JP2807094B2 - 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

光半導体封止用エポキシ樹脂組成物

Info

Publication number
JP2807094B2
JP2807094B2 JP41831490A JP41831490A JP2807094B2 JP 2807094 B2 JP2807094 B2 JP 2807094B2 JP 41831490 A JP41831490 A JP 41831490A JP 41831490 A JP41831490 A JP 41831490A JP 2807094 B2 JP2807094 B2 JP 2807094B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
optical semiconductor
semiconductor encapsulation
light transmittance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP41831490A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04363054A (ja
Inventor
智仁 大槻
寛 嶋脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP41831490A priority Critical patent/JP2807094B2/ja
Publication of JPH04363054A publication Critical patent/JPH04363054A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2807094B2 publication Critical patent/JP2807094B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光透過性に優れた光半導
体封止用エポキシ樹脂に関するものである。
【0002】
【従来の技術】オプトエレクトロニクス関連分野に於い
て酸無水物硬化タイプのエポキシ樹脂組成物は透明性に
優れ、かつ波長900〜1000nmの近赤外光領域で
の透過率が優れているのでフォトセンサー等に使用され
ている。しかし、従来の酸無水物硬化タイプのエポキシ
樹脂組成物は温度100〜125℃、湿度85〜100
%の高温高湿雰囲気下では耐湿性に難点があり、このた
め光透過率が著しく低下する欠点があった。これらの欠
点を改良するためシリコーンオイルを添加して耐湿性を
良くする方法(特開昭61−127723)、カップリ
ング剤を添加し耐湿性を良くする方法(特開昭61−1
27724)等が試みられているが、いまだ満足できる
ものでなかった。従って耐湿性が必要とされるエリアセ
ンサー等の用途にはガラスを用いて気密封止した光半導
体が用いられているが組立てコストが高いという欠点が
あり、生産性に優れたエポキシ成形材料の開発が望まれ
ていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は高温高湿下で
光透過率が劣化しない光半導体封止用エポキシ樹脂組成
物を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は下記式〔I〕で
示されるエポキシ樹脂を総エポキシ樹脂量の20〜10
0重量%と
【0005】
【化2】
【0006】(式中のRはC2n+1でn=1〜
6)硬化剤および硬化促進剤からなる半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物である。
【0007】本発明の式〔I〕のエポキシ樹脂は多官能
の分子構造のため耐熱性が上がり、温度100〜125
℃、湿度85〜100%のような高温高湿雰囲気下での
吸湿劣下が少なくなり光透過性の低下が抑えられる。式
〔I〕中のmは2以下では耐熱性が充分に上がらず、高
温高湿雰囲気下での光透過性の低下が抑えられなくな
る。またmが20を超えると軟化点が高すぎて、樹脂組
成物の製造が困難となる。
【0008】式〔I〕に配合するエポキシ樹脂はビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられ特に限定するもの
ではないが1種または2種以上併用することができる。
【0009】式〔I〕のエポキシ樹脂の配合量は総エポ
キシ樹脂量の20〜100重量%で好ましくは50重量
%以上である。20重量%未満であると耐熱性が充分に
上がらず、高温高湿雰囲気下で光透過性の低下が抑えら
れない。硬化剤としては多塩基カルボン酸無水物、フェ
ノール型ノボラック樹脂などがある。多塩基カルボン酸
無水物としては無水フタル酸、無水へキサヒドロフタル
酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水
ナジック酸等が挙げられる。フェノール型ノボラック樹
脂にはフェノール型、クレゾール型、ビスフェノールA
型などがある。これらは1種または2種以上併用しても
よい。硬化剤とエポキシ樹脂の配合割合はエポキシ当量
1に対して0.5〜1.2当量の硬化剤が望ましく、こ
の範囲外では成形性に欠陥を起こす場合がある。
【0010】硬化促進剤にはトリメチルアミン、トリエ
タノールアミンなどの第3級アミン、トリフェニルホス
フィン、トリシクロヘキシルホスフィン等などの有機ホ
スフィン化合物、2−メチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類が挙げられる。また、本発明には公知のアゾ
系、キノン系の染料を1種または2種以上を混合して添
加してもよい。本発明の組成物の製造は各成分を混合
し、加熱ロールを用いて50〜90℃で混練し冷却固化
後、粉砕して粉末状とする。
【0011】以下、本発明を実施例で具体的に示す。
【実施例】実施例1〜3、比較例1〜3 表1のエポキシ樹脂100重量部にテトラヘキサ無水フ
タル酸をエポキシ当量1に対し0.9当量添加し、更に
2−メチルイミダゾール1重量部、グリセリン脂肪酸エ
ステル3重量部を配合し、70〜90℃の加熱ロールを
用い加熱混練した後冷却固化、粉砕して樹脂組成物の粉
末を得た。該樹脂組成物を低圧トランスファー成形機を
用いて温度150℃で厚さ1mmの試験片を成形し、さ
らに120℃で6時間ポストキュアーした。この試験片
を用いて、未処理および吸湿後の光透過率を評価した。
結果を表1に示す。
【0012】評価方法 ※光透過率 試験片を100℃の純水で200時間煮沸し、分光光度
計を用いて波長950nmの光透過率を測定。 ※ガラス転移温度 15mm×3mm×4mmの試験片をTMA試験装置を
用いて室温より260℃まで加熱して測定。
【0013】
【表1】
【0014】※1 A:ビスフェノールA型エポキシ樹
脂(エポキシ当量490、軟化点68℃) B:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当
量200、軟化点70℃) C:式〔II〕のエポキシ樹脂(エポキシ当量190、
軟化点73℃)
【0015】
【化3】
【0016】※2 光透過率 ◎:90%以上 :85〜90% ×:85%未満
【0017】
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は透明性に
優れ、かつ耐熱性があり高温高湿下での耐湿性が優れて
おり、近赤外光領域での光透過率の低下が抑えら、エリ
アセンサー等のような耐湿性を要求される用途への展開
ができる。またガラスを用いた気密封止に較べ組立コス
トを低減できる。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/28 - 23/30 H01L 21/56 C08G 59/32

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)下記式〔I〕で示されるエポキシ
    樹脂を総エポキシ樹脂量の20〜100重量% 【化1】 (式中のRはC2n+1でn=1〜6) (B)硬化剤および (C)硬化促進剤からなる光半導体封止用エポキシ樹脂
    組成物。
JP41831490A 1990-12-27 1990-12-27 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 Expired - Fee Related JP2807094B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41831490A JP2807094B2 (ja) 1990-12-27 1990-12-27 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41831490A JP2807094B2 (ja) 1990-12-27 1990-12-27 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04363054A JPH04363054A (ja) 1992-12-15
JP2807094B2 true JP2807094B2 (ja) 1998-09-30

Family

ID=18526182

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP41831490A Expired - Fee Related JP2807094B2 (ja) 1990-12-27 1990-12-27 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2807094B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2536345B (en) 2010-11-17 2017-01-11 Nippon Kayaku Kk Epoxy Resin Composition for transparent sheets and cured product thereof
CN102276793B (zh) * 2011-07-14 2012-11-28 舒城金泽信环保材料有限公司 耐高温液态酸酐固化剂及其制备方法
CN102276792B (zh) * 2011-07-14 2012-11-28 舒城金泽信环保材料有限公司 加热快速固化液态酸酐固化剂及其制备方法
TWI550019B (zh) * 2011-12-27 2016-09-21 日本化藥股份有限公司 透明電路基板用環氧樹脂組成物及層合玻璃片
JP5914027B2 (ja) * 2012-02-16 2016-05-11 新日鉄住金化学株式会社 エポキシ樹脂組成物及び硬化物

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04363054A (ja) 1992-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10158473A (ja) 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物、及び該エポキシ樹脂組成物を用いて封止された光半導体装置
JP2807094B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP3623530B2 (ja) 光半導体装置
KR101597837B1 (ko) 광반도체 수광 소자 봉입용 에폭시 수지 조성물 및 이의 제조 방법 및 광반도체 장치
JP2933771B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPS60124617A (ja) 樹脂封止型発光装置
JP2820540B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH08311168A (ja) 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物及び該エポキシ樹脂組成物を用いた光半導体装置
JP2935927B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP2796187B2 (ja) 光半導体装置
JP3207278B2 (ja) 光半導体封止用樹脂組成物
JP3714568B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH07224145A (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP3283368B2 (ja) 光半導体封止用樹脂組成物
JPH0827253A (ja) 光半導体装置
JP3068896B2 (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP3394736B2 (ja) エポキシ樹脂組成物および半導体装置
JP2703617B2 (ja) 光半導体装置およびそれに用いる光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP2970214B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP2864842B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPS61127724A (ja) 発光または受光素子成形体
JPS6035018A (ja) 素子封止に好適なエポキシ樹脂組成物
JPH08204067A (ja) 半導体装置
JPS61151229A (ja) 加圧成形用エポキシ樹脂組成物
JPS61200118A (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees