JP2808010B2 - レジスト塗布カップ自動洗浄方法 - Google Patents
レジスト塗布カップ自動洗浄方法Info
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- JP2808010B2 JP2808010B2 JP8977989A JP8977989A JP2808010B2 JP 2808010 B2 JP2808010 B2 JP 2808010B2 JP 8977989 A JP8977989 A JP 8977989A JP 8977989 A JP8977989 A JP 8977989A JP 2808010 B2 JP2808010 B2 JP 2808010B2
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- Japan
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- resist
- spin chuck
- cup
- substrate
- resist coating
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、例えば、液晶カラーテレビ用カラーフィル
タ、半導体用フォトマスク、シリコンウェハ等の製造工
程において、インラインにて構成される設備中のスピン
方式レジスト塗布装置のレジスト塗布カップの洗浄方法
に関する。
タ、半導体用フォトマスク、シリコンウェハ等の製造工
程において、インラインにて構成される設備中のスピン
方式レジスト塗布装置のレジスト塗布カップの洗浄方法
に関する。
[従来の技術] この種のスピン方式レジスト塗布装置は、基板の上に
耐食皮膜を形成するためにスピンチャックに保持された
基板の上にレジストを滴下し、スピンチャックのカーテ
ンを利用して基板の表面に均一にレジストを塗布するも
のであるが、その塗布作業中、スピンチャックを包囲す
る塗布カップの内側周面にもレジストが飛散、付着す
る。
耐食皮膜を形成するためにスピンチャックに保持された
基板の上にレジストを滴下し、スピンチャックのカーテ
ンを利用して基板の表面に均一にレジストを塗布するも
のであるが、その塗布作業中、スピンチャックを包囲す
る塗布カップの内側周面にもレジストが飛散、付着す
る。
そのため、従来は作業者が定期的に製造ラインを止
め、塗布カップの内面に付着したレジストの残滓を洗浄
液で清掃していた。
め、塗布カップの内面に付着したレジストの残滓を洗浄
液で清掃していた。
[発明が解決しようとする課題] このように、従来の技術においては清掃中ライン全体
を止めて作業者がレジストの残滓の清掃をしなければな
らないことから、製造ラインの効率低下と作業者の労働
増加という問題点があった。
を止めて作業者がレジストの残滓の清掃をしなければな
らないことから、製造ラインの効率低下と作業者の労働
増加という問題点があった。
本発明は、前記問題点を解決するとともに、塗布カッ
プの内側に付着したレジストが後続の基板へのレジスト
塗布時の乱気流により基板上に再付着するこを防止しよ
うとするものである。
プの内側に付着したレジストが後続の基板へのレジスト
塗布時の乱気流により基板上に再付着するこを防止しよ
うとするものである。
[課題を解決するための手段] 前記課題を解決するための本発明の構成を、実施例に
対応する第1図を用いて説明すると、本発明のレジスト
塗布カップ自動洗浄方法は、インラインにて構成される
設備中のスピン方式レジスト塗布装置において、スピン
チャック6に保持された基板にレジストを塗布し該基板
を後工程へ搬出した後、毎回、洗浄液を回転するスピン
チャック6上に供給し、スピンチャック6の回転に基づ
く遠心力によりスピンチャック6を包囲する塗布カップ
1の内周面に飛散させて、塗布カツプ1の内周面に付着
したレジストの残滓12を自動的に洗浄することを特徴と
するものである。
対応する第1図を用いて説明すると、本発明のレジスト
塗布カップ自動洗浄方法は、インラインにて構成される
設備中のスピン方式レジスト塗布装置において、スピン
チャック6に保持された基板にレジストを塗布し該基板
を後工程へ搬出した後、毎回、洗浄液を回転するスピン
チャック6上に供給し、スピンチャック6の回転に基づ
く遠心力によりスピンチャック6を包囲する塗布カップ
1の内周面に飛散させて、塗布カツプ1の内周面に付着
したレジストの残滓12を自動的に洗浄することを特徴と
するものである。
[作用] 本発明の洗浄方法によれば、スピンチャックに保持さ
れた基板にレジストが塗布され、続いて基板が後工程へ
搬出された後に、毎回洗浄液が回転するチャックの上に
供給され、供給された洗浄液は遠心力によってチャック
を包囲している塗布カップの内側に飛散され、そこに付
着したレジストの残滓を自動的に洗浄することができ
る。
れた基板にレジストが塗布され、続いて基板が後工程へ
搬出された後に、毎回洗浄液が回転するチャックの上に
供給され、供給された洗浄液は遠心力によってチャック
を包囲している塗布カップの内側に飛散され、そこに付
着したレジストの残滓を自動的に洗浄することができ
る。
したがって、レジスト塗布カップを洗浄する最に製造
ラインを止める必要がなくなり、製造ラインの効率を向
