JP2778298B2 - 画像表示材 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被写体を通して照射さ
れた電磁波を感受することにより、直接可視画像を記録
することができる画像表示材に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、銀塩フィルムを湿式現像してか
ら、ようやく可視画像として観察していた。即ち撮影後
直ぐには可視画像が得られなかった。

【０００３】それに対し、特開平２−５４０３号公報、
特開平２−２９３７４５号公報には、被照射面上の光量
分布を受光素子で直接測定して電気信号に変換する代り
に、電磁波を照射することにより、フォトクロッミック
性被膜を表面に有する画像表示材上に直接観察すること
が可能な画像記録に関する技術が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
２−５４０３号公報、特開平２−２９３７４５号公報の
画像表示材は直接可視画像記録を達成できるものの、コ
ントラストおよび解像度の点では十分といえず、特に繰
り返し使用においてこれらの性能が問題となった。

【０００５】本発明は、かかる従来技術の課題を解決し
ようとするものであり、コントラストと解像度に優れた
画像表示材を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために下記の構成を有する。

【０００７】「基材上に、少なくとも下記Ａ、Ｂがこの
順に積層されてなる画像表示材において、反射機能を有
する被膜が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａ
ｇおよびＢｅから選ばれる金属からなる薄膜であること
を特徴とする画像表示材。

【０００８】Ａ．反射機能を有する被膜。

【０００９】Ｂ．フォトクロミック性を有する化合物を
含有する有機高分子を主体としてなる被膜。」 本発明の画像表示材は、電磁波源と電磁波感受性画像表
示材との間に被写体を配置し、電磁波を照射して電磁波
感受性画像表示材上に被写体の可視画像記録を行う画像
表示方法において、画像表示材として好適に用いられ
る。

【００１０】本発明における基材としては、有機および
無機のいずれの材料も使用可能である。

【００１１】有機材料としては、ポリエステル、ポリフ
ェニレンスルフィド、ポリプロピレン、ポリエチレン、
塩化ビニル、セロファン、アセテート、ポリスチレン、
ポリカーボネート、ナイロン、アクリル樹脂、ポリイミ
ド、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、エ
ポキシおよびウレタン等の各樹脂が挙げられる。一方、
基体の平面性および熱的安定性の点からは無機材料が好
ましく、ソーダ石灰ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、
石英ガラス、高ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス等のガ
ラス基体およびシリコン等の無機結晶板等が好適に用い
られる。

【００１２】本発明は、前記の基体上にまず第１層目と
して、反射機能を有する被膜（以下、反射膜という）を
設けるものであり、反射膜としてはＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、
Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｕ、ＡｇおよびＢｅ等からなる金属薄膜
が用いられ、真空蒸着およびスパッタリング等の物理蒸
着法によって膜付けされる。画像表示材の電磁波照射に
よる記録のコントラストを上げ、感度を良くする点で、
Ａｌからなる膜が特に好ましく用いられる。均一に膜付
けすることが好ましく、その膜厚としては、３００オン
グストローム以上であることが好ましい。

【００１３】本発明は、前記反射膜上に第２層目として
フォトクロミック性を有する化合物（以下、フォトクロ
ミック化合物という）を含有する有機高分子を主体とし
てなるフォトクロミック性を有する被膜（以下、フォト
クロミック性被膜という）を設けてなるものであり、フ
ォトクロミック化合物としては、特に限定されるもので
はなく、スピロオキサジン、スピロピラン、アゾ化合
物、フルギド化合物、トリアリルメタン化合物、サリチ
リデンアニリン化合物、ジアリルエテン、ジチゾン水銀
化合物などが挙げられる。

【００１４】中でも、発消色性、繰り返し発消色性、耐
光性などの観点からスピロオキサジン化合物が好ましく
使用される。

【００１５】本発明において用いられるフォトクロミッ
ク化合物を含有する有機高分子としては、ポリマ中にフ
ォトクロミック化合物を単に単分散させたもの、あるい
は、フォトクロミック化合物を共有結合によってポリマ
中に含有させたものを用いることができる。

【００１６】単にポリマ中に単分散させる場合は、簡便
にフォトクロミック性被膜を製造することができる点か
ら有用である。この場合のフォトクロミック化合物を分
散させるために使用可能なポリマとしては、スチレン系
樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系
樹脂、セルロース誘導体などが挙げられるが、これらに
限定されるものではない。これらのポリマは単独、ある
いは二種以上を混合して用いてもよい。

【００１７】また、フォトクロミック化合物を共有結合
によってポリマ中に含有させる方法は、フォトクロミッ
ク化合物の添加量の増加が可能であることから、発色濃
度が増大し、また、フォトクロミック性被膜からのフォ
トクロミック化合物のブリードアウトの防止および耐光
性改良の点で特に好適である。

【００１８】ここで共有結合をさせる方法としては、ビ
ニル重合による方法がフォトクロミック性被膜の性能お
よび製造コストの点で有利である。

【００１９】ビニル重合のためには、重合性不飽和官能
基を付与したフォトクロミック化合物が好ましく用いら
れる。かかる重合性不飽和官能基を有するスピロオキサ
ジン系化合物としては、特に限定されるものではない
が、例えば、１−（メタ）アクリロキシエチル−３，３
−ジメチルインドリノスピロナフトオキサジン、１−
（メタ）アクリルアミドエチル−３，３−ジメチルイン
ドリノスピロナフトオキサジン、１，３，３−トリメチ
ル−９′−（メタ）アクリロキシインドリノスピロナフ
トオキサジン、１，３，３−トリメチル−５′−（メ
タ）アクリロキシメチルインドリノスピロナフトオキサ
ジン、１，３，３−トリメチル−９′−ビニルベンゾイ
ロキシインドリノスピロナフトオキサジン等が挙げられ
る。

【００２０】また、重合性官能基を有するスピロオキサ
ジン系化合物の好ましい例として、下記の一般式（Ａ）
で示される化合物も挙げることができる。

【００２１】

【化１】

【００２２】（式中、α環は、窒素原子１個を含む五員
環または六員環、および、ベンゼン環、ナフタレン環ま
たはピリジン環と連結した窒素原子１個を含む五員環ま
たは六員環から選ばれる１種であり、かつα環中の窒素
原子は有機基Ｒ¹ と結合して存在し、

【００２３】

【化２】

【００２４】で表わされる。

【００２５】ここでＲ¹ は炭素数１〜２０のアルキル
基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数７〜２０の
アラルキル基および炭素数６〜２０のアリール基から選
ばれる置換基を表す。

【００２６】Ｒ² は、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素
数１〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０のアラルコ
キシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、炭素数２〜
２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、
炭素数７〜２０のアラルキル基および、炭素数６〜２０
のアリール基から選ばれ、かつ付加重合性官能基を少な
くとも一つ有する置換基を表す。

【００２７】Ｒ³ は、水素、炭素数０〜２０のアミノ
基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０の
アラルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、炭
素数２〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアル
キル基、炭素数７〜２０のアラルキル基および炭素数６
〜２０のアリール基から選ばれる置換基を表す。

【００２８】β環は、炭素数４〜１０の不飽和脂肪族炭
化水素環を含む炭化水素環、炭素数６〜１８の芳香族炭
化水素環および炭素数３〜１６のヘテロ芳香環から選ば
れる一種である。

【００２９】Ｘは、ＯまたはＳを表わす。） 一般式（Ａ）で表されるスピロオキサジン系化合物にお
いて、α環とは、窒素原子１個を含む五員環または六員
環、および、ベンゼン環、ナフタレン環またはピリジン
環と連結した窒素原子１個を含む五員環または六員環か
ら選ばれる１種である。その具体例としては、ピロリジ
ン環、ピロール環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジ
ン環、ジヒドロピリジン環、インドリン環、ベンズイン
ドリン環、テトラヒドロキノリン環、アクリジン環、ベ
ンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、ピリドピロ
リジン環などが挙げられる。

【００３０】このα環に含まれる窒素原子は、有機基Ｒ
¹ と結合して存在し、すなわち、

【００３１】

【化３】

【００３２】で表される形で存在する。Ｒ¹ は炭素数１
〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、
炭素数７〜２０のアラルキル基および炭素数６〜２０の
アリール基から選ばれる置換基を表す。Ｒ¹ の具体例と
しては、メチル基、エチル基、オクタデシル基などの鎖
状アルキル基、イソプロピル基、２−メチルペンチル基
などの分枝状アルキル基、シクロヘキシル基、ノルボル
ニル基、アダマンチル基などのシクロアルキル基、ビニ
ル基、アリル基、イソプロペニル基、１，３−ブタジエ
ニル基などのアルケニル基、ベンジル基、フェネチル
基、（２−ナフチル）メチル基などのアラルキル基、フ
ェニル基、１−ナフチル基などのアリール基が挙げられ
る。

【００３３】Ｒ¹ が置換されている場合、置換基の具体
例としては、ヒドロキシ基；アミノ基、ジベンジルアミ
ノ基、（２−メタクリロキシエチル）アミノ基などのア
ミノ基；メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基などのアル
コキシ基；ベンジロキシ基、フェネチロキシ基などのア
ラルコキシ基；フェノキシ基、２−ナフチロキシ基など
のアリーロキシ基；アセトキシ基、ベンゾイロキシ基、
メタクリロキシ基などのアシルオキシ基；Ｎ−フェニル
カルバモイルオキシ基、Ｎ−（２−メタクリロキシエチ
ル）カルバモイルオキシ基などのカルバモイルオキシ
基；メチル基、トリフルオロメチル基、グリシジル基な
どのアルキル基；ベンジル基、フェネチル基などのアラ
ルキル基；フェニル基、１−ナフチル基などのアリール
基；クロロ基、ブロモ基などのハロゲン基；シアノ基、
カルボン酸基、カルボン酸ソーダ基、エトキシカルボニ
ル基、（２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ）オ
キシカルボキシル基などのカルボン酸基；ニトロ基、ア
クリル基、メタクリル基などのアシル基；Ｎ−メチルカ
ルバモイル基などのカルバモイル基；スルホン酸ソーダ
基、スルホン酸基などのスルホン酸基；スルファモイル
基が挙げられる。

【００３４】α環が置換されている場合、その置換基と
しては、Ｒ¹ における置換基と同様の置換基が好ましい
例として挙げられる。

【００３５】また、Ｒ² は、炭素数０〜２０のアミノ
基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０の
アラルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、炭
素数２〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアル
キル基、炭素数７〜２０のアラルキル基および炭素数６
〜２０のアリール基から選ばれる置換基であって、例え
ば、その具体例としては、水素、アミノ基、ピペリジノ
基、５，６，７，８−テトラヒドロイソキノリル基、ジ
エチルアミノ基、（２−メタクリロキシエチル）アミノ
基などのアミノ基；メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基
などのアルコキシ基；ベンジロキシ基、フェネチロキシ
基などのアラルコキシ基；フェノキシ基、２−ナフチロ
キシ基などのアリローキシ基；アセトキシ基、ベンゾイ
ロキシ基、メタクリロキシ基などのアシルオキシ基：メ
チル基、トリフルオロメチル基などのアルキル基；ベン
ジル基、フェネチル基などのアラルキル基；フェニル
基、1-ナフチル基などのアリール基などが挙げられる
が、かつ、これらの置換基に付加重合性官能基が少なく
とも１つ含まれることが必要である。

【００３６】ここでＲ² に含まれる付加重合性官能基と
しては、ラジカル重合性官能基、開環重合性官能基など
を挙げることができる。具体例としては、アクリル基、
アクリルオキシ基、アクリルアミド基、メタクリルオキ
シ基、Ｎ−（２−メタクリルオキシエチル）カルバモイ
ルオキシ基、ｐ−ビニルベンジル、３，４−エポキシブ
チル基、４−アクリルオキシピペリジノ基、４−メタク
リルオキシピペリジノ基、４，４−ジメタクリルオキシ
ピペリジノ基、３−［Ｎ−（２−メタクリルオキシエチ
ル）カルバモイルオキシ］ピペリジノ基、２−メタクリ
ルオキシメチルピペリジノ基、２−メタクリルオキシエ
チル基、２−グリシジルオキシエトキシ基、３−アリル
オキシピペリジノ基、４−メタクリルピペラジノ基、４
−（２−メタクリルオキシエチル）ピペラジノ基などが
挙げられる。

【００３７】Ｒ³ は水素、炭素数０〜２０のアミノ基、
炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０のアラ
ルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、炭素数
２〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル
基、炭素数７〜２０のアラルキル基および炭素数６〜２
０のアリール基から選ばれる置換基を表す。

【００３８】一方、β環は、炭素数４〜１０の不飽和脂
肪族炭化水素環を含む炭化水素環、炭素数６〜１８の芳
香族炭化水素環、炭素数３〜１６のヘテロ芳香環から選
ばれる一種である。炭素数４〜１０の不飽和脂肪族炭化
水素環を含む炭化水素環とは、炭素数４〜１０の不飽和
脂肪族炭化水素環、あるいは、芳香環と不飽和脂肪族炭
化水素環とが連結し、その炭素数が４〜１０である炭化
水素環を意味する。

【００３９】β環の具体例としては、シクロヘキセン
環、シクロオクテン環、シクロオクタジエン環、シクロ
デセン環、ノルボルネン環、ビシクロ［２，２，２］−
オクテン環、ジヒドロナフタレン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、アントラセン環、フェナンスレン環、キノリ
ン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾナフトチオフェン
環、ベンゾフラン環、インドール環、ピリジン環、ピリ
ミジン環などが挙げられる。

【００４０】また、一般式（Ａ）において、Ｘは、Ｏま
たはＳを表す。

【００４１】また、これらの重合性不飽和官能基を有す
るフォトクロミック化合物との共重合成分としては、同
様にビニル基を有するモノマーが好ましい。かかるモノ
マーの具体例としては、スチレン、スチレン誘導体、
（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリ
ル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル
酸、（メタ）アクリルアミド、アルキル置換（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−置換マレイミド、無水マレイン酸、
（メタ）アクリロニトリル、メチルビニルケトン、酢酸
ビニル、塩化ビニリデン、ジビニルベンゼン、エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、その他多官能（メ
タ）アクリル酸エステル化合物等が挙げられる。

【００４２】かかるフオトクロミック性被膜中に含まれ
るフォトクロミック化合物の含有量としては、使用され
るフォトクロミック化合物の種類、設計された照射装置
の特性などによって決定されるべきものであるが、通常
は０．５wt％から５０wt％の範囲で好ましく使用され
る。

【００４３】本発明において、フォトクロミック性被膜
は、基板上に設けられた反射膜上に塗布することにより
設けられる。塗布する際に用いられるフォトクロミック
化合物等の溶媒としては、メチルアルコール、エチルア
ルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ノルマルブチルアルコール、イソブチルア
ルコール、ターシャリーブチルアルコール等のアルコー
ル系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソ
プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレング
リコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル系
溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステ
ル系溶剤、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、ノル
マルオクタン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素系溶剤、
ミネラルスピリット等の石油系溶剤、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶
剤、べンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系炭化
水素溶剤など各種のものを挙げることができ、これらは
単独あるいは混合して使用することができる。

【００４４】また、かかる溶液中の固形分濃度は、適用
する塗布方法および塗布条件によっても異なるが５wt％
から３５wt％の範囲が好ましい。

【００４５】このフォトクロミック性溶液のコーティン
グは、通常行われている浸漬法、噴霧法、ローラーコー
ティング法、フローコーティング法、オフセット印刷法
およびスクリーン印刷法などによっても可能であるが、
より薄いコーティング膜を精度よく得るという観点から
スピンコート法が好ましく用いられる。かかるフォトク
ロミック性被膜の膜厚は、使用されるフォトクロミック
化合物の種類および露光装置に要求される特性によって
決まるものであるが、通常０．５μｍから１．０μｍの
範囲で好ましく用いられる。特に、コントラストや機械
操作性の点から１０μｍ〜５．０μｍが好ましい。

【００４６】なお、本発明にかかるフォトクロミック性
被膜においては、耐光性および着色濃度向上を目的と
し、該フォトクロミック材料の塗布に用いるポリマ溶液
中に光安定剤および増感剤などを添加することも好まし
い。

【００４７】なお、本発明の前記反射膜とフォトクロミ
ック性を有する被膜の中間層として、反射膜である金属
薄膜の酸化等による反射率の低下を防ぐため、および、
摩擦等に対する耐久性を向上する目的で保護膜を設ける
ことも好ましい。

【００４８】この保護膜としては、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、Ｚｎ
Ｏ、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、Ｔｉ
ＯおよびＴｉＯ₂ などの金属酸化物からなる膜が例とし
て挙げられるが、硬度、密着性、耐水性および耐熱性の
点からＳｉＯ₂ 又はＣｒ₂ Ｏ₃を主成分としてなる被膜
が特に好ましい。これら金属酸化物の膜付け法はスパッ
タリング、真空蒸着およびプラズマＣＶＤ等の方法が挙
げられるが、その膜厚は膜付けの方法と条件等によって
も異なるため、この表示画像の観察光波長において最大
の反射率を与えるよう設定することが好ましい。

【００４９】本発明における画像表示材表面の硬度およ
び耐久性は、該用途における要求特性を十分満足するも
のであるが、さらにハードコート機能を付与することも
可能であり、ポリシロキサン樹脂が好ましく用いられ
る。

【００５０】オルガノポリシロキサンを形成せしめる組
成物の代表的な例を挙げると次の一般式（Ｂ）で表され
る有機ケイ素化合物および／またはその加水分解物が挙
げられる。

【００５１】 Ｒ⁴ _a Ｒ⁵ _b ＳｉＸ _4-a-b （Ｂ） （ここで、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は、炭素数１〜１０の有機基であ
り、Ｘは加水分解性基である。ａおよびｂは０または１
である。）ここでＲ⁴ 、Ｒ⁵ は各々アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、またはハロゲン基、エポキシ基、
グリシドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリル
オキシ基ないしシアノ基を有する炭化水素基であり、同
種であっても、異種であってもよい。Ｘはハロゲン、ア
ルコキシ、アルコキシアルコキシ、フェノキシないしア
セトキシ基などから選ばれる加水分解可能な置換基であ
れば、いかなるものであってもよい。ａ、ｂは各々０ま
たは１である。

【００５２】これらの有機ケイ素化合物は１種または２
種以上添加することも可能である。とくに染色性付与の
目的にはエポキシ基、グリシドキシ基を含む有機ケイ素
化合物の使用が好適であり、高付加価値なものとなる。

【００５３】上記の組成物は通常揮発性溶媒に希釈して
液状組成物として塗布される。溶媒として用いられるも
のは、特に限定されないが、使用にあたっては被塗布物
の表面性状を損わぬことが要求され、さらには組成物の
安定性、基体に対する濡れ性、揮発性などをも考慮して
決められるべきである。また溶媒は１種のみならず２種
以上の混合物として用いることも可能である。

【００５４】これらのハードコート性を有する被膜を形
成せしめる場合には、硬化促進、低温硬化などを可能と
する目的で各種の硬化剤が使用可能である。硬化剤とし
ては各種エポキシ樹脂硬化剤、あるいは各種有機ケイ素
樹脂硬化剤などが適用される。

【００５５】これらの硬化剤の具体的な例としては、各
種の有機酸およびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合
物、各種金属錯化物あるいは金属アルコキシド、さらに
はアルカリ金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種
塩、さらには、過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル
などのラジカル重合開始剤などが挙げられる。これらの
硬化剤は２種以上混合して使用することも可能である。
これらの硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定
性、コーティング後の塗膜の着色防止などの点から、特
に下記に示すアルミニウムキレート化合物が有用であ
る。

【００５６】ここでいうアルミニウムキレート化合物と
は、一般式ＡｌＹｎＺ_3-ｎで示されるアルミニウムキレ
ート化合物である。

【００５７】（但し式中、ＹはＯＬ（Ｌは低級アルキル
基）、Ｚは一般式Ｍ¹ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＭ² （Ｍ¹ 、Ｍ²
はいずれも低級アルキル基）で示された化合物に由来す
る配位子、および一般式Ｍ³ ＣＯＣＨ₂ ＣＯ₂ Ｍ⁴ （Ｍ
³ 、Ｍ⁴ はいずれも低級アルキル基）で示される化合物
に由来する配位子から選ばれる少なくとも１つであり、
ｎは０、１または２である。ＡｌＹｎＺ_3-ｎで示される
アルミニウムキレート化合物のうちで、組成物への溶解
性、安定性、硬化触媒としての効果などの観点からし
て、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウム
ビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネー
ト、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシド−モノエチルア
セトアセテート、アルミニウム−ジ−ｉｓｏ−プロポキ
シド−モノメチルアセトアセテートなどが特に好まし
い。これらは２種以上を混合して使用することも可能で
ある。

【００５８】塗布方法としては通常のコーティング作業
で用いられる方法が適用可能であるが、たとえば浸漬
法、流し塗り法、スピンコート法などが好ましい。この
ようにして塗布されたコーティング組成物は一般には加
熱乾燥によって硬化される。

【００５９】

【実施例】以下に本発明の実施例を挙げて説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【００６０】実施例１ (1) 保護膜付反射膜の作製 シリコンウエハ上に真空蒸着法により、膜厚約２０００
オングストロームのアルミ製反射膜を設け、該被膜上に
プラズマＣＶＤ法により約２０００オングストロームの
ＳｉＯ₂ 保護膜を作製した。この保護膜付反射膜は、日
立（株）製２１０−２１０３ １５０φ積分球付の３３
０形分光光度計により測定したところ、６００nmの波長
で約８７％の反射率を示した。

【００６１】(2) 画像表示材の作製 ｎ−ブチルメタクリレート、メチルメタクリレート、ラ
ウリルメタクリレート、１−ベンジル−３，３−ジメチ
ル−９′−メタクリロキシスピロ［インドリン−２，
３′−［３Ｈ］−ナフト［２，１−ｂ］（１，４）オキ
サジン］の４種類からなるモノマをアゾビスジメチルバ
レロニトリルを開始剤としてトルエン中で重合温度７０
℃、１０時間、窒素雰囲気下で重合した。

【００６２】得られたフォトクロミック化合物共重合系
ポリマ溶液を酢酸エチル／酢酸ブチル／キシレン＝１／
１／１（重量比）の希釈溶液で固形分濃度２０重量％に
希釈した後、１μｍのアドバンテック東洋（株）製ポリ
テトラフルオロエチレンフィルターを用いて濾過してコ
ーティング溶液を調整した。このフォトクロミック性コ
ーティング液をスピンコート装置を用いて直径約１５cm
の上記(1) 項で得られたシリコンウエハの保護膜上に、
３０００rpm の条件でコーティングした後、乾燥して膜
厚２μｍのフォトクロミック性被膜を有する画像表示材
を作製した。

【００６３】(3) 性能評価 上記の方法で作製した画像表示材に電磁波として３６０
nmの紫外線を被写体を介して照射した。この結果得られ
た最大吸収波長が６００nmである表示画像は良好なコン
トラストを示し、１５０回以上の繰り返し使用において
もそのコントラストは低下しなかった。

【００６４】実施例２ (1) 保護膜付反射膜の作製 実施例１と同様にして作製し、これを用いた。

【００６５】(2) 画像表示材の作製 実施例１に記載した重合成分のうち、１−ベンジル−
３，３−ジメチル−９´−メタクリロキシスピロ［イン
ドリン−２，３´−［３Ｈ］−ナフト［２，１−ｂ］
（１，４）オキサジン］を除いた配合で同様に重合し、
得られたポリマ溶液に１−ベンジル−３，３−ジメチル
スピロ［インドリン−２，３′−［３Ｈ］−ナフト
［２，１−ｂ］（１，４）オキサジン］を１０重量部添
加して塗布用ポリマ溶液を調整した。

【００６６】このようにして得られたフォトクロミック
化合物とアクリル共重合ポリマとの溶液を用いて、実施
例１と同様にしてフォトクロミック性コーティング液を
調整し、スピンコートにより画像表示材を作製した。

【００６７】(3) 性能評価 上記の方法で作製した画像表示材の被写体を介して３６
０nmの紫外線を照射した。この結果得られた表示画像は
実施例１と同様に良好なコントラストを示し、１５０回
以上の繰り返し使用においてもそのコントラストは低下
しなかった。

【００６８】(2) 画像表示材の作製 実施例１と同様にしてフォトクロミック性コーティング
液を調整し、上記の保護膜付基板に実施例１と同様にし
て画像表示材を作製した。

【００６９】(3) 性能評価 この方法で作製した画像表示材に実施例１と同様にして
電磁波を照射した結果、得られた表示画像のコントラス
トは実施例１に比べて劣り、さらに、繰り返し耐久性に
おいてもコントラストの低下が大きかった。

【００７０】比較例２ (1) 保護膜の作製 比較例１と同様にして、保護膜付け基板を作製した。

【００７１】(2) 画像表示材の作製 実施例２と同様にしてフォトクロミック性コーティング
液を調整し、上記保護膜付け基板に実施例２と同様にし
て画像表示材を作製した。

【００７２】(3) 性能評価 この方法で作製した画像表示材に実施例２と同様にして
電磁波を照射した結果、得られた表示画像のコントラス
トは実施例２に比べて劣り、さらに、繰り返し耐久性に
おいてもコントラストの低下が大きかった。

【００７３】

【発明の効果】以上のように、本発明の画像表示材を用
いることにより、表示画像のコントラストが大幅に向上
し、その観察精度が改良できる。さらに、これらの耐久
性にも優れる。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材上に、少なくとも下記Ａ、Ｂがこの順
   に積層されてなる画像表示材において、反射機能を有す
   る被膜が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ
   およびＢｅから選ばれる金属からなる薄膜であることを
   特徴とする画像表示材。 Ａ．反射機能を有する被膜。 Ｂ．フォトクロミック性を有する化合物を含有する有機
   高分子を主体としてなる被膜。
2. 【請求項２】フォトクロミック性を有する化合物が、ス
   ピロオキサジン系化合物であることを特徴とする請求項
   １記載の画像表示材。