JP2807094B2 - 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
光半導体封止用エポキシ樹脂組成物Info
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- JP2807094B2 JP2807094B2 JP41831490A JP41831490A JP2807094B2 JP 2807094 B2 JP2807094 B2 JP 2807094B2 JP 41831490 A JP41831490 A JP 41831490A JP 41831490 A JP41831490 A JP 41831490A JP 2807094 B2 JP2807094 B2 JP 2807094B2
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- epoxy resin
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光透過性に優れた光半導
体封止用エポキシ樹脂に関するものである。
体封止用エポキシ樹脂に関するものである。
【0002】
【従来の技術】オプトエレクトロニクス関連分野に於い
て酸無水物硬化タイプのエポキシ樹脂組成物は透明性に
優れ、かつ波長900〜1000nmの近赤外光領域で
の透過率が優れているのでフォトセンサー等に使用され
ている。しかし、従来の酸無水物硬化タイプのエポキシ
樹脂組成物は温度100〜125℃、湿度85〜100
%の高温高湿雰囲気下では耐湿性に難点があり、このた
め光透過率が著しく低下する欠点があった。これらの欠
点を改良するためシリコーンオイルを添加して耐湿性を
良くする方法(特開昭61−127723)、カップリ
ング剤を添加し耐湿性を良くする方法(特開昭61−1
27724)等が試みられているが、いまだ満足できる
ものでなかった。従って耐湿性が必要とされるエリアセ
ンサー等の用途にはガラスを用いて気密封止した光半導
体が用いられているが組立てコストが高いという欠点が
あり、生産性に優れたエポキシ成形材料の開発が望まれ
ていた。
て酸無水物硬化タイプのエポキシ樹脂組成物は透明性に
優れ、かつ波長900〜1000nmの近赤外光領域で
の透過率が優れているのでフォトセンサー等に使用され
ている。しかし、従来の酸無水物硬化タイプのエポキシ
樹脂組成物は温度100〜125℃、湿度85〜100
%の高温高湿雰囲気下では耐湿性に難点があり、このた
め光透過率が著しく低下する欠点があった。これらの欠
点を改良するためシリコーンオイルを添加して耐湿性を
良くする方法(特開昭61−127723)、カップリ
ング剤を添加し耐湿性を良くする方法(特開昭61−1
27724)等が試みられているが、いまだ満足できる
ものでなかった。従って耐湿性が必要とされるエリアセ
ンサー等の用途にはガラスを用いて気密封止した光半導
体が用いられているが組立てコストが高いという欠点が
あり、生産性に優れたエポキシ成形材料の開発が望まれ
ていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は高温高湿下で
光透過率が劣化しない光半導体封止用エポキシ樹脂組成
物を提供するものである。
光透過率が劣化しない光半導体封止用エポキシ樹脂組成
物を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は下記式〔I〕で
示されるエポキシ樹脂を総エポキシ樹脂量の20〜10
0重量%と
示されるエポキシ樹脂を総エポキシ樹脂量の20〜10
0重量%と
【0005】
【化2】
【0006】(式中のRはCnH2n+1でn=1〜
6)硬化剤および硬化促進剤からなる半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物である。
6)硬化剤および硬化促進剤からなる半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物である。
【0007】本発明の式〔I〕のエポキシ樹脂は多官能
の分子構造のため耐熱性が上がり、温度100〜125
℃、湿度85〜100%のような高温高湿雰囲気下での
吸湿劣下が少なくなり光透過性の低下が抑えられる。式
〔I〕中のmは2以下では耐熱性が充分に上がらず、高
温高湿雰囲気下での光透過性の低下が抑えられなくな
る。またmが20を超えると軟化点が高すぎて、樹脂組
成物の製造が困難となる。
の分子構造のため耐熱性が上がり、温度100〜125
℃、湿度85〜100%のような高温高湿雰囲気下での
吸湿劣下が少なくなり光透過性の低下が抑えられる。式
〔I〕中のmは2以下では耐熱性が充分に上がらず、高
温高湿雰囲気下での光透過性の低下が抑えられなくな
る。またmが20を超えると軟化点が高すぎて、樹脂組
成物の製造が困難となる。
【0008】式〔I〕に配合するエポキシ樹脂はビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられ特に限定するもの
ではないが1種または2種以上併用することができる。
ェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられ特に限定するもの
ではないが1種または2種以上併用することができる。
【0009】式〔I〕のエポキシ樹脂の配合量は総エポ
キシ樹脂量の20〜100重量%で好ましくは50重量
%以上である。20重量%未満であると耐熱性が充分に
上がらず、高温高湿雰囲気下で光透過性の低下が抑えら
れない。硬化剤としては多塩基カルボン酸無水物、フェ
ノール型ノボラック樹脂などがある。多塩基カルボン酸
無水物としては無水フタル酸、無水へキサヒドロフタル
酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水
ナジック酸等が挙げられる。フェノール型ノボラック樹
脂にはフェノール型、クレゾール型、ビスフェノールA
型などがある。これらは1種または2種以上併用しても
よい。硬化剤とエポキシ樹脂の配合割合はエポキシ当量
1に対して0.5〜1.2当量の硬化剤が望ましく、こ
の範囲外では成形性に欠陥を起こす場合がある。
キシ樹脂量の20〜100重量%で好ましくは50重量
%以上である。20重量%未満であると耐熱性が充分に
上がらず、高温高湿雰囲気下で光透過性の低下が抑えら
れない。硬化剤としては多塩基カルボン酸無水物、フェ
ノール型ノボラック樹脂などがある。多塩基カルボン酸
無水物としては無水フタル酸、無水へキサヒドロフタル
酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水
ナジック酸等が挙げられる。フェノール型ノボラック樹
脂にはフェノール型、クレゾール型、ビスフェノールA
型などがある。これらは1種または2種以上併用しても
よい。硬化剤とエポキシ樹脂の配合割合はエポキシ当量
1に対して0.5〜1.2当量の硬化剤が望ましく、こ
の範囲外では成形性に欠陥を起こす場合がある。
【0010】硬化促進剤にはトリメチルアミン、トリエ
タノールアミンなどの第3級アミン、トリフェニルホス
フィン、トリシクロヘキシルホスフィン等などの有機ホ
スフィン化合物、2−メチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類が挙げられる。また、本発明には公知のアゾ
系、キノン系の染料を1種または2種以上を混合して添
加してもよい。本発明の組成物の製造は各成分を混合
し、加熱ロールを用いて50〜90℃で混練し冷却固化
後、粉砕して粉末状とする。
タノールアミンなどの第3級アミン、トリフェニルホス
フィン、トリシクロヘキシルホスフィン等などの有機ホ
スフィン化合物、2−メチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類が挙げられる。また、本発明には公知のアゾ
系、キノン系の染料を1種または2種以上を混合して添
加してもよい。本発明の組成物の製造は各成分を混合
し、加熱ロールを用いて50〜90℃で混練し冷却固化
後、粉砕して粉末状とする。
【0011】以下、本発明を実施例で具体的に示す。
【実施例】実施例1〜3、比較例1〜3 表1のエポキシ樹脂100重量部にテトラヘキサ無水フ
タル酸をエポキシ当量1に対し0.9当量添加し、更に
2−メチルイミダゾール1重量部、グリセリン脂肪酸エ
ステル3重量部を配合し、70〜90℃の加熱ロールを
用い加熱混練した後冷却固化、粉砕して樹脂組成物の粉
末を得た。該樹脂組成物を低圧トランスファー成形機を
用いて温度150℃で厚さ1mmの試験片を成形し、さ
らに120℃で6時間ポストキュアーした。この試験片
を用いて、未処理および吸湿後の光透過率を評価した。
結果を表1に示す。
タル酸をエポキシ当量1に対し0.9当量添加し、更に
2−メチルイミダゾール1重量部、グリセリン脂肪酸エ
ステル3重量部を配合し、70〜90℃の加熱ロールを
用い加熱混練した後冷却固化、粉砕して樹脂組成物の粉
末を得た。該樹脂組成物を低圧トランスファー成形機を
用いて温度150℃で厚さ1mmの試験片を成形し、さ
らに120℃で6時間ポストキュアーした。この試験片
を用いて、未処理および吸湿後の光透過率を評価した。
結果を表1に示す。
【0012】評価方法 ※光透過率 試験片を100℃の純水で200時間煮沸し、分光光度
計を用いて波長950nmの光透過率を測定。 ※ガラス転移温度 15mm×3mm×4mmの試験片をTMA試験装置を
用いて室温より260℃まで加熱して測定。
計を用いて波長950nmの光透過率を測定。 ※ガラス転移温度 15mm×3mm×4mmの試験片をTMA試験装置を
用いて室温より260℃まで加熱して測定。
【0013】
【表1】
【0014】※1 A:ビスフェノールA型エポキシ樹
脂(エポキシ当量490、軟化点68℃) B:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当
量200、軟化点70℃) C:式〔II〕のエポキシ樹脂(エポキシ当量190、
軟化点73℃)
脂(エポキシ当量490、軟化点68℃) B:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当
量200、軟化点70℃) C:式〔II〕のエポキシ樹脂(エポキシ当量190、
軟化点73℃)
【0015】
【化3】
【0016】※2 光透過率 ◎:90%以上 :85〜90% ×:85%未満
【0017】
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は透明性に
優れ、かつ耐熱性があり高温高湿下での耐湿性が優れて
おり、近赤外光領域での光透過率の低下が抑えら、エリ
アセンサー等のような耐湿性を要求される用途への展開
ができる。またガラスを用いた気密封止に較べ組立コス
トを低減できる。
優れ、かつ耐熱性があり高温高湿下での耐湿性が優れて
おり、近赤外光領域での光透過率の低下が抑えら、エリ
アセンサー等のような耐湿性を要求される用途への展開
ができる。またガラスを用いた気密封止に較べ組立コス
トを低減できる。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/28 - 23/30 H01L 21/56 C08G 59/32
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)下記式〔I〕で示されるエポキシ
樹脂を総エポキシ樹脂量の20〜100重量% 【化1】 (式中のRはCnH2n+1でn=1〜6) (B)硬化剤および (C)硬化促進剤からなる光半導体封止用エポキシ樹脂
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41831490A JP2807094B2 (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41831490A JP2807094B2 (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04363054A JPH04363054A (ja) | 1992-12-15 |
JP2807094B2 true JP2807094B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=18526182
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP41831490A Expired - Fee Related JP2807094B2 (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2807094B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2536345B (en) | 2010-11-17 | 2017-01-11 | Nippon Kayaku Kk | Epoxy Resin Composition for transparent sheets and cured product thereof |
CN102276793B (zh) * | 2011-07-14 | 2012-11-28 | 舒城金泽信环保材料有限公司 | 耐高温液态酸酐固化剂及其制备方法 |
CN102276792B (zh) * | 2011-07-14 | 2012-11-28 | 舒城金泽信环保材料有限公司 | 加热快速固化液态酸酐固化剂及其制备方法 |
TWI550019B (zh) * | 2011-12-27 | 2016-09-21 | 日本化藥股份有限公司 | 透明電路基板用環氧樹脂組成物及層合玻璃片 |
JP5914027B2 (ja) * | 2012-02-16 | 2016-05-11 | 新日鉄住金化学株式会社 | エポキシ樹脂組成物及び硬化物 |
-
1990
- 1990-12-27 JP JP41831490A patent/JP2807094B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04363054A (ja) | 1992-12-15 |
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