上させうるとともに、作業者の塗布カップ清掃作業の労
力を省くことができる。
ラインを止める必要がなくなり、製造ラインの効率を向
上させうるとともに、作業者の塗布カップ清掃作業の労
力を省くことができる。
[実施例] 以下、本発明の実施例について説明すると、第1図は
本発明で使用するインラインにて構成された設備中のス
ピン式レジスト塗布装置の断面側面図である。
本発明で使用するインラインにて構成された設備中のス
ピン式レジスト塗布装置の断面側面図である。
第1図において、1は塗布カップ、2は密閉カップで
ある。また3は密閉カップ支持部で、エアーシリンダ等
によって上下駆動ができるようになっており、密閉カッ
プ2と洗浄ノズル4が取付けられている。5はレジスト
塗布ノズルであり、回転中心から放射方向に延び、旋回
させることによってスピンチャック6の中心部まで移動
できるようになっている。
ある。また3は密閉カップ支持部で、エアーシリンダ等
によって上下駆動ができるようになっており、密閉カッ
プ2と洗浄ノズル4が取付けられている。5はレジスト
塗布ノズルであり、回転中心から放射方向に延び、旋回
させることによってスピンチャック6の中心部まで移動
できるようになっている。
7はスピンモータ、8は回転軸であり、スピンチャッ
ク6、回転軸8にはエアー・バキューム兼用の導通穴が
開けてあり、三方弁9によりスピンチャック6の上面外
周反部の基板吸着面10まで、エアーまたはバキュームが
伝わるようになっている。
ク6、回転軸8にはエアー・バキューム兼用の導通穴が
開けてあり、三方弁9によりスピンチャック6の上面外
周反部の基板吸着面10まで、エアーまたはバキュームが
伝わるようになっている。
11はシール材で回転軸8が回転中でもエアー、バキュ
ームがリークしないようになっている。
ームがリークしないようになっている。
次に、本発明のレジスト塗布カップ自動洗浄方のプロ
セスを第2図のフローチャートに基づいて説明する。
セスを第2図のフローチャートに基づいて説明する。
基板搬入 前工程を修了した基板が搬送アームにより、スピンチ
ャック6上に搬送されてくる。このとき、密閉カップ2
は上昇の状態にある。
ャック6上に搬送されてくる。このとき、密閉カップ2
は上昇の状態にある。
基板固定支持 三方弁9によりバキュームがつながり、スピンチャッ
ク6上の基板を600mmHg程度のバキュームにより基板吸
着面10に固定支持する。
ク6上の基板を600mmHg程度のバキュームにより基板吸
着面10に固定支持する。
レジスト滴下 レジスト塗布ノズル5が回転駆動され、基板の中心部
まで移動し、レジストが滴下される。
まで移動し、レジストが滴下される。
密閉カップ下降 密閉カップ支持部3が下方へ駆動され、密閉カップ2
が下降し塗布カップ1の上部を密閉する。
が下降し塗布カップ1の上部を密閉する。
スピンチャック回転開始 スピンチャック6が回転し、所定の膜厚にレジストが
塗布される。このとき、塗布カップ1の周面にレジスト
の残滓12が付着する。
塗布される。このとき、塗布カップ1の周面にレジスト
の残滓12が付着する。
スピンチャック回転終了 スピンチャック6の回転が止まり、レジスト塗布工程
が終了する。
が終了する。
基板固定支持解除 バキュームが切れ、固定支持が解除される。
密閉カップ上昇 密閉カップ支持部3が上方へ駆動され、密閉カップ2
が上昇する。
が上昇する。
基板搬出 搬送アームにより、基板が後工程へ搬送される。
密閉カップ下降 再び密閉カップ支持部3が下方へ駆動され、密閉カッ
プ2が下降し、塗布カップ1の上部を密閉する。
プ2が下降し、塗布カップ1の上部を密閉する。
スピンチャック回転開始 スピンチャック6が所定の回転数(例えば100rpm程
度)で回転され始める。このとき、三方弁9により、エ
アーが供給され、スピンチャック6上の基板吸着面10よ
りエアーが吐出する。
度)で回転され始める。このとき、三方弁9により、エ
アーが供給され、スピンチャック6上の基板吸着面10よ
りエアーが吐出する。
洗浄液吐出開始 洗浄液が、洗浄ノズル4よりスピンチャック6上に吐
出され、遠心力により塗布カップ1の内側周面に飛ばさ
れる。このとき、基板吸着面10よりエアーを吐出させる
ことで、洗浄液のスピンチャック6の導通穴への入り込
みを防いでいる。
出され、遠心力により塗布カップ1の内側周面に飛ばさ
れる。このとき、基板吸着面10よりエアーを吐出させる
ことで、洗浄液のスピンチャック6の導通穴への入り込
みを防いでいる。
洗浄液吐出終了 洗浄液により、塗布カップ1の内側周面に付着したレ
ジストの残滓12を洗い落し、下方のドレインへと流下
し、洗浄液の吐出を終了する。
ジストの残滓12を洗い落し、下方のドレインへと流下
し、洗浄液の吐出を終了する。
スピンチャック高速回転 次に、スピンチャック6の回転が高速回転(例えば20
0rpm程度)に移り、スピンチャック6の乾燥に入る。
0rpm程度)に移り、スピンチャック6の乾燥に入る。
スピンチャック回転終了 スピンチャック6が乾燥したら、その回転を停止さ
せ、エアーの吐出が止められる。
せ、エアーの吐出が止められる。
密閉カップ上昇 密閉カップ支持部3が上方へ駆動され、密閉カップ2
が上昇し、1サイクルが終了する。
が上昇し、1サイクルが終了する。
