JP3207278B2 - 光半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

光半導体封止用樹脂組成物

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JP3207278B2 JP34019192A JP34019192A JP3207278B2 JP 3207278 B2 JP3207278 B2 JP 3207278B2 JP 34019192 A JP34019192 A JP 34019192A JP 34019192 A JP34019192 A JP 34019192A JP 3207278 B2 JP3207278 B2 JP 3207278B2
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寛 嶋脇
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、信頼性と光透過性に優
れた光半導体封止用樹脂組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】オプトエレクトロニクス関連分野に於い
て、酸無水物硬化タイプのエポキシ樹脂組成物は、波長
400nmの可視光から波長1000nmの近赤外光ま
での光透過性が優れているのでLED、フォトセンサー
等に使用されている。しかし従来の酸無水物タイプのエ
ポキシ樹脂組成物は、温度85〜125℃、湿度85〜
100%の高温高湿雰囲気下では吸湿量が著しく増加
し、このため光透過率が低下したり、リーク電流が増大
したりする。また半田実装時に金線切れやチップと樹脂
の剥離が発生する欠点があった。この欠点を改良するた
め、シリコーンオイルを添加して、耐湿性を良くする方
法(特開昭61−127723号公報)、カップリング
剤を添加して耐湿性を良くする方法(特開昭61−12
7724号公報)等が試みられているが、いまだ満足で
きるものでなかった。又、硬化剤としてノボラック樹脂
を用いて耐湿性を良くする方法(特開昭59−1332
20号公報)が提案されているが、これは樹脂組成物が
その硬化時、ないしは硬化後の使用時に100〜150
℃の高温化に放置されたときに400nm〜700nm
の可視光の光透過率が著しく低下するという欠点があっ
た。従って、信頼性に優れ、かつ高い光透過率の光半導
体封止用樹脂が望まれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高温高湿雰
囲気下や半田後の信頼性に優れ、かつ光透過性に優れる
光半導体封止用樹脂組成物を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)下記式
(1)で示される硬化剤
【0005】
【化2】 (ここで式中のRは水素、メチル基、エチル基で同一で
も異なってもよい)
【0006】(B)エポキシ樹脂及び (C)硬化促進剤 からなる光半導体封止用樹脂組成物である。
【0007】本発明の式(1)の硬化剤はフェノール系
の硬化剤であるため、これを用いると、酸無水物系の硬
化剤を用いる場合に比べて、温度85〜100℃、湿度
85〜100%のような高温高湿雰囲気下での吸水量が
少なくなる。これにより、光透過性や電気特性の低下、
及び半田時の水分拡散によるストレスを抑えられる。
又、本発明の式(1)の硬化剤は、100〜150℃の
温度で変色し難い構造であるため、可視光領域でも高い
光透過性が得られる。式(1)のRは水素、メチル基、
エチル基で、同一でも異なってもよい。これらの中では
Rがすべてメチル基であるものが好ましい。Rがブチル
基以上となると反応性が不充分で成形性が著しく低下す
る。式(1)の硬化剤と併用する硬化剤として、フェノ
ールノボラック樹脂等が挙げられるが、式(1)の硬化
剤の配合量は、総硬化剤量の80重量%以上が好まし
い。80重量%未満だと、その効果が十分に引き出せな
い。
【0008】本発明に用いるエポキシ樹脂としては、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、
ノボラック型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキ
シ樹脂等の淡色透明のものが挙げられ、これらは1種ま
たは2種以上併用してもよい。エポキシ樹脂と硬化剤の
配合割合は、エポキシ基当量1に対して水酸基当量0.
6〜1.2が望ましく、この範囲外では成形性に欠陥を
起こす場合がある。
【0009】硬化促進剤としては、トリメチルアミン、
トリエタノールアミン等の第3級アミン類、トリフェニ
ルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等の有機
ホスフィン化合物、2−メチルイミダゾール等のイミダ
ゾール類が挙げられる。また、離型剤として脂肪酸エス
テル、ステアリン酸等を1種又は2種以上混合して添加
してもよい。更に、公知のアゾ系、キノン系の染料を添
加することができる。本発明の組成物の製造は、各成分
を混合し、加熱ロールを用いて50〜90℃で混練し、
冷却固化後、粉砕して粉末状とする。
【0010】以下本発明を実施例で具体的に説明する。
配合割合は重量部とする。
【実施例】
実施例1〜4、比較例1〜4用いる原料 *1 エポキシ樹脂 a:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当
量200、軟化点70℃) b:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量4
80、軟化点68℃) *2 硬化剤 A:式(1)のRがメチル基である硬化剤(水酸基当量
170) B:フェノールノボラック樹脂(水酸基当量104、軟
化点95℃) C:テトラヒドロ無水フタル酸(水酸基当量152)
をエポキシ基当量1に対して、水酸基当量が1になるよ
うに表1の割合で配合し、更に、2−メチルイミダゾー
ルを全配合量の2重量部添加し、加熱ロールを用いて混
練を行い、冷却固形化の後、粉砕して樹脂組成物の粉末
を得た。この樹脂組成物を低圧トランスファー成形機を
用いて温度150℃で厚さ1mmの試験片を成形し、更
に、120℃で4時間ポストキュアーした試験片を用い
て、未処理、100℃、500時間の熱処理後、100
℃、100時間の煮沸後の光透過率を分光光度計を用い
て測定した。評価結果を表1に示す。
【0011】
【表1】
【0012】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物を用いる、可視光、
近赤外光領域において高温高湿下での光透過性の劣化が
抑えられるため、光ICのように信頼性の要求される用
途への展開ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−183711(JP,A) 特開 平4−325517(JP,A) 特開 平4−173828(JP,A) 特開 平4−146918(JP,A) 特開 平2−155914(JP,A) 特開 平4−318022(JP,A) 特開 平4−306223(JP,A) 特開 平4−248828(JP,A) 特開 平4−209623(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 59/62 H01L 33/00 H01L 23/29

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)下記式(1)で示される硬化剤 【化1】 (ここで式中のRは水素、メチル基、エチル基で同一で
    も異なってもよい) (B)エポキシ樹脂及び (C)硬化促進剤 からなることを特徴とする光半導体封止用樹脂組成物。
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