JP2810820B2 - Magnetic head and method of manufacturing magnetic head - Google Patents

Magnetic head and method of manufacturing magnetic head

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JP2810820B2 JP4789692A JP4789692A JP2810820B2 JP 2810820 B2 JP2810820 B2 JP 2810820B2 JP 4789692 A JP4789692 A JP 4789692A JP 4789692 A JP4789692 A JP 4789692A JP 2810820 B2 JP2810820 B2 JP 2810820B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気記録再生用
の非磁性材料からなる基板上にFeAlSi合金薄膜等
の軟磁性材料を設け、薄膜積層ヘッドとして構成した磁
気ヘッド及び、その製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head comprising a soft magnetic material such as a FeAlSi alloy thin film provided on a substrate made of a nonmagnetic material for high-density magnetic recording and reproduction, and configured as a thin film laminated head, and a method of manufacturing the same. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化にともな
いメタルテープのような高保磁力媒体が主流となってい
る。このため、磁気ヘッドに使用されるコア材料も高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。そこで、
例えば、図15に示すように、高い飽和磁束密度を有す
るFeAlSi合金磁性薄膜13を、非磁性材料からな
る基板14上に設け、磁性薄膜13が片側のみ基板14
によって支持されている構成の薄膜積層磁気ヘッドが知
られている。
2. Description of the Related Art In recent years, a high coercive force medium such as a metal tape has become mainstream with the increase in density of magnetic recording media. For this reason, a core material used for a magnetic head is required to have a high saturation magnetic flux density. Therefore,
For example, as shown in FIG. 15, a FeAlSi alloy magnetic thin film 13 having a high saturation magnetic flux density is provided on a substrate 14 made of a non-magnetic material, and only one side of the magnetic thin film 13 is formed on the substrate 14.
Is known.

【0003】上記のような磁気ヘッドの製造過程では、
図16に示すように、例えば、結晶化ガラス等の非磁性
材料からなる基板15にダイシング加工によって断面略
V字状の連続した溝16を形成し、この溝16の側壁上
に真空蒸着法等によりFeAlSi合金薄膜等の軟磁性
材料が形成される。その後、図17に示すように、所定
の層数だけSiO2等の非磁性材料とFeAlSi合金
薄膜等の軟磁性材料17が交互に積層蒸着される。その
後、図18に示すように、溝16上に低融点ガラス18
を充填した後に、図19に示すように、表面研削を行う
と共に、図20に示すように、コイル巻線用窓19,2
0の加工を行って片側コアブロックを形成し、次いで、
片側コアブロック同士を非磁性ギャップ材を挟んで相互
に接合した後、図21に示すように、所定の幅Bに切断
することで、図15に示した磁気ヘッドチップを得る。
In the manufacturing process of the magnetic head as described above,
As shown in FIG. 16, for example, a continuous groove 16 having a substantially V-shaped cross section is formed by dicing on a substrate 15 made of a nonmagnetic material such as crystallized glass, and a vacuum evaporation method or the like is formed on the side wall of the groove 16. Thereby, a soft magnetic material such as a FeAlSi alloy thin film is formed. Thereafter, as shown in FIG. 17, a predetermined number of non-magnetic materials such as SiO 2 and soft magnetic materials 17 such as FeAlSi alloy thin films are alternately deposited by vapor deposition. Thereafter, as shown in FIG.
After filling, the surface is ground as shown in FIG. 19, and as shown in FIG.
0 to form a one-sided core block, and then
After bonding the one-side core blocks to each other with the non-magnetic gap material interposed therebetween, the core blocks are cut to a predetermined width B as shown in FIG. 21 to obtain the magnetic head chip shown in FIG.

【0004】また、図22に示すように、高い飽和磁束
密度を有するFeAlSi合金薄膜21を、非磁性材料
からなる基板22上に設け、磁性薄膜21の両側を非磁
性基板22で支持している構成の薄膜積層磁気ヘッドが
知られている。上記のような磁気ヘッドの製造過程で
は、図23に示すように、例えば、結晶化ガラス等の非
磁性材料からなる基板23に、真空蒸着法等によりFe
AlSi合金薄膜等の軟磁性材料24が形成し、その
後、所定の層数だけSiO2等の非磁性材料25とFe
AlSi合金薄膜等の軟磁性材料24が交互に積層蒸着
される。その後、図24に示すように、基板を低融点ガ
ラスにより接合積層し、ブロック状にする。その後、図
25に示すように、ギャップ対向面を鏡面状に表面研削
を行うと共に、コイル巻線用窓26,27の加工を行っ
て片側コアブロックを形成し、次いで、図26に示すよ
うに、上述のようにして形成した一対の片側コアブロッ
ク同士を非磁性ギャップ材を挟んで相互に接合した後、
所定の幅に切断することで、図22に示したような、磁
気ヘッドチップを得る。この場合、非磁性ギャップ材と
しては、例えば、SiO2−PbO系等の低融点性のガ
ラスを用い、二つの磁気ヘッドコアを接合する。
Further, as shown in FIG. 22, a FeAlSi alloy thin film 21 having a high saturation magnetic flux density is provided on a substrate 22 made of a non-magnetic material, and both sides of the magnetic thin film 21 are supported by the non-magnetic substrate 22. 2. Description of the Related Art A thin-film laminated magnetic head having a configuration is known. In the process of manufacturing the magnetic head as described above, as shown in FIG. 23, for example, Fe is deposited on a substrate 23 made of a non-magnetic material such as crystallized glass by a vacuum evaporation method or the like.
A soft magnetic material 24 such as an AlSi alloy thin film is formed, and then a predetermined number of layers of the nonmagnetic material 25 such as SiO 2 and Fe
Soft magnetic materials 24 such as AlSi alloy thin films are alternately stacked and deposited. Thereafter, as shown in FIG. 24, the substrate is bonded and laminated with low melting point glass to form a block. Then, as shown in FIG. 25, the gap opposing surface is mirror-polished and the windows 26 and 27 for coil winding are processed to form a one-sided core block. Then, as shown in FIG. After joining a pair of one-side core blocks formed as described above to each other with a non-magnetic gap material interposed therebetween,
By cutting to a predetermined width, a magnetic head chip as shown in FIG. 22 is obtained. In this case, as the non-magnetic gap material, for example, a low-melting glass such as an SiO 2 -PbO-based material is used, and the two magnetic head cores are joined.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の磁気ヘッド
においては、テープを数10時間摺動させると磁気ヘッ
ドの再生出力が低下してしまうという問題点がある。
In the above-mentioned conventional magnetic head, there is a problem that when the tape is slid for several tens of hours, the reproduction output of the magnetic head is reduced.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者の研究によれ
ば、前記問題点の原因は、磁気ギャップ近傍に配置され
ている非磁性基板材、低融点ガラス、磁性薄膜の摩耗特
性の差に由来する偏摩耗であることがわかった。各材料
は低融点ガラス>磁性薄膜>非磁性基板材の順序で摩耗
しやすく、磁気ヘッドのギャップ近傍において磁気コア
を構成している磁性薄膜よりも非磁性基板のほうが突出
しているため、磁気ヘッドのギャップと磁気記録媒体の
間にスペースができてしまい、再生時にスペース損失の
ため出力が低下してしまう。この傾向は、テープ等の磁
気記録媒体を数10時間摺動させるといっそう顕著にな
り、さらに出力が低下してしまい、これにより前記のよ
うな問題が生じてしまう。この際の各材料間の段差は、
磁性薄膜と非磁性基板の間では、初期で約150Å、数
10時間摺動後で約400Å非磁性基板が突出してい
る。また、低融点ガラスは最も摩耗しやすく、磁性薄膜
とくらべて、初期で約100Å、数10時間摺動後で約
200Å低くなっている。このため、前記問題点を解決
するために、発明者は以下の発明をするに至った。
According to the study of the present inventors, the cause of the above-mentioned problem is the difference in wear characteristics between the non-magnetic substrate material, the low-melting glass, and the magnetic thin film arranged near the magnetic gap. It was found that the uneven wear originated. Each material is easily worn in the order of low-melting glass> magnetic thin film> non-magnetic substrate material, and the non-magnetic substrate protrudes closer to the gap of the magnetic head than the magnetic thin film forming the magnetic core. A space is created between the gap and the magnetic recording medium, and the output is reduced due to space loss during reproduction. This tendency becomes more remarkable when a magnetic recording medium such as a tape is slid for several tens of hours, and the output is further reduced, thereby causing the above-described problem. At this time, the step between each material is
Between the magnetic thin film and the nonmagnetic substrate, the nonmagnetic substrate protrudes about 150 ° at the initial stage and about 400 ° after sliding for several tens of hours. Further, the low melting point glass is the most easily abraded, and is about 100 ° lower at the initial stage and about 200 ° lower after sliding for several tens of hours compared to the magnetic thin film. Therefore, in order to solve the above problems, the inventor has made the following invention.

【0007】結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材
料からなる基板にFeAlSi合金薄膜等の軟磁性材料
を蒸着法等の薄膜形成方法により設けてなる磁気ヘッド
において、該磁気ヘッドは、テープ摺動面の磁気ギャッ
プ近傍が磁気コアである軟磁性薄膜とコア接合用の低融
点ガラスのみによって構成されていることを特徴とし、
また、この磁気ヘッドの製造方法においては、結晶化ガ
ラス、セラミックス等からなる基板に所定の溝を形成し
た後、この溝の側壁に沿ってFeAlSi合金薄膜等の
軟磁性材料を蒸着法により形成し、次いで、磁気ギャッ
プ近傍部分の、軟磁性材料薄膜の支持基板である結晶化
ガラスやセラミック等の非磁性材料基板を機械加工やエ
ッチング等の方法により除去し、その後、除去した非磁
性基板の代わりに低融点ガラスを熔融充填することを特
徴とする。
In a magnetic head in which a soft magnetic material such as a FeAlSi alloy thin film is provided on a substrate made of a nonmagnetic material such as crystallized glass or ceramics by a thin film forming method such as a vapor deposition method, the magnetic head has a tape sliding surface. Characterized in that the vicinity of the magnetic gap is composed of only a soft magnetic thin film as a magnetic core and a low-melting glass for core bonding,
In this method of manufacturing a magnetic head, a predetermined groove is formed in a substrate made of crystallized glass, ceramics, or the like, and then a soft magnetic material such as a FeAlSi alloy thin film is formed along the side wall of the groove by an evaporation method. Then, a nonmagnetic material substrate such as crystallized glass or ceramic, which is a support substrate for the soft magnetic material thin film, in the vicinity of the magnetic gap is removed by a method such as machining or etching. Is characterized by being melt-filled with a low melting point glass.

【0008】[0008]

【作用】以上の磁気ヘッドによれば、磁気ヘッドの磁気
ギャップ近傍は軟磁性薄膜と低融点ガラスのみによって
構成されるため、軟磁性薄膜が最も突出した形状とな
り、テープ等の磁気記録媒体との間のスペースが非常に
小さくなり、再生時の損失を非常にわずかにすることが
可能となる。また、この傾向は摺動時間が長時間になる
ほど顕著となるため、さらにテープとの接触は良好とな
り再生時の損失は低下する。また、この磁気ヘッドを上
述の製造方法によって実現すれば、従来のフェライトヘ
ッドとほぼ同様の工程となるため、非常に容易に実現す
ることができる。
According to the above-described magnetic head, since the vicinity of the magnetic gap of the magnetic head is constituted only by the soft magnetic thin film and the low melting point glass, the soft magnetic thin film has the most protruding shape, and is in contact with the magnetic recording medium such as tape. The space between them is very small, and the losses during playback can be made very small. Further, this tendency becomes more remarkable as the sliding time becomes longer, so that the contact with the tape is further improved and the loss during reproduction is reduced. Further, if this magnetic head is realized by the above-described manufacturing method, the steps are substantially the same as those of the conventional ferrite head, and therefore, it can be realized very easily.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の実施例を図1から図14を用
いて説明する。本発明の磁気ヘッドは、図1,2に示す
ように、結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材料か
らなる基板1にFeAlSi合金薄膜等の軟磁性材料2
を蒸着法等の薄膜形成方法により設けてなる磁気ヘッド
において、磁気ヘッドのテープ摺動面の磁気ギャップ近
傍が磁気コアである軟磁性薄膜2とコア接合用の低融点
ガラス3のみによって構成されることを特徴とするもの
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. As shown in FIGS. 1 and 2, a magnetic head according to the present invention comprises a substrate 1 made of a non-magnetic material such as crystallized glass or ceramic, and a soft magnetic material 2 such as a FeAlSi alloy thin film.
Of the magnetic head formed by a thin film forming method such as a vapor deposition method, the vicinity of the magnetic gap on the tape sliding surface of the magnetic head is constituted only by the soft magnetic thin film 2 as the magnetic core and the low-melting glass 3 for core bonding. It is characterized by the following.

【0010】図1に示した実施例は、結晶化ガラス、セ
ラミックス等の非磁性材料からなる基板1に溝を形成
し、この溝の側壁に沿ってFeAlSi合金薄膜等の軟
磁性材料2を蒸着法により設けてなる構成となってい
る。この磁気ヘッドにおいては、軟磁性材料薄膜2の部
分は、図1に示すように、磁気ヘッドのテープ摺動面の
磁気ギャップ近傍の非磁性基板1は加工によって除去さ
れ、かわりに低融点ガラス3が埋め込まれており、磁気
ギャップ近傍は磁性薄膜2と低融点ガラス3のみによっ
て構成されている。
In the embodiment shown in FIG. 1, a groove is formed in a substrate 1 made of a non-magnetic material such as crystallized glass or ceramic, and a soft magnetic material 2 such as a FeAlSi alloy thin film is deposited along the side wall of the groove. The structure is provided by a method. In this magnetic head, the non-magnetic substrate 1 near the magnetic gap on the tape sliding surface of the magnetic head is removed by processing from the soft magnetic material thin film 2 as shown in FIG. Is embedded, and the vicinity of the magnetic gap is constituted only by the magnetic thin film 2 and the low melting point glass 3.

【0011】また、図2に示した実施例は、高い飽和磁
束密度を有するFeAlSi合金薄膜2を、非磁性材料
からなる基板1上に設け、磁性薄膜2の両側を非磁性基
板1で支持している構成の薄膜積層磁気ヘッドであり、
ギャップ近傍の非磁性基板は、加工により除去され、か
わりに低融点ガラス3が埋め込まれており、磁気ギャッ
プ近傍は磁性薄膜2と低融点ガラス3のみによって構成
されている。
In the embodiment shown in FIG. 2, a FeAlSi alloy thin film 2 having a high saturation magnetic flux density is provided on a substrate 1 made of a non-magnetic material, and both sides of the magnetic thin film 2 are supported by the non-magnetic substrate 1. Thin-film laminated magnetic head of the configuration
The non-magnetic substrate in the vicinity of the gap is removed by processing, and the low-melting glass 3 is buried instead, and the vicinity of the magnetic gap is constituted only by the magnetic thin film 2 and the low-melting glass 3.

【0012】次に、本発明の磁気ヘッドの製造方法の一
実施例について、最初に、図1に示した磁気ヘッドを製
作する場合を例として説明する。まず、図3に示すよう
に、結晶化ガラス等の非磁性材料からなる基板1の表面
に所定のピッチ寸法Aで、ダイシング加工により断面略
V字状の溝5を連続して形成する。その後、図4に示す
ように、各溝5の側壁面6に真空蒸着法等によりFeA
lSi合金薄膜等の軟磁性薄膜2とSiO2等の非磁性
薄膜4を所定の層数だけ交互に積層蒸着する。次に、溝
5の頂点部分を、図5に示すように、機械加工等により
除去する。次に、図6に示すように、低融点ガラス3を
溶融充填する。次に、図7に示すように、前記低融点ガ
ラス3の充填部の表面を所定のトラック幅の磁性薄膜が
露出するまで平面状に鏡面研磨して片側コアブロックを
作製する。次に、図8に示すように、前記片側コアブロ
ックにコイル巻線用の溝10,11を加工し、さらに、
低融点ガラスを形成した方の面(ギャップ面)に所定の
ギャップとなるようSiO2等の非磁性材料をスパッタ
リング法等により形成する。次に、図9に示すように、
このようにして形成された2つの片側コアブロックをギ
ャップ面を互いに対向するように位置をあわせ、加圧固
定を行って接合し、コアブロック12を形成する。次
に、その接合されたコアブロック12から磁気ヘッドチ
ップを切り出す。図1は、このようにして切り出された
磁気ヘッドチップを示す斜視図である。上述のようにし
て得られた磁気ヘッドチップについては、周知のよう
に、ベース板への接着固定、コイル巻き線、テープ研摩
を付して、磁気ヘッドを完成する。
Next, an embodiment of a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention will be described first with reference to an example in which the magnetic head shown in FIG. 1 is manufactured. First, as shown in FIG. 3, grooves 5 having a substantially V-shaped cross section are continuously formed on a surface of a substrate 1 made of a nonmagnetic material such as crystallized glass by dicing with a predetermined pitch A. Thereafter, as shown in FIG. 4, FeA is formed on the side wall surface 6 of each groove 5 by a vacuum deposition method or the like.
A soft magnetic thin film 2 such as an lSi alloy thin film and a nonmagnetic thin film 4 such as SiO 2 are alternately deposited by a predetermined number of layers. Next, the top portion of the groove 5 is removed by machining or the like as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 6, the low melting glass 3 is melt-filled. Next, as shown in FIG. 7, the surface of the filling portion of the low-melting glass 3 is mirror-polished to a flat surface until a magnetic thin film having a predetermined track width is exposed, thereby producing a single-sided core block. Next, as shown in FIG. 8, grooves 10 and 11 for coil winding are formed in the one-side core block.
A nonmagnetic material such as SiO 2 is formed on the surface (gap surface) on which the low melting point glass is formed by a sputtering method or the like so as to have a predetermined gap. Next, as shown in FIG.
The two single-sided core blocks formed in this way are aligned so that the gap surfaces face each other, are fixed by pressing, and are joined to form the core block 12. Next, a magnetic head chip is cut out from the joined core block 12. FIG. 1 is a perspective view showing the magnetic head chip cut out as described above. The magnetic head chip obtained as described above is adhered and fixed to a base plate, coil wound, and tape-polished to complete a magnetic head, as is well known.

【0013】次に、図2に示した磁気ヘッドの製造方法
の一実施例について説明する。まず、図10の(1)に
示す結晶化ガラス、セラミックス等から成る非磁性材料
の基板1の上に、図10の(2)に示すように、真空蒸
着法等によりFeAlSi合金薄膜等の軟磁性薄膜2と
SiO2等の非磁性薄膜4を所定の層数だけ交互に積層
蒸着する。次に、その上に、図10の(3)に示すよう
に、低融点ガラス7をスパッタリング法等の薄膜形成法
により形成する。その後、前述のようにして作られた板
を複数枚重ね、加圧溶着し、図10の(4)に示すよう
なブロックを得る。次に、基板及び積層薄膜の一部分
を、図11の(1)にて示すように機械加工等により、
例えばV型に除去する。次に、この除去された部分に、
図11の(2)に示すように、低融点ガラス3を溶融充
填する。この際用いる低融点ガラス3は、前出の低融点
ガラス7よりも低い融点のものが望ましい。次に、図1
0の(3)に示すように、前記低融点ガラス3の充填部
の表面を所定のトラック幅の磁性薄膜が露出するまで平
面状に鏡面研磨して片側コアブロックを作製し、その
後、図12に示すように、コイル巻線用の溝10,11
を加工する。さらに、低融点ガラス3を形成した方の面
(ギャップ面)に所定のギャップとなるようにSiO2
等の非磁性材料をスパッタリング法等により形成する。
次に、図13に示すように、ギャップ面を互いに対向す
るように位置をあわせ、加圧固定を行って接合し、コア
ブロック12を形成する。次に、その接合されたコアブ
ロック12のテープ摺動面8に曲率をつけ、磁気ヘッド
チップを切り出す。図14はこのようにして切り出され
た磁気ヘッドチップを示す斜視図である。なお、図2
は、テープ摺動面に曲率をつけてない場合の実施例を示
してある。上述のようにして得られた磁気ヘッドチップ
については、前述の実施例と同様、ベース板への接着固
定、コイル巻き線、テープ研磨を付して、磁気ヘッドを
完成する。
Next, one embodiment of a method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 2 will be described. First, as shown in FIG. 10 (2), on a substrate 1 of a non-magnetic material made of crystallized glass, ceramics or the like shown in FIG. The magnetic thin films 2 and the non-magnetic thin films 4 such as SiO 2 are alternately deposited by a predetermined number of layers. Next, as shown in FIG. 10C, a low melting point glass 7 is formed thereon by a thin film forming method such as a sputtering method. Thereafter, a plurality of plates made as described above are stacked and welded under pressure to obtain a block as shown in FIG. 10 (4). Next, a part of the substrate and the laminated thin film is machined as shown in FIG.
For example, it is removed into a V shape. Next, on this removed part,
As shown in FIG. 11B, the low melting glass 3 is melt-filled. It is desirable that the low melting point glass 3 used at this time has a melting point lower than that of the low melting point glass 7 described above. Next, FIG.
As shown in FIG. 12 (3), the surface of the filling portion of the low-melting glass 3 is mirror-polished in a plane until a magnetic thin film having a predetermined track width is exposed, thereby producing a one-sided core block. As shown in FIG.
To process. Further, the surface (gap surface) on which the low-melting glass 3 is formed is made of SiO 2 so as to have a predetermined gap.
Is formed by a sputtering method or the like.
Next, as shown in FIG. 13, the core blocks 12 are formed by aligning the gap surfaces so as to face each other, performing pressure fixing, and joining. Next, a curvature is given to the tape sliding surface 8 of the bonded core block 12, and a magnetic head chip is cut out. FIG. 14 is a perspective view showing the magnetic head chip thus cut out. Note that FIG.
Shows an embodiment in which the tape sliding surface has no curvature. The magnetic head chip obtained as described above is subjected to bonding and fixing to a base plate, coil winding, and tape polishing to complete a magnetic head, as in the above-described embodiment.

【0014】[0014]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によると、長時間使用しても再生出力が低下しない好良
な特性を有する磁気ヘッドを提供することができ、しか
も、従来のフェライトヘッドとほぼ同様な工程を用いて
容易に高い量産性で製造することが可能となる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to provide a magnetic head having good characteristics in which the reproduction output does not decrease even after long-term use. The head can be easily manufactured with high mass productivity by using substantially the same process as that of the head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す図であ
る。
FIG. 1 is a view showing one embodiment of a magnetic head according to the present invention.

【図2】本発明の磁気ヘッドの他の実施例を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing another embodiment of the magnetic head of the present invention.

【図3】図1に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の一
部を説明するための図である。
FIG. 3 is a view for explaining a part of steps of a method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 1;

【図4】図1に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
FIG. 4 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 1;

【図5】図1に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
FIG. 5 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 1;

【図6】図1に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
FIG. 6 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 1;

【図7】図1に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
FIG. 7 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 1;

【図8】図1に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
FIG. 8 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 1;

【図9】図1に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
FIG. 9 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 1;

【図10】図2に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
一部を説明するための図である。
FIG. 10 is a view for explaining some of steps of a method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 2;

【図11】図2に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
他の一部を説明するための図である。
FIG. 11 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 2;

【図12】図2に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
他の一部を説明するための図である。
FIG. 12 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. 2;

【図13】図2に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
他の一部を説明するための図である。
FIG. 13 is a view illustrating another part of the process of the method of manufacturing the magnetic head illustrated in FIG. 2;

【図14】図10〜図13に示した工程により製作され
た磁気ヘッドの例を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing an example of a magnetic head manufactured by the steps shown in FIGS. 10 to 13;

【図15】従来の磁気ヘッドの一例を示す図である。FIG. 15 is a diagram illustrating an example of a conventional magnetic head.

【図16】図15に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の一部を説明するための図である。
FIG. 16 is a view for explaining some of the steps of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG.

【図17】図15に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
17 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG.

【図18】図15に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
18 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG.

【図19】図15に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
19 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG.

【図20】図15に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
20 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG.

【図21】図15に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
FIG. 21 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG.

【図22】従来の磁気ヘッドの他の例を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing another example of a conventional magnetic head.

【図23】図22に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の一工程を説明するための図である。
FIG. 23 is a view for explaining one step of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG. 22;

【図24】図22に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
FIG. 24 is a view illustrating another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG. 22;

【図25】図22に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
FIG. 25 is a view for explaining another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG. 22;

【図26】図22に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
FIG. 26 is a view illustrating another part of the process of the method of manufacturing the conventional magnetic head shown in FIG. 22;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…非磁性材料の基板、2…軟磁性薄膜、3…低融点ガ
ラス、4…非磁性薄膜、5…溝、6…溝の側壁面、7…
低融点ガラス、8…テープ摺動面。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate of nonmagnetic material, 2 ... Soft magnetic thin film, 3 ... Low melting point glass, 4 ... Nonmagnetic thin film, 5 ... Groove, 6 ... Side wall surface of groove, 7 ...
Low melting point glass, 8: Tape sliding surface.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性
材料からなる基板にFeAlSi合金の軟磁性材料を薄
膜形成方法により設けてなる磁気ヘッドにおいて、磁気
ヘッドのテープ摺動面の磁気ギャップ近傍が、磁気コア
である軟磁性薄膜とコア接合用の低融点ガラスによって
構成され、前記磁気ギャップ近傍に前記基板が存在しな
いことを特徴とする磁気ヘッド。
1. A magnetic head in which a soft magnetic material of FeAlSi alloy is provided on a substrate made of a non-magnetic material such as crystallized glass or ceramics by a thin film forming method, the vicinity of a magnetic gap on a tape sliding surface of the magnetic head is A magnetic head comprising a soft magnetic thin film as a magnetic core and a low-melting glass for core bonding, wherein the substrate does not exist near the magnetic gap.
【請求項2】 非磁性材料基板に所定の溝を形成した
後、この溝の側壁に沿って軟磁性材料を薄膜形成方法に
より形成し、次いで、磁気ギャップ近傍部分の、軟磁性
材料薄膜の支持基板である非磁性材料基板を機械加工あ
るいはエッチング等により除去し、その後、除去した非
磁性材料基板の代わりに低融点ガラスを熔融充填するこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. After forming a predetermined groove in a non-magnetic material substrate, a soft magnetic material is formed along a side wall of the groove by a thin film forming method, and then a soft magnetic material thin film is supported near a magnetic gap. A method of manufacturing a magnetic head, comprising removing a nonmagnetic material substrate, which is a substrate, by machining, etching, or the like, and thereafter, filling with a low-melting glass instead of the removed nonmagnetic material substrate.
【請求項3】 結晶化ガラス、セラミックス等からなる
非磁性材料基板にFeAlSi合金薄膜等の軟磁性材料
を薄膜形成方法により形成し、その上に非磁性材料基板
を積層した後、磁気ギャップ近傍部分の、前記軟磁性材
料薄膜の支持基板である前記結晶化ガラス、セラミック
ス等の非磁性材料基板を機械加工、エッチング等の方法
により除去し、その後、除去した非磁性材料基板の代わ
りに低融点ガラスを熔融充填することを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法。
3. A soft magnetic material such as a FeAlSi alloy thin film is formed on a nonmagnetic material substrate made of crystallized glass, ceramics, or the like by a thin film forming method, and a nonmagnetic material substrate is laminated thereon. The non-magnetic material substrate such as the crystallized glass and the ceramic, which is a support substrate for the soft magnetic material thin film, is removed by a method such as machining or etching, and then the low-melting glass is used instead of the removed non-magnetic material substrate. A method for producing a magnetic head, comprising:
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