なお、本発明において使用するレジストはポリビニー
ルアルコール、カゼインゼラチン等の水溶性樹脂が主な
ものであるが、この場合の洗浄液には40℃位の湯を使用
する。他の溶剤系のフォトレジストの場合には専用の洗
浄液または溶剤を使用することになる。
ルアルコール、カゼインゼラチン等の水溶性樹脂が主な
ものであるが、この場合の洗浄液には40℃位の湯を使用
する。他の溶剤系のフォトレジストの場合には専用の洗
浄液または溶剤を使用することになる。
また、前記のフローチャートで示した各工程の自動化
は、コンピュータのプログラムによって行うものであ
る。
は、コンピュータのプログラムによって行うものであ
る。
[発明の効果] 本発明は、以上のような構成と作用を有しているの
で、スピンチャックに保持された基板にレジストを塗布
するスピン方式レジスト塗布装置において、レジスト塗
布カップの内周面を自動的に洗浄することができ、従来
技術の塗布カップが汚れたら、ラインを止めて作業者が
洗浄を行うという作業を廃止できるため、作業者の労力
がへり、生産効率が上昇する。
で、スピンチャックに保持された基板にレジストを塗布
するスピン方式レジスト塗布装置において、レジスト塗
布カップの内周面を自動的に洗浄することができ、従来
技術の塗布カップが汚れたら、ラインを止めて作業者が
洗浄を行うという作業を廃止できるため、作業者の労力
がへり、生産効率が上昇する。
また、1サイクルごとに塗布カップを洗浄するため、
従来起きていたレジストの残滓の跳ね返りによる基板上
への再付着に基づく不良品の発生をなくすことができ
る。
従来起きていたレジストの残滓の跳ね返りによる基板上
への再付着に基づく不良品の発生をなくすことができ
る。
第1図は本発明のレジスト塗布カップ自動洗浄方法を実
施するためのスピン方式レジスト塗布装置の断面側面
図、第2図は同自動洗浄方法の1サイクルの工程のフロ
ーチャートである。 1……塗布カップ、2……密閉カップ、 3……密閉カップ支持部、4……洗浄ノズル、 5……レジスト塗布ノズル、 6……スピンチャック、7……スピンモータ、 8……回転軸、9……三方弁、 10……基板吸着面、11……シール材、 12……レジスト残滓。
施するためのスピン方式レジスト塗布装置の断面側面
図、第2図は同自動洗浄方法の1サイクルの工程のフロ
ーチャートである。 1……塗布カップ、2……密閉カップ、 3……密閉カップ支持部、4……洗浄ノズル、 5……レジスト塗布ノズル、 6……スピンチャック、7……スピンモータ、 8……回転軸、9……三方弁、 10……基板吸着面、11……シール材、 12……レジスト残滓。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/027 B05C 11/08 B05D 3/12
Claims (1)
- 【請求項1】インラインにて構成される設備中のスピン
方式レジスト塗布装置において、スピンチャックに保持
された基板にレジストを塗布し該基板を後工程へ搬出し
た後、毎回、洗浄液を回転するスピンチャック上に供給
し、スピンチャックの回転に基づく遠心力によりスピン
チャックを包囲する塗布カップ内周面に飛散させて、塗
布カップの内周面に付着したレジストの残滓を自動的に
洗浄することを特徴とするレジスト塗布カップ自動洗浄
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8977989A JP2808010B2 (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | レジスト塗布カップ自動洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8977989A JP2808010B2 (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | レジスト塗布カップ自動洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02268415A JPH02268415A (ja) | 1990-11-02 |
JP2808010B2 true JP2808010B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=13980163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8977989A Expired - Fee Related JP2808010B2 (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | レジスト塗布カップ自動洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2808010B2 (ja) |
-
1989
- 1989-04-11 JP JP8977989A patent/JP2808010B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02268415A (ja) | 1990-11-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |