JPS604568A - 耐摩耗撥水性皮膜 - Google Patents
耐摩耗撥水性皮膜Info
- Publication number
- JPS604568A JPS604568A JP59100346A JP10034684A JPS604568A JP S604568 A JPS604568 A JP S604568A JP 59100346 A JP59100346 A JP 59100346A JP 10034684 A JP10034684 A JP 10034684A JP S604568 A JPS604568 A JP S604568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- epoxy
- group
- formula
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C11/00—Auxiliary processes in photography
- G03C11/06—Smoothing; Renovating; Roughening; Matting; Cleaning; Lubricating; Flame-retardant treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/14—Polycondensates modified by chemical after-treatment
- C08G59/1433—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
- C08G59/1438—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing oxygen
- C08G59/145—Compounds containing one epoxy group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
- C08G65/22—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
- Y10T428/24851—Intermediate layer is discontinuous or differential
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
- Y10T428/24851—Intermediate layer is discontinuous or differential
- Y10T428/24868—Translucent outer layer
- Y10T428/24876—Intermediate layer contains particulate material [e.g., pigment, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
- Y10T428/24893—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including particulate material
- Y10T428/24901—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including particulate material including coloring matter
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
使用中におげる普通の摩耗以外にも、物品の耐久汗馨制
約する要素は雑多である。例えば、色あせ、表面摩耗及
び汚れによってろ品の美観が七二なわれれば、物品を取
替えざる乞得ない。物，てよっては、写真や美術品のよ
う５，ｙ１汚れたからといって簡単に取替えらｔ一ない
ものもある。染料や顔科乞含む大抵の有機物は、｛１て
よって劣化されやすく、電磁波スペクトルの紫外縁領域
（約２９０〜４ ０ ０ ｎｍ ）の輻射婦は最も有害
である。常月６−ご螢元灯はこの頌域の察外線乞多夕敢
田するので・日元乞避けること，ま、このオ道の輻射線
からの光全採護にはならない。過去（・ておいて、紫外
線／でよって惹起される褪色に対し、カラー与真などの
ある種の物品冫保護するため、紫外線吸収剤乞含む合成
ホリマーの透明皮膜が用いられたことかある。
約する要素は雑多である。例えば、色あせ、表面摩耗及
び汚れによってろ品の美観が七二なわれれば、物品を取
替えざる乞得ない。物，てよっては、写真や美術品のよ
う５，ｙ１汚れたからといって簡単に取替えらｔ一ない
ものもある。染料や顔科乞含む大抵の有機物は、｛１て
よって劣化されやすく、電磁波スペクトルの紫外縁領域
（約２９０〜４ ０ ０ ｎｍ ）の輻射婦は最も有害
である。常月６−ご螢元灯はこの頌域の察外線乞多夕敢
田するので・日元乞避けること，ま、このオ道の輻射線
からの光全採護にはならない。過去（・ておいて、紫外
線／でよって惹起される褪色に対し、カラー与真などの
ある種の物品冫保護するため、紫外線吸収剤乞含む合成
ホリマーの透明皮膜が用いられたことかある。
このような保護被咎７１丁加することは褪色防止【ては
かなり有効であるが、摩耗及び汚れといつ１こ他の劣化
作用シて対づーる保護効果は示さｒ，なかった。
かなり有効であるが、摩耗及び汚れといつ１こ他の劣化
作用シて対づーる保護効果は示さｒ，なかった。
また時に絵ｌやカラー写真のごとき品物，τ方される被
覆は、衝撃抵肌及び可涜性乞もたらすものでなくて、ま
ならな、−。
覆は、衝撃抵肌及び可涜性乞もたらすものでなくて、ま
ならな、−。
米匡脣許第Ａ＋０ ４ ９＋８ ６ １号明細舎こては
、エボセシ末端停止ノランの重合一で基づく耐摩耗性の
被榎が開示されている。その技法【でより、高度の摩耗
抵抗性が付与さ扛る。
、エボセシ末端停止ノランの重合一で基づく耐摩耗性の
被榎が開示されている。その技法【でより、高度の摩耗
抵抗性が付与さ扛る。
米国１時許第４．１ ５ ６．”Ｊ ４ ６号明細曹ご
ては、紫外線、摩耗及び（又は）汚染レてよる被害乞受
けや丁い基体：て塗布丁るためのブル−ム馨生じに《い
耐摩耗性の被覆が開示さ匙でいる。米国有許第４，１
５ ６．０ ４ ６号の耐摩耗性の紫外線保獲被榎はき
わめて有効であるが、水に触ｒ，た場合に表面のひび割
ｇ冫起こしゃす℃・。非常に強い溶剤に対しても抵抗力
を有する被僅にこのような水に対する弱さがあるとは驚
《べきことであり、このような水過敏江を解消すること
が所望きれる号えんである。
ては、紫外線、摩耗及び（又は）汚染レてよる被害乞受
けや丁い基体：て塗布丁るためのブル−ム馨生じに《い
耐摩耗性の被覆が開示さ匙でいる。米国有許第４，１
５ ６．０ ４ ６号の耐摩耗性の紫外線保獲被榎はき
わめて有効であるが、水に触ｒ，た場合に表面のひび割
ｇ冫起こしゃす℃・。非常に強い溶剤に対しても抵抗力
を有する被僅にこのような水に対する弱さがあるとは驚
《べきことであり、このような水過敏江を解消すること
が所望きれる号えんである。
発明の概要
６［！％ケこえるエボキシ末端停止シラン、１５〜６０
重量％のリモネンモノオキシド、及び１０重量一未満の
他の共重合性エポキシド物質の硬化生成物からなる耐摩
耗性被後は、丁ぐれた摩耗抵抗性と低い水過敏性と冫示
す。ずた、２〜２０重量％の紫外線（ Ｕ￥ ）吸収剤
Ｚ使用すること一でより、ＵＶ吸収剤乞結晶化させずに
紫外＠１で対する保護効果が発揮される。
重量％のリモネンモノオキシド、及び１０重量一未満の
他の共重合性エポキシド物質の硬化生成物からなる耐摩
耗性被後は、丁ぐれた摩耗抵抗性と低い水過敏性と冫示
す。ずた、２〜２０重量％の紫外線（ Ｕ￥ ）吸収剤
Ｚ使用すること一でより、ＵＶ吸収剤乞結晶化させずに
紫外＠１で対する保護効果が発揮される。
エポキシ末端停止シラン
エボキシ末端停止シランは、重合可能な（好ましくは末
端基としての）エボキシ基と１合可能なシラン基とケ含
み、これらの基の間欠連鎖内にＮ及び（又は）０原子が
含ま扛た非加水分解性の脂肪咲、芳香族もしく警ま混合
駈肪一芳省族の二価の炙化水索基が惟渡ししている化合
物又は物質である．，Ｎ原子は含まれない万が好まし《
、又Ｏ原子がエボキシ基に隣接してのみ存在するのが最
も好ましい。例えば、ＣＢｑ子はエーテル結合としての
み鎖円に含まれる。エポキシ床端停止７ランがンロキサ
ン基又はエボホシ床端基による重合ケ行うのに必要な反
応を起こす官能性を屠るしくそこなわない置換基である
ならば、これらの連鎖円【置換基が含まれていてもよい
ことは肖菜界で周知である。連緒又：ま橋渡し部分，て
含みつる置換基の例は、ＮＯ２、アルキル〔飢えばＣ三
３ （ＯＨ２ ）。Ｃヨ，ｊ、アルコキシ（汎エばメト
キシ）、ノ・ロケゞン等である。本明細書中、特に１置
換されていな℃・二価の炭化水素基」などとことわらな
（・限り、橋渡し都分が前記の置換基ｔ有する場合も含
まれるものとする。
端基としての）エボキシ基と１合可能なシラン基とケ含
み、これらの基の間欠連鎖内にＮ及び（又は）０原子が
含ま扛た非加水分解性の脂肪咲、芳香族もしく警ま混合
駈肪一芳省族の二価の炙化水索基が惟渡ししている化合
物又は物質である．，Ｎ原子は含まれない万が好まし《
、又Ｏ原子がエボキシ基に隣接してのみ存在するのが最
も好ましい。例えば、ＣＢｑ子はエーテル結合としての
み鎖円に含まれる。エポキシ床端停止７ランがンロキサ
ン基又はエボホシ床端基による重合ケ行うのに必要な反
応を起こす官能性を屠るしくそこなわない置換基である
ならば、これらの連鎖円【置換基が含まれていてもよい
ことは肖菜界で周知である。連緒又：ま橋渡し部分，て
含みつる置換基の例は、ＮＯ２、アルキル〔飢えばＣ三
３ （ＯＨ２ ）。Ｃヨ，ｊ、アルコキシ（汎エばメト
キシ）、ノ・ロケゞン等である。本明細書中、特に１置
換されていな℃・二価の炭化水素基」などとことわらな
（・限り、橋渡し都分が前記の置換基ｔ有する場合も含
まれるものとする。
不発明ｔ芙施するのに有用な好ましいエボキシ禾端停止
シランの例は、一般式： ｔ有する化合物である。式甲、Ｒは炙累数２０未満の二
価の非加水分解性炭化水素基（脂肪族、芳香族もしくは
混合脂肪−芳香族）又はＯ，Ｎ、Ｓ及び０原子（これら
の原子は、二価の基の主鎖内にのみ含まれる）で構成さ
れ、酸素原子がいずれもエーテル結合の状態である二価
の基である。Ｎ原子が含まれない方が好ましい。二価の
炭化水素基の主鎖内に、２個のへテロ原子が隣接するこ
とは許されない。本発明の実施洗用いられるエポキシ末
端停止シラン用の二価の炭化水素基は上記のごとく定義
される。
シランの例は、一般式： ｔ有する化合物である。式甲、Ｒは炙累数２０未満の二
価の非加水分解性炭化水素基（脂肪族、芳香族もしくは
混合脂肪−芳香族）又はＯ，Ｎ、Ｓ及び０原子（これら
の原子は、二価の基の主鎖内にのみ含まれる）で構成さ
れ、酸素原子がいずれもエーテル結合の状態である二価
の基である。Ｎ原子が含まれない方が好ましい。二価の
炭化水素基の主鎖内に、２個のへテロ原子が隣接するこ
とは許されない。本発明の実施洗用いられるエポキシ末
端停止シラン用の二価の炭化水素基は上記のごとく定義
される。
より好ましいエポキシ末端停止シランは、式：で表わさ
れる。式中のＲ２は、炭素数２０未満の非加水分解性の
二価の炭化水素基であるか、又は主鎖がＯＸ Ｎ、、Ｓ
及び０原子のみで構成され、ヘテロ原子２個が隣り合う
ことがない炭素数２０未満の二価の基であり、そしてＲ
１は炭素数１０未満の脂肪族炭化水素基（例えはアルキ
ル）又はアシル基である。
れる。式中のＲ２は、炭素数２０未満の非加水分解性の
二価の炭化水素基であるか、又は主鎖がＯＸ Ｎ、、Ｓ
及び０原子のみで構成され、ヘテロ原子２個が隣り合う
ことがない炭素数２０未満の二価の基であり、そしてＲ
１は炭素数１０未満の脂肪族炭化水素基（例えはアルキ
ル）又はアシル基である。
本発明に用いられる組成物は、前記の式中、ｎが０〜１
、ｍか１〜６、Ｒが任意の二価の炭化水素基、例えはメ
チレン、エチレン、デカレン、フェニレン、シクロヘキ
シレン、シクロペンチレン、メチルシクロヘキシレン、
２−エチルブチレン及びアレン又は−０Ｈ２−ＯＨ２−
０−ＯＨ２−ＯＨ２−１−（ＣＨ２０Ｈ２０）２−ＯＨ
２−ＯＨ２、−〇−０Ｈ２−ＯＨ２−及び・−０Ｈ２０
−（ＯＨ２）３−のごときエーテル基を表わし、そして
Ｆ′が炭素数１０未満の任意の脂肪族炭化水素基、例工
はメチル、エチル、イソフ０ロビ′ル、ブチル、ビニル
アルキル、又は炭素数１０未満の任意のアシル基、例え
ばホルミル、アセチノペプロビル基モジくハ式（Ｃ１（
２ＣＨ２０）ｋｚ（但し、ｋは１以」−の整数であり、
そして２は水素である）乞有する任意の基であるような
エポキシ７ランケ含む。
、ｍか１〜６、Ｒが任意の二価の炭化水素基、例えはメ
チレン、エチレン、デカレン、フェニレン、シクロヘキ
シレン、シクロペンチレン、メチルシクロヘキシレン、
２−エチルブチレン及びアレン又は−０Ｈ２−ＯＨ２−
０−ＯＨ２−ＯＨ２−１−（ＣＨ２０Ｈ２０）２−ＯＨ
２−ＯＨ２、−〇−０Ｈ２−ＯＨ２−及び・−０Ｈ２０
−（ＯＨ２）３−のごときエーテル基を表わし、そして
Ｆ′が炭素数１０未満の任意の脂肪族炭化水素基、例工
はメチル、エチル、イソフ０ロビ′ル、ブチル、ビニル
アルキル、又は炭素数１０未満の任意のアシル基、例え
ばホルミル、アセチノペプロビル基モジくハ式（Ｃ１（
２ＣＨ２０）ｋｚ（但し、ｋは１以」−の整数であり、
そして２は水素である）乞有する任意の基であるような
エポキシ７ランケ含む。
最も好ましいエポキシ末端停止シランは、式：７有する
シランである。式中のＲは炭素数６以下のアルキル基で
あり、そしてｍ及びｎは独立に１〜６である。
シランである。式中のＲは炭素数６以下のアルキル基で
あり、そしてｍ及びｎは独立に１〜６である。
界面活性剤、粘度調整剤、展延助剤、色素等のような添
加剤を組成物に付加的に含ませることができる。これら
Ｚエポキシ末端停止シラン及びコモノマーとブレンドす
ることにより、最終ｗｉ、櫟の物理的性質を調節するこ
とができる。コモノマーは、エポキシ基又はシラン基と
共重合しうる当業界で公知の物質であり、エポキシド及
びシランがこれに包含される。米国特許第４，２９３．
６０６号明細書に教示されているようなオリゴマー性、
粒子状及びポリマー性の減摩剤７用いるのが好ましい。
加剤を組成物に付加的に含ませることができる。これら
Ｚエポキシ末端停止シラン及びコモノマーとブレンドす
ることにより、最終ｗｉ、櫟の物理的性質を調節するこ
とができる。コモノマーは、エポキシ基又はシラン基と
共重合しうる当業界で公知の物質であり、エポキシド及
びシランがこれに包含される。米国特許第４，２９３．
６０６号明細書に教示されているようなオリゴマー性、
粒子状及びポリマー性の減摩剤７用いるのが好ましい。
また米国特許第４，６３３，９９８号の減摩剤も特に有
用であることが認められた。これらの物質は、おおむね
層の５又は１０ｎ量チ以下乞占める。
用であることが認められた。これらの物質は、おおむね
層の５又は１０ｎ量チ以下乞占める。
減摩剤は一般に層の０．０５〜１．５、好ましくは１重
桁チ未溝の量で含まれる。
桁チ未溝の量で含まれる。
触 媒
本発明における触媒の一般的使用量は、硬化性組成物に
含まれる反応性成分の０．０１〜１ＯＮ量チである。好
ましい使用量は０．５〜５重量％であるが、個々の使用
触媒によって景は変わる。本発明における最も好ましい
触媒は、高度に弗素化された脂肪族のスルホン系触媒及
びオニウム系触媒である。前記の高度に弗素化された脂
肪族スルホン系触媒は、ある種のルイス酸やブロンステ
ッド酸のようにきわめて有用であるが、好ましさの点で
は劣る。これらのスルホン系物質は、縮度に弗素化され
た脂肪族スルホン酸及びそれらの塩とし−Ｃ定義される
。フルオロ脂肪族スルホン酸、メタン及びイミド、なら
びにそれらの製造及び用途については、米国特許第４，
０４９，８６１号明細書に開示されでいる。
含まれる反応性成分の０．０１〜１ＯＮ量チである。好
ましい使用量は０．５〜５重量％であるが、個々の使用
触媒によって景は変わる。本発明における最も好ましい
触媒は、高度に弗素化された脂肪族のスルホン系触媒及
びオニウム系触媒である。前記の高度に弗素化された脂
肪族スルホン系触媒は、ある種のルイス酸やブロンステ
ッド酸のようにきわめて有用であるが、好ましさの点で
は劣る。これらのスルホン系物質は、縮度に弗素化され
た脂肪族スルホン酸及びそれらの塩とし−Ｃ定義される
。フルオロ脂肪族スルホン酸、メタン及びイミド、なら
びにそれらの製造及び用途については、米国特許第４，
０４９，８６１号明細書に開示されでいる。
水元ψ」を実施するのに好ましいオニウム系触媒は、芳
香族オルガノ原子カチオンと、第■ａ１■ａ又は■ａ族
原子、特に燐、アンチモン、硫黄、窒素又は沃素原子、
及びアニオンとの芳香族有機付加物である。本明細書に
おいて、オニウム系触媒の基について芳香族といった場
合、それは少なくともベンゼン程度に電子受容的に主客
原子に重合した芳香環又は複素環（フェニル、ナフチル
、置換又は非置換の５．６又は７員の複素環であって、
ＯＸ ＮＸ８．Ｏ及びＳｅ原子のみで構成され、環内に
Ｓ、０又はＳｅ原子から選ばれた原子が１個ビこえて含
まれていないもの）乞意味する。例えば、フェナシル は有用な芳香族基（少なくともベンゼン程度に電子受容
性である）であるが、ベンジル は、化合物が不安定であって、貯蔵安定性に劣るため、
有用とはいえない。代表的な芳香環は、フェニル、ナフ
チル、チェニル、ヒラニル、フラニル及びピラゾリルで
あって、置換基ン有していてもよいし、又は有していな
くてもよい。
香族オルガノ原子カチオンと、第■ａ１■ａ又は■ａ族
原子、特に燐、アンチモン、硫黄、窒素又は沃素原子、
及びアニオンとの芳香族有機付加物である。本明細書に
おいて、オニウム系触媒の基について芳香族といった場
合、それは少なくともベンゼン程度に電子受容的に主客
原子に重合した芳香環又は複素環（フェニル、ナフチル
、置換又は非置換の５．６又は７員の複素環であって、
ＯＸ ＮＸ８．Ｏ及びＳｅ原子のみで構成され、環内に
Ｓ、０又はＳｅ原子から選ばれた原子が１個ビこえて含
まれていないもの）乞意味する。例えば、フェナシル は有用な芳香族基（少なくともベンゼン程度に電子受容
性である）であるが、ベンジル は、化合物が不安定であって、貯蔵安定性に劣るため、
有用とはいえない。代表的な芳香環は、フェニル、ナフ
チル、チェニル、ヒラニル、フラニル及びピラゾリルで
あって、置換基ン有していてもよいし、又は有していな
くてもよい。
本発明のオニウム系触媒は、説明式：
％式％
で表わ１−ことができる。式中の各Ｒ５は少なくともベ
ンゼン程度に電子受容性の芳香族基を独立眞表わし、そ
してＲ５基は互に結合していてもよく、ｎはＡの原子価
＋１に等しい正の整数であり、Ａは第ｖａ、、ＶＩ１３
又は■ａ族原子であり、そしてＸはアニオンである。
ンゼン程度に電子受容性の芳香族基を独立眞表わし、そ
してＲ５基は互に結合していてもよく、ｎはＡの原子価
＋１に等しい正の整数であり、Ａは第ｖａ、、ＶＩ１３
又は■ａ族原子であり、そしてＸはアニオンである。
これらのオニウム物質は、すでに当業界で公知である。
例えば、米国特許第４，０５８，４００号、第４，０５
８，４ Ｄ １号、第４，１３５，２５５号、第４．１
０２．６８７号及び第４，０２６，７０５号各明細書に
は、特殊のモノマー用のカチオン１合触媒としである棟
のオニウム化合物を用いることが開示されている。
８，４ Ｄ １号、第４，１３５，２５５号、第４．１
０２．６８７号及び第４，０２６，７０５号各明細書に
は、特殊のモノマー用のカチオン１合触媒としである棟
のオニウム化合物を用いることが開示されている。
前記の触媒によってシランの縮合反応を開始させるのに
、触媒量の湿分の肴在が必要であ）ることを見いだした
。大気中の湿気で普通充分であるが、所望により、又は
特定の用途上、空気の不存在下で重合を行わねばならな
いときには、水乞糸に添加することもできる。
、触媒量の湿分の肴在が必要であ）ることを見いだした
。大気中の湿気で普通充分であるが、所望により、又は
特定の用途上、空気の不存在下で重合を行わねばならな
いときには、水乞糸に添加することもできる。
好適なオニウム塩の非限定的な例は次のとおりである：
周期律表第Ｖｉａ族カチオン含有オニウム塩トリノエニ
ルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、 ４−１’ロロフエニルジフエニルスルホニウムテトラフ
ルオロボレート、 トリフェニルテルロニウムペンタクロロビスムテート、 トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネ−
１・、 ジフェニル−ｐ−チオフェニルフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート。
ルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、 ４−１’ロロフエニルジフエニルスルホニウムテトラフ
