JP2788248B2 - 高周波用磁心及びその製造方法 - Google Patents

高周波用磁心及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁性リボンを巻回して形成した磁心に関す
る。
〔従来の技術〕
磁性リボンを巻回しあるいは積層して磁心を形成した
場合、リボン層間の絶縁が悪いと、リボン層間を流れる
渦電流が生じ、渦電流損失の増大により全体の鉄損(破
損)が増大する。この傾向はとくに高周波の場合に顕著
である。そして、透磁率の周波数特性が悪く100KHz以上
ではメリットのある利用は期待できない。
そこで、従来は、リボン層間の絶縁を良好にするた
め、リボン層間に非磁性物質からなる絶縁層を設けるこ
とが行われ、その一手段としてリボン表面に一様な絶縁
膜を形成して、上記問題の解決を図ろうとしている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、磁性リボンとしてアモルファス磁性リボンを
製造する場合、400℃前後で焼鈍することが行われる
が、このような焼鈍が行われると、絶縁膜とリボンとの
線膨張係数の違い、すなわち、ほとんどの場合、絶縁膜
の線膨張係数の方がアモルファスリボンのそれより大き
いので、リボンに圧縮応力が生じ、磁歪の逆効果により
磁気特性が劣化する。
また、400℃前後の焼鈍に耐える絶縁膜としては、材
料的に限られるという問題もあり、さらに、絶縁膜を設
けると磁心を構成した場合、磁性体の充填率(占積率)
が低下し、結果として磁心の大型化を招いてしまう。
本発明は、このような問題点を解決するためになされ
たもので、占積率の低下を最小限にしてリボン層間の絶
縁性を確保して、磁気特性のよい磁性リボンおよび磁心
を提供することを技術的課題とするものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、その理論的前提として、まず、次のような
点に着目してなされた。
すなわち、先に述べたように、磁性リボンによる磁心
の製造にさいしては、絶縁膜を介在させるのが一般的
で、当業者間ではいかに絶縁性能の良い絶縁膜材料を見
い出すかが最大の関心事になっている。
しかし、観点を変えてみると、このような絶縁膜が無
い場合でも層間に空気層があれば、それが絶縁層となっ
て、渦電流を防ぎ、しかも、できるだけ占積率を大きく
できる。
そこで、本発明では、従来のような絶縁膜を用いずに
空気層のみで絶縁を確保することとした。すなわち、本
発明の磁心は、帯状の磁性リボンを巻回して形成した磁
心であり、巻回により形成された各磁性リボン層間には
空隙が形成されていて、この空隙を含めた磁心全体の体
積に対する磁性リボンの体積の割合(占積率)が81〜92
%であることを特徴とするものである。
また、このような磁心は、芯材の周囲に帯状の磁性リ
ボンを巻回して磁心を形成するに当り、磁性リボンに4
〜200kg/cm2の張力をかけつつ巻回することで得られ
る。なお芯材はその後除去する。
〔作用〕
以下、本発明の作用を述べ、さらに具体的な解決手段
について説明する。
本発明では、各磁性リボン間の空隙が絶縁層となっ
て、渦電流を妨げ、磁気特性の向上に寄与する。
ここで、本発明における磁性リボンとは、磁性体の薄
帯であり、磁性体材料としては、遷移金属中のFe,Co,Ni
等の強磁性元素単体、あるいは強磁性元素同士の合金、
特性改善を図るために加えられる非強磁性元素と強磁性
元素との合金、フェライト、パーマロイ、アモルファス
合金等を例示できる。アモルファス金属としては、Fe-
B,Fe-B−C,Fe-B-Si,Fe-B-Si-C,Fe-B-Si-Cr,Fe-Co-B-Si,
Fe-Ni-Mo-B等のFe系、Co-B,Co-Fe-Si-B,Co-Fe-Ni-Mo-B-
Si,Co-Fe-Ni-B-Si,Co-Fe-Mn-B-Si,Co-Fe-Mn-Ni,Co-Fe-M
n-Ni-B,Co-Mn-Ni-B-Si等のCo系等を例示できる。
本発明にかかる磁心は、まず、磁性リボンを用意し、
張力を4〜200kg/cm2の張力をかけつつ巻回することに
より製造できる。張力が4kg/cm2より小さいと占積率が8
1%より小さくなって所望の特性を得られず、また、200
kg/cm2より大きいと占積率は大きくなるが空隙による絶
縁特性が悪くなる。最後に、必要に応じて歪取りの焼鈍
を行う。
本発明では、巻回した場合、実質上、磁性リボンと磁
性リボンとが一部で接触するが、このような点接触部分
の存在は、本発明の成立性を妨げるものではない。但
し、接触面積が大きすぎると渦電流の発生を妨げられな
いので、この点の考慮が必要で、本発明が張力を200kg/
cm2より大きくしないよう限定したのはこのような配慮
を意味する。
他の製造方法として、溶剤に溶解可能な薄膜を磁性リ
ボンに重ねて巻回し、その後薄膜と磁性リボンの巻回物
を溶剤に浸漬して薄膜を溶剤中に溶解除去することもで
きるが、この場合、薄膜の素材及び溶剤としては次のよ
うな薄膜−溶剤の組合せが例示できる。パラフィンとア
ルコール等である。薄膜の材質の選択にあたっては、溶
剤に対する溶解速度が速いものがよく、また、溶解しき
れずに一部が残留する場合があることを考慮すると絶縁
性のあるものがよい。また、用いる薄膜の厚さにより磁
性リボンの占積率が変わり、前記した占積率の好適範囲
を満足する薄膜の厚さの範囲は1〜4μmである。ま
た、この薄膜の溶解を容易にするため、溶剤を加熱した
り、あるいは溶剤中に超音波振動子を入れ、超音波振動
をかけつつ溶解するようにするとよい。また、溶剤は磁
性金属と化学反応するようなものは除外される。
本発明で、アモルファス金属リボンで磁心を形成した
場合、磁心を必要に応じて歪取りのために、窒素等不活
性ガス雰囲気中において、300〜500℃の温度で、0.5〜
5時間焼鈍するとよい。この焼鈍は、リボンを巻回ある
いは積層して磁心とした後に行ってもよいし、リボンの
状態のままで行ってもよい。とりわけ、キュリー点より
も10〜50℃高い温度で焼鈍するとき、高周波での特性の
よいものが得られる。なお、焼鈍は磁場中で行ってもよ
いし、無磁場で行ってもよい。
そして、磁心を焼鈍する場合、リボン間は空隙である
ため線膨張ということが考えられず、むしろ、アモルフ
ァスリボンの収縮に伴う応力を吸収するという作用を奏
する。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を説明する。
第10図に示した装置で、アライド社製のアモルファス
リボン(1),2605S-2(Fe78-B13-Si9,(原子%)10mm
幅)をローラ(2)を介して順送りし、最終段で張力を
かけつつ芯材(3)に巻回し、芯材を除去してアモルフ
ァス製磁心(4)を形成した。そして、張力を140〜320
kgの範囲で変えて、同寸法の磁心を複数形成し、そのそ
れぞれを窒素雰囲気のもと、435℃で2時間焼鈍した。
得られた各磁心のB−H特性、鉄損の周波数特性、透
磁率の周波数特性を測定した。B−H特性は、10エルス
テッド(Oe)の磁界を印加した場合と、1エルステッド
(Oe)の磁界を印加した場合の2つの場合について測定
した。
各実施例及び比較例の詳細な条件は以下の通りであ
る。
実施例1 (a)磁心;上記の磁性リボンを巻回したトロイダルコ
ア 内径=25.00mm 外径=37.00mm 高さ=10.00mm 質量=38.17g 素材の密度=7.18g/m3 体積 =5.315×10-6(m3) 有効断面積=5.458×10-5(m2) 平均磁路長=9.737×10-2(m) 占積率=90.97% 磁性リボン巻回時の張力= 140kg/cm2 (b)結果 *B−H特性;第2図に示す *鉄損の周波数特性;第3図に示す コアに巻いた1次巻線の巻数は5、2次巻線の巻数は
10である。
*透磁率の周波数特性;第4図に示す コアに巻いた1次巻線の巻数は10 測定磁界=5mOe 測定電流=2.74mA 実施例2 (a)磁心;上記の磁性リボンを巻回したトロイダルコ
ア 内径=25.00mm 外径=37.00mm 高さ=10.00mm 質量=38.49g 素材の密度=7.18g/m3 体積 =5.361×10-6(m3) 有効断面積=5.504×10-5(m2) 平均磁路長=9.739×10-2(m) 占積率=91.74%(全体積に対するリボンの占める比
率) 磁性リボン巻回時の張力= 200kg/cm2 (b)結果 *B−H特性;第5図に示す *鉄損の周波数特性;第6図に示す コアに巻いた1次巻線の巻数は5、2次巻線の巻数は
10である。
*透磁率の周波数特性;第7図に示す コアに巻いた1次巻線の巻数は10 測定磁界=5mOe 測定電流=2.74mA 比較例 (a)磁心;上記の磁性リボンにポリアミドの薄膜を重
ねて巻回したトロイダルコア 内径=25.00mm 外径=37.00mm 高さ=10.00mm 質量=38.86g 素材の密度=7.18g/m3 体積 =5.412×10-6(m3) 有効断面積=5.557×10-5(m2) 平均磁路長=9.739×10-2(m) 占積率=92.61% 磁性リボン巻回時の張力= 320kg/cm2 (b)結果 *B−H特性;第8図に示す *鉄損の周波数特性;第9図に示す コアに巻いた1次巻線の巻数は5、2次巻線の巻数は
10である。
*透磁率の周波数特性;第10図に示す コアに巻いた1次巻線の巻数は10 測定磁界=5mOe 測定電流=2.74mA 以上の結果を比較すると、実施例のものでは、比較例
のものに比べて、直流での磁気特性の劣化は全くない。
また、高周波の鉄損についても全体的に低く、とくに
10KHz以上での上昇を低く押さえることができる。
さらに、比較例の場合20kHz付近から透磁率が減少し
ていたが、実施例では200kHzまでほぼ一定の透磁率が得
られた。
〔発明の効果〕
本発明では、前記構成としたので、とりわけ、10kHz
以上の周波数での磁気特性を改善でき、また、占積率を
できるだけ大きくできて、磁心の小型化に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法の一例の概略図、第2図〜第4図は
本発明の第1の実施例の磁気特性を示したグラフ図で、
第2図はB−H特性、第3図は鉄損の周波数特性、第4
図は透磁率の周波数特性である。第5図〜第7図は本発
明の第2の実施例の磁気特性を示したグラフ図で、第5
図はB−H特性、第6図は鉄損の周波数特性、第7図は
透磁率の周波数特性である。第8図〜第10図は本発明の
比較例の磁気特性を示したグラフ図で、第8図はB−H
特性、第9図は鉄損の周波数特性、第10図は透磁率の周
波数特性である。 1……磁性リボン,2……ローラ,3……芯材,4……磁心。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01F 3/04 H01F 41/02

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】帯状の磁性リボンを巻回し該磁性リボンの
    キュリー点よりも10℃〜50℃高い温度で焼鈍して形成し
    た磁心であり、巻回により形成された各磁性リボン層間
    には空隙が形成されていて、この空隙を含めた磁心全体
    の体積に対する磁性リボンの体積の割合(占積率)が81
    〜92%であることを特徴とする10kHz以上の高周波用磁
    心。
  2. 【請求項2】前記磁性リボンがアモルファス金属製であ
    る請求項第1項に記載の10kHz以上の高周波用磁心。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第1項または第2項に記載
    の磁心を形成する方法であり、芯材の周囲に帯状の磁性
    リボンを巻回して10kHz以上の高周波用磁心を形成する
    に当たり、磁性リボンに4〜200kg/cm2の張力をかけつ
    つ巻回することを特徴とする10kHz以上の高周波用磁心
    の製造方法。
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