JP2788822B2 - ホトマスク - Google Patents
ホトマスクInfo
- Publication number
- JP2788822B2 JP2788822B2 JP12152892A JP12152892A JP2788822B2 JP 2788822 B2 JP2788822 B2 JP 2788822B2 JP 12152892 A JP12152892 A JP 12152892A JP 12152892 A JP12152892 A JP 12152892A JP 2788822 B2 JP2788822 B2 JP 2788822B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- alignment mark
- plate
- exposure
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はホトマスクに関し、特に
アクティブマトリクスカラー液晶ディスプレイを構成す
る薄膜トランジスタアレイを製造するためのステッパ用
ホトマスクに関する。
アクティブマトリクスカラー液晶ディスプレイを構成す
る薄膜トランジスタアレイを製造するためのステッパ用
ホトマスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】アクティブマトリクスカラー液晶ディス
プレイを構成する薄膜トランジスタアレイをパターン化
するには、一括露光ではホトマスクの精度が出ないので
６インチ程度のホトマスクを複数枚使用して画面継ぎし
てパターン化している。
プレイを構成する薄膜トランジスタアレイをパターン化
するには、一括露光ではホトマスクの精度が出ないので
６インチ程度のホトマスクを複数枚使用して画面継ぎし
てパターン化している。
【０００３】例えば、（株）ニコン製ＮＳＲ−Ｌ１００
１Ｇステッパで表示画面サイズ１０．４インチのカラー
液晶ディスプレイ用薄膜トランジスタ基板（以下、プレ
ートと記す）を作製する場合、３枚のホトマスクを使用
し薄膜トランジスタアレイ部を１枚のホトマスクで４回
移動露光して作成し、他の２枚のホトマスクで周辺の端
子等を露光し１工程が完了する。露光工程は、数回くり
かえして行なわれ、薄膜トランジスタアレイ全体を作製
している。
１Ｇステッパで表示画面サイズ１０．４インチのカラー
液晶ディスプレイ用薄膜トランジスタ基板（以下、プレ
ートと記す）を作製する場合、３枚のホトマスクを使用
し薄膜トランジスタアレイ部を１枚のホトマスクで４回
移動露光して作成し、他の２枚のホトマスクで周辺の端
子等を露光し１工程が完了する。露光工程は、数回くり
かえして行なわれ、薄膜トランジスタアレイ全体を作製
している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】プレートの作成には、
第１回目の露光はプレートの外形基準よりプレート中心
を求め中心より各ホトマスクのショット位置がデータ入
力されており露光される。
第１回目の露光はプレートの外形基準よりプレート中心
を求め中心より各ホトマスクのショット位置がデータ入
力されており露光される。
【０００５】第２回目以降の露光は、第１回目の露光時
のパターンに、図４に示す様にＸ方向プレート用アライ
メントマーク４，Ｙ方向プレート用アライメント９，θ
方向プレート用アライメントマーク１０を作成してお
き、それぞれのアライメントマークよりプレート中心を
求めているが、各プロセスを経由するとプレートに伸縮
が発生しアライメントマークのみでのプレート中心を演
算することは精度的に不十分でありずれが発生する。正
確な中心値が求められなければ、中心値より露光位置が
データ入力されているのでステップアンドリピートし画
面継ぎし薄膜トランジスタアレイをパターン化する場
合、ショット毎にゲートドレインの重ね合せ精度が悪
く、トランジスタ特性が異なり表示品質が異なるという
問題点がある。
のパターンに、図４に示す様にＸ方向プレート用アライ
メントマーク４，Ｙ方向プレート用アライメント９，θ
方向プレート用アライメントマーク１０を作成してお
き、それぞれのアライメントマークよりプレート中心を
求めているが、各プロセスを経由するとプレートに伸縮
が発生しアライメントマークのみでのプレート中心を演
算することは精度的に不十分でありずれが発生する。正
確な中心値が求められなければ、中心値より露光位置が
データ入力されているのでステップアンドリピートし画
面継ぎし薄膜トランジスタアレイをパターン化する場
合、ショット毎にゲートドレインの重ね合せ精度が悪
く、トランジスタ特性が異なり表示品質が異なるという
問題点がある。
【０００６】本発明の目的はプレートの伸縮量等を求め
プレート中心を精度良く求め特性の均一なトランジスタ
アレイが得られるホトマスクを提供することにある。
プレート中心を精度良く求め特性の均一なトランジスタ
アレイが得られるホトマスクを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ホトマスク本
体の周辺部に露光機にセットする際に使用するホトマス
ク用Ｙ方向アライメントマークとホトマスク用Ｘ方向ア
ライメントマークとホトマスク用θ方向アライメントマ
ークと、本パターン周辺部の外側に薄膜トランジスタ基
板が露光ステージにセットされた時に仮想中心の算出に
使用するＹ方向プレート用アライメントマークとＸ方向
プレート用アライメントマークとθ方向プレート用アラ
イメントマークとを有するホトマクスにおいて、前記本
パターン周辺部の外側に前記薄膜トランジスタ基板の伸
縮の変位量を広範囲に計測するポジション計測用マーク
を設けたことを特徴とする。
体の周辺部に露光機にセットする際に使用するホトマス
ク用Ｙ方向アライメントマークとホトマスク用Ｘ方向ア
ライメントマークとホトマスク用θ方向アライメントマ
ークと、本パターン周辺部の外側に薄膜トランジスタ基
板が露光ステージにセットされた時に仮想中心の算出に
使用するＹ方向プレート用アライメントマークとＸ方向
プレート用アライメントマークとθ方向プレート用アラ
イメントマークとを有するホトマクスにおいて、前記本
パターン周辺部の外側に前記薄膜トランジスタ基板の伸
縮の変位量を広範囲に計測するポジション計測用マーク
を設けたことを特徴とする。
【０００８】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【０００９】図１は本発明の第１の実施例の構成を示す
平面図である。
平面図である。
【００１０】図１に示すホトマスク用Ｙ方向アライメン
トマーク６，ホトマスク用Ｘ方向アライメントマーク
７，ホトマスク用θ方向アライメントマーク８は、露光
機にホトマスク本体１をセットする際に使用する。Ｙ，
θ方向プレート用アライメントマーク３，Ｘ方向プレー
ト用アライメントマーク４は、プレートが露光ステージ
にセットされた時のプレート仮想中心の算出に、ポジシ
ョン計測用マーク５は、プレートの伸縮等の算出に使用
する。本パターン２は、トランジスタアレイの形成に使
用する。
トマーク６，ホトマスク用Ｘ方向アライメントマーク
７，ホトマスク用θ方向アライメントマーク８は、露光
機にホトマスク本体１をセットする際に使用する。Ｙ，
θ方向プレート用アライメントマーク３，Ｘ方向プレー
ト用アライメントマーク４は、プレートが露光ステージ
にセットされた時のプレート仮想中心の算出に、ポジシ
ョン計測用マーク５は、プレートの伸縮等の算出に使用
する。本パターン２は、トランジスタアレイの形成に使
用する。
【００１１】図２は本発明の第１の実施例の露光方法を
説明するプレートの平面図である。
説明するプレートの平面図である。
【００１２】図２に示すように、まず、４枚のホトマク
スパターンＡ１３，Ｂ１４，Ｃ１５，Ｄ１６を使用し画
面継ぎしてカラー液晶ディスプレイの１画面を形成し、
１枚のプレート１２に２画面の第１回目の露光を行う。
スパターンＡ１３，Ｂ１４，Ｃ１５，Ｄ１６を使用し画
面継ぎしてカラー液晶ディスプレイの１画面を形成し、
１枚のプレート１２に２画面の第１回目の露光を行う。
【００１３】次に、第２回目の露光を行う場合、第１回
目の露光完了のプレート１２が露光ステージにセットさ
れると、Ｙ方向プレート用アライメントマーク９，θ方
向プレート用アライメントマーク１０，Ｘ方向プレート
用アライメントマーク４を干渉計でサーチして位置を計
測し、３点よりプレート１２の中心を求める。
目の露光完了のプレート１２が露光ステージにセットさ
れると、Ｙ方向プレート用アライメントマーク９，θ方
向プレート用アライメントマーク１０，Ｘ方向プレート
用アライメントマーク４を干渉計でサーチして位置を計
測し、３点よりプレート１２の中心を求める。
【００１４】次に、露光前にポジション計測用マーク５
を干渉計によりサーチし座標位置を計測する。ポジショ
ン計測用マーク５の位置は、露光プログラム内にデータ
入力されており、入力データと計測した値よりスケーリ
ング値及び直交度，ローテーション等が演算され、先に
算出されているプレート中心値に補正がかけられた後、
露光データに従い各ホトマスクパターンＡ１３，Ｂ１
４，Ｃ１５，Ｄ１６の露光が行われる。
を干渉計によりサーチし座標位置を計測する。ポジショ
ン計測用マーク５の位置は、露光プログラム内にデータ
入力されており、入力データと計測した値よりスケーリ
ング値及び直交度，ローテーション等が演算され、先に
算出されているプレート中心値に補正がかけられた後、
露光データに従い各ホトマスクパターンＡ１３，Ｂ１
４，Ｃ１５，Ｄ１６の露光が行われる。
【００１５】以上説明した様に、各プロセスごとに補正
値のマッチングを行うことにより、ステップアンドリピ
ートで画面継ぎを行ってもショットごとの重ね合わせを
最小限におさえ精度の向上が図られる。
値のマッチングを行うことにより、ステップアンドリピ
ートで画面継ぎを行ってもショットごとの重ね合わせを
最小限におさえ精度の向上が図られる。
【００１６】図３は本発明の第２の実施例の構成を示す
平面図である。
平面図である。
【００１７】図１及び図２に示す第１の実施例では、Ｘ
方向プレート用アライメントマーク４がホトマスク本体
１の本パターン２の辺の中心に配置されており、Ｙ，θ
プレート用アライメントマーク３との間隔が短いため、
プレート中心値の算出が精度的に不十分であったが、第
２の実施例は、図３に示すように、本パターン２の最端
のコーナ部に配置することにより、Ｘ方向プレート用ア
ライメントマーク４とＹ，θ方向プレート用アライメン
トマーク３との間隔が広がり、露光位置の精度をより向
上することができる。
方向プレート用アライメントマーク４がホトマスク本体
１の本パターン２の辺の中心に配置されており、Ｙ，θ
プレート用アライメントマーク３との間隔が短いため、
プレート中心値の算出が精度的に不十分であったが、第
２の実施例は、図３に示すように、本パターン２の最端
のコーナ部に配置することにより、Ｘ方向プレート用ア
ライメントマーク４とＹ，θ方向プレート用アライメン
トマーク３との間隔が広がり、露光位置の精度をより向
上することができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ホトマス
クに設けられたポジション計測用マークを設けることに
より、各ホトマスクのより正確な露光位置の演算が可能
となり、トランジスタの特性を向上できる効果がある。
クに設けられたポジション計測用マークを設けることに
より、各ホトマスクのより正確な露光位置の演算が可能
となり、トランジスタの特性を向上できる効果がある。
【００１９】薄膜トランジスタアレイ製造工程において
何回も露光工程を通過するために各工程において精度を
追い込むことが最終的にトランジスタ特性を向上させ
る。今回実施した広範囲にポジション計測用マークを設
けてプレート上の露光位置を正確に求められる様にした
ことにより、従来のホトマスクに比べ、重ね合せ精度を
２倍に向上出来た。例えば、重ね合せずれ量が３σで従
来１．８〜２．０μｍ程度あったものが１μｍ以下に改
善された。
何回も露光工程を通過するために各工程において精度を
追い込むことが最終的にトランジスタ特性を向上させ
る。今回実施した広範囲にポジション計測用マークを設
けてプレート上の露光位置を正確に求められる様にした
ことにより、従来のホトマスクに比べ、重ね合せ精度を
２倍に向上出来た。例えば、重ね合せずれ量が３σで従
来１．８〜２．０μｍ程度あったものが１μｍ以下に改
善された。
【図１】本発明の第１の実施例の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図２】本発明の第１の実施例の露光方法を説明するプ
レートの平面図である。
レートの平面図である。
【図３】本発明の第２の実施例の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図４】従来の露光方法の一例を説明するプレートの平
面図である。
面図である。
１ ホトマスク本体 ２ 本パターン ３ Ｙ，θ方向プレート用アライメントマーク ４ Ｘ方向プレート用アライメントマーク ５ ポジション計測用マーク ６ ホトマスク用Ｙ方向アライメントマーク ７ ホトマスク用Ｘ方向アライメントマーク ８ ホトマスク用θ方向アライメントマーク ９ Ｙ方向プレート用アライメントマーク １０ θ方向プレート用アライメントマーク １２ プレート １３ ホトマスクパターンＡ １４ ホトマスクパターンＢ １５ ホトマスクパターンＣ １６ ホトマスクパターンＤ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027 G02F 1/1345 G03F 1/08
Claims (1)
- 【請求項１】 ホトマスク本体の周辺部に露光機にセッ
トする際に使用するホトマスク用Ｙ方向アライメントマ
ークとホトマスク用Ｘ方向アライメントマークとホトマ
スク用θ方向アライメントマークと、本パターン周辺部
の外側に薄膜トランジスタ基板が露光ステージにセット
された時に仮想中心の算出に使用するＹ方向プレート用
アライメントマークとＸ方向プレート用アライメントマ
ークとθ方向プレート用アライメントマークとを有する
ホトマクスにおいて、前記本パターン周辺部の外側に前
記薄膜トランジスタ基板の伸縮の変位量を広範囲に計測
するポジション計測用マークを設けたことを特徴とする
ホトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12152892A JP2788822B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ホトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12152892A JP2788822B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ホトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05315216A JPH05315216A (ja) | 1993-11-26 |
| JP2788822B2 true JP2788822B2 (ja) | 1998-08-20 |
Family
ID=14813465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12152892A Expired - Lifetime JP2788822B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ホトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2788822B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2988393B2 (ja) * | 1996-08-29 | 1999-12-13 | 日本電気株式会社 | 露光方法 |
| KR19990047447A (ko) * | 1997-12-04 | 1999-07-05 | 윤종용 | 액정 표시 장치의 노광 장치 |
| JP4706095B2 (ja) * | 2000-10-12 | 2011-06-22 | 凸版印刷株式会社 | 貼り合せ方法 |
| JP4902858B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2012-03-21 | インフォビジョン オプトエレクトロニクス ホールデングズ リミティッド | 表示装置用アレイ基板作成用フォトマスク、アレイ基板およびアレイ基板の製造方法 |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP12152892A patent/JP2788822B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05315216A (ja) | 1993-11-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980519 |