ルオロボレート、 トリフェニルテルロニウムペンタクロロビスムテート、 トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネ−
１・、 ジフェニル−ｐ−チオフェニルフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート。
周期律表第ｖｎａ族カデカチオン含有オニウム塩ジフェ
ニルヨードニウムザフルオロアンチモネート、 ４−クロロフェニルフェニルヨードニウムへキザフルオ
ロホスフエート、 ４− ） ＩＪフルオロメチルフェニルフェニルヨード
ニウムテトラフルオロボレート、 ４−メチルフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオ
ロボレート、 ２．２／＞’）フェニルヨードニウムへキザフルオロホ
スフエート。
ニルヨードニウムザフルオロアンチモネート、 ４−クロロフェニルフェニルヨードニウムへキザフルオ
ロホスフエート、 ４− ） ＩＪフルオロメチルフェニルフェニルヨード
ニウムテトラフルオロボレート、 ４−メチルフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオ
ロボレート、 ２．２／＞’）フェニルヨードニウムへキザフルオロホ
スフエート。
本発明の組成物は、オニウム塩とエポキシ末端停止シラ
ン組成物とン溶液が形成されるまで混合することによっ
て製造することができる。オニウム塩の多くは、珪累含
有化合物への溶解度か限られ“Ｃいるので、最初に組成
物の成分に対して不活性な液体６釈剤中にオニウム塩を
溶解した後、この溶液ン反応付組成物に混合するのが好
ましいことがし５ばし、ばある。好ましい不活性希釈剤
には、エタノールのごときアルコール、エチルアセテ−
］・のどときエステル、ジエチルエーテルのごときエー
テル、ジクロロエタンのごときハロ炭化水素、及びアセ
トニトリルのごときニトリルか包含される。貯蔵安定性
の点から、これらの溶剤及び溶液は無水であることを要
する。
ン組成物とン溶液が形成されるまで混合することによっ
て製造することができる。オニウム塩の多くは、珪累含
有化合物への溶解度か限られ“Ｃいるので、最初に組成
物の成分に対して不活性な液体６釈剤中にオニウム塩を
溶解した後、この溶液ン反応付組成物に混合するのが好
ましいことがし５ばし、ばある。好ましい不活性希釈剤
には、エタノールのごときアルコール、エチルアセテ−
］・のどときエステル、ジエチルエーテルのごときエー
テル、ジクロロエタンのごときハロ炭化水素、及びアセ
トニトリルのごときニトリルか包含される。貯蔵安定性
の点から、これらの溶剤及び溶液は無水であることを要
する。
芳香族ヨードニウム塩は、式：
を有する。式中、Ａｒ１及びＡｒ２は炭素数６〜２０の
芳香族基であって、フェニル、ナフチル、チェニル、フ
ラニル及びピラゾリル基から選ばれ、Ｗは０、Ｓ、 ５
＝ＯＸＯ＝０．０＝８＝０．１１１１−Ｎ（但し、Ｒ１
１は炭素数６〜２０のアリールもしくは炭素数２〜２０
のアシル、例えばフェニル、アシル、ベンゾイル等、炭
素−炭素結合、又はＢｌｋ （３Ｂ１３ （但し、Ｒ１
２及びＲ１３は水素、炭素数１〜４のアルキル基及び炭
素数２〜４のアルケニル基から選ばれる）であり、ｂは
Ｏ又は１であり、そしてＱはテトラフルオロボレート、
ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルゼネ
ート、ヘキサクロロアンチモネート及びヘキサフルオロ
ホスフェ−トから選ばれたハロヶ８ン含有錯アニオン、
フルオロ脂肪族スルホン酸、ビス（フルオロ脂肪族スル
ホニル）メタン又はビス（フルオロ脂肪族スルホニル）
イミドである。
芳香族基であって、フェニル、ナフチル、チェニル、フ
ラニル及びピラゾリル基から選ばれ、Ｗは０、Ｓ、 ５
＝ＯＸＯ＝０．０＝８＝０．１１１１−Ｎ（但し、Ｒ１
１は炭素数６〜２０のアリールもしくは炭素数２〜２０
のアシル、例えばフェニル、アシル、ベンゾイル等、炭
素−炭素結合、又はＢｌｋ （３Ｂ１３ （但し、Ｒ１
２及びＲ１３は水素、炭素数１〜４のアルキル基及び炭
素数２