上であ
り、アッベ数νＤが30以上である等の光学用樹脂を形成
させることができる。
り、式〔I b〕で示される繰返し単位を90〜30重量％、
好ましくは90〜50重量％、と式〔II b〕で示される繰返
し単位を10〜70重量％、好ましくは10〜50重量％（重量
％は〔I b〕と〔II b〕との合計量基準）含んでなり、
実質的に不溶および不融で、屈折率nDが1.60以上であ
り、アッベ数νＤが30以上である等の光学用樹脂を形成
させることができる。
また、本発明による光学用樹脂は、式〔I a〕の単量
体の一種または二種以上と式〔II a〕の単量体の一種ま
たは二種以上とラジカル重合性不飽和単量体である第三
の単量体とを含んでなる単量体組成物の重合、により形
成させることができることは前記したところである。
体の一種または二種以上と式〔II a〕の単量体の一種ま
たは二種以上とラジカル重合性不飽和単量体である第三
の単量体とを含んでなる単量体組成物の重合、により形
成させることができることは前記したところである。
すなわち、式〔I a〕と式〔II a〕の両単量体と第三
の単量体とが、90〜30重量％、10〜70重量％および50重
量％まで、（重量％はいずれも〔I a〕および〔II a〕
の単量体の合計量基準）含んでなる単量体組成物を重合
させて、式〔I b〕の繰返し単位を90〜30重量％、好ま
しくは90〜50重量％と式〔II b〕の繰返し単位を10〜70
重量％、好ましくは10〜50重量％（重量％は〔I b〕と
〔II b〕との合計量基準）を含んで、第三の単量体の重
合で形成される繰返し単位を50重量％まで、特に30重量
％まで、含んでなる、実質的に不溶および不融で、屈折
率nDが1.60以上であり、アッベ数νＤが30以上である等
の光学用樹脂を形成させることができる。
の単量体とが、90〜30重量％、10〜70重量％および50重
量％まで、（重量％はいずれも〔I a〕および〔II a〕
の単量体の合計量基準）含んでなる単量体組成物を重合
させて、式〔I b〕の繰返し単位を90〜30重量％、好ま
しくは90〜50重量％と式〔II b〕の繰返し単位を10〜70
重量％、好ましくは10〜50重量％（重量％は〔I b〕と
〔II b〕との合計量基準）を含んで、第三の単量体の重
合で形成される繰返し単位を50重量％まで、特に30重量
％まで、含んでなる、実質的に不溶および不融で、屈折
率nDが1.60以上であり、アッベ数νＤが30以上である等
の光学用樹脂を形成させることができる。
第三の単量体であるラジカル重合性不飽和単量体は、
構造式中に、少なくとも１個の炭素−炭素二重結合を有
する化合物であり、ラジカル反応に関与することが容易
な化合物である。そのような単量体の具体例は、当業者
にとって明らかである（その一部は前記した通りであ
る）。
構造式中に、少なくとも１個の炭素−炭素二重結合を有
する化合物であり、ラジカル反応に関与することが容易
な化合物である。そのような単量体の具体例は、当業者
にとって明らかである（その一部は前記した通りであ
る）。
重合は、一般的なラジカル重合開始剤により、ラジカ
ル重合法によって実施され、例えば、塊状重合法、懸濁
重合法、乳化重合法等の公知の技術によって行うことが
できる。
ル重合法によって実施され、例えば、塊状重合法、懸濁
重合法、乳化重合法等の公知の技術によって行うことが
できる。
重合の際に使用されるラジカル重合開始剤は特に限定
されず、一般的な開始剤が使用可能である。例えば、
（イ）過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルオキシカーボ
ネート、ターシャリーブチルパーオキシイソプロピルカ
ーボネート、ジタ−シャリ−ブチルパーオキサイド等の
過酸化物、（ロ）アゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
スメチルバレロニトリル等のアゾ化合物等を用いること
ができる。ラジカル重合開始剤は、総単量体重量に対し
て、0.01〜10重量％、好ましくは0.1〜５重量％、使用
するのが適用であり、重合温度20〜120℃の範囲で１〜7
2時間程度反応させるのが好ましい。
されず、一般的な開始剤が使用可能である。例えば、
（イ）過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルオキシカーボ
ネート、ターシャリーブチルパーオキシイソプロピルカ
ーボネート、ジタ−シャリ−ブチルパーオキサイド等の
過酸化物、（ロ）アゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
スメチルバレロニトリル等のアゾ化合物等を用いること
ができる。ラジカル重合開始剤は、総単量体重量に対し
て、0.01〜10重量％、好ましくは0.1〜５重量％、使用
するのが適用であり、重合温度20〜120℃の範囲で１〜7
2時間程度反応させるのが好ましい。
重合は、また、一般的な光重合開始剤を使用する光重
合法によっても行うことができる。
合法によっても行うことができる。
重合の際に使用される光重合開始剤は、特に限定され
ず、一般的な光重合開始剤が使用可能である。
ず、一般的な光重合開始剤が使用可能である。
例えば、（イ）アセトフェノン、ジエトキシアセトフ
ェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン等のアセトフェノン系、（ロ）ベンゾイン、
ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール
等のベンゾイン系、（ハ）ベンゾフェノン、ベンゾイル
安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン等のベン
ゾフェノン系、（ニ）チオキサンソン、２−メチルチオ
キサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン等のチオキ
サンソン系およびその他にアシルホスフィンオキサイ
ド、ベンジル等を用いることができる。
ェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン等のアセトフェノン系、（ロ）ベンゾイン、
ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール
等のベンゾイン系、（ハ）ベンゾフェノン、ベンゾイル
安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン等のベン
ゾフェノン系、（ニ）チオキサンソン、２−メチルチオ
キサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン等のチオキ
サンソン系およびその他にアシルホスフィンオキサイ
ド、ベンジル等を用いることができる。
光重合開始剤は、総単量体重量に対して、0.01〜10重
量％、好ましくは0.05〜５重量％、使用するのが適当で
あり、また照射光量が0.01〜100J/cm2、好ましくは0.1
〜30J/cm2で、反応させるのが適当である。
量％、好ましくは0.05〜５重量％、使用するのが適当で
あり、また照射光量が0.01〜100J/cm2、好ましくは0.1
〜30J/cm2で、反応させるのが適当である。
重合は、ラジカル重合法および光重合法を組み合わせ
て行うこともできる。
て行うこともできる。
＜実施例＞ 具体的に本発明の実施例を示せば、下記の通りであ
る。
る。
実施例１ 攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えつけた四
ツ口フラスコ内に、ｐ−キシリレンジクロライド 50
部、２−メルカプトエタノール 47部、メタノール 10
0部を仕込み、撹拌しながら水酸化ナトリウム 26部、
水 100部の溶液を滴下した。滴下中は反応温度を50℃
以下に保ち、滴下終了後50℃で１時間撹拌を続けた。水
100部を加え放冷後、析出した結晶を別分離した。こ
れをメタノールより再結晶し、ｐ−ビス（２−ヒドロキ
シエチルチオ）キシリレンを得た。
ツ口フラスコ内に、ｐ−キシリレンジクロライド 50
部、２−メルカプトエタノール 47部、メタノール 10
0部を仕込み、撹拌しながら水酸化ナトリウム 26部、
水 100部の溶液を滴下した。滴下中は反応温度を50℃
以下に保ち、滴下終了後50℃で１時間撹拌を続けた。水
100部を加え放冷後、析出した結晶を別分離した。こ
れをメタノールより再結晶し、ｐ−ビス（２−ヒドロキ
シエチルチオ）キシリレンを得た。
次いで、攪拌機、温度計、滴下ロートを備えつけた四
ツ口フラスコ内に得られたｐ−ビス（２−ヒドロキシエ
チルチオ）キシリレン 50部、ピリジン 60部、ジクロ
ルメタン 200部を仕込み、攪拌しながらメタクリル酸
クロライド 45部を滴下した。滴下中は反応温度を０〜
５℃に保ち、滴下終了後０〜５℃で１時間攪拌を続け
た。
ツ口フラスコ内に得られたｐ−ビス（２−ヒドロキシエ
チルチオ）キシリレン 50部、ピリジン 60部、ジクロ
ルメタン 200部を仕込み、攪拌しながらメタクリル酸
クロライド 45部を滴下した。滴下中は反応温度を０〜
５℃に保ち、滴下終了後０〜５℃で１時間攪拌を続け
た。
反応終了後、炭酸水素ナトリウム水溶液、５％塩酸水
溶液で洗浄後、水で中性になるまで洗浄した。これを硫
酸マグネシウムで脱水し、減圧下で溶媒を除去してｐ−
ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレ
ン（下式参照）を得た。
溶液で洗浄後、水で中性になるまで洗浄した。これを硫
酸マグネシウムで脱水し、減圧下で溶媒を除去してｐ−
ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレ
ン（下式参照）を得た。
実施例２ 実施例１で得られた単量体（以下、Ｘ−TEMAと略記す
る）50重量部とジブロモスチレン50重量部とに過酸化ベ
ンゾイル１重量部を加えてなる液状混合物を、ガラス板
２枚とシリコンパッキンで構成された型内に注入し、60
℃から110℃まで12時間かけて昇温して重合を行った。
得られた硬化物は、透明で光学的に均一であり、屈折率
nDが1.62、アッベ数νＤが33であった。
る）50重量部とジブロモスチレン50重量部とに過酸化ベ
ンゾイル１重量部を加えてなる液状混合物を、ガラス板
２枚とシリコンパッキンで構成された型内に注入し、60
℃から110℃まで12時間かけて昇温して重合を行った。
得られた硬化物は、透明で光学的に均一であり、屈折率
nDが1.62、アッベ数νＤが33であった。
実施例３ Ｘ−TEMA50重量部とトリブロモスチレン50重量部を用
いた液状混合物について、実施例２と同様に重合を行っ
た。得られた硬化物は、透明で光学的に均一であり、屈
折率nDが1.63、アッベ数νＤが32であった。
いた液状混合物について、実施例２と同様に重合を行っ
た。得られた硬化物は、透明で光学的に均一であり、屈
折率nDが1.63、アッベ数νＤが32であった。
実施例４ Ｘ−TEMA50重量部、トリブロモ−α−メチルスチレン
50重量部を用いた液状混合物について、実施例２と同様
に重合を行った。得られた硬化物は透明で光学的に均一
であり、屈折率nDが1.62、アッベ数νＤが32であった。
50重量部を用いた液状混合物について、実施例２と同様
に重合を行った。得られた硬化物は透明で光学的に均一
であり、屈折率nDが1.62、アッベ数νＤが32であった。
実施例５ Ｘ−TEMA50重量部、ジクロロスチレン50重量部を用い
た液状混合物について、実施例２と同様に重合を行っ
た。得られた硬化物は透明で光学的に均一であり、屈折
率nDが1.61、アッベ数νＤが33であった。
た液状混合物について、実施例２と同様に重合を行っ
た。得られた硬化物は透明で光学的に均一であり、屈折
率nDが1.61、アッベ数νＤが33であった。
実施例６ Ｘ−TEMA33重量部、ジブロモスチレン67重量部を用い
た液状混合物について、実施例２と同様に重合を行っ
た。得られた硬化物は透明で光学的に均一であり、屈折
率nDが1.64、アッベ数νＤが31であった。
た液状混合物について、実施例２と同様に重合を行っ
た。得られた硬化物は透明で光学的に均一であり、屈折
率nDが1.64、アッベ数νＤが31であった。
実施例７ Ｘ−TEMA45重量部、ジブロモスチレン50重量部、テト
ラブロモビスフェノールＡビス（β−メタクリロイルオ
キシエチル）エーテル５重量部を用いた液状混合物につ
いて実施例２と同様に重合を行った。得られた硬化物は
透明で光学的に均一であり、屈折率nDが1.62、アッベ数
νＤが33であった。
ラブロモビスフェノールＡビス（β−メタクリロイルオ
キシエチル）エーテル５重量部を用いた液状混合物につ
いて実施例２と同様に重合を行った。得られた硬化物は
透明で光学的に均一であり、屈折率nDが1.62、アッベ数
νＤが33であった。
比較例１ Ｘ−TEMA100重量部を用い（すなわち、スチレン系単
量体はゼロ）、実施例１と同様に重合を行った。得られ
た混合物は透明で光学的に均一であったが、屈折率nDが
1.59、アッベ数νＤが37であった。
量体はゼロ）、実施例１と同様に重合を行った。得られ
た混合物は透明で光学的に均一であったが、屈折率nDが
1.59、アッベ数νＤが37であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08F 12/00 - 12/30 C08F 212/00 - 212/14 C08F 20/00 - 20/40 C08F 220/00 - 220/40 ＣＡＳ ＯＮＬＩＮＥ
Claims (2)
- 【請求項１】下式〔I a〕で示されるジエチレン性不飽
和単量体90〜30重量％および下式〔II a〕で示されるス
チレン系単量体10〜70重量％（重量％は両者の合計量基
準）を含んでなる、常温で液状の単量体組成物。 （ここで、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2およ
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） （ここで、R4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘはフ
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。） - 【請求項２】下式〔I b〕で示される繰返し単位90〜30
重量％と下式〔II b〕で示される繰返し単位10〜70重量
％（重量％は両者の合計量基準）を含んでなる、実質的
に不溶および不融で、屈折率nDが1.60以上である光学用
樹脂。 （ここで、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2およ
びR3はそれぞれ炭素数１〜８のアルキレン基を示す。複
数個存在するR1、R2およびR3は、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。） （ここで、R4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘはフ
ッ素を除くハロゲン原子を示し、ｎは１〜３の整数を示
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29090A JP2815653B2 (ja) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | 単量体組成物およびその使用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29090A JP2815653B2 (ja) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | 単量体組成物およびその使用 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03205414A JPH03205414A (ja) | 1991-09-06 |
| JP2815653B2 true JP2815653B2 (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=11469778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29090A Expired - Fee Related JP2815653B2 (ja) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | 単量体組成物およびその使用 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2815653B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5916987A (en) | 1996-05-29 | 1999-06-29 | Mitsui Chemicals, Inc. | Thiol and Sulfur-containing O-(meth) acrylate compounds and use thereof |
-
1990
- 1990-01-05 JP JP29090A patent/JP2815653B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03205414A (ja) | 1991-09-06 |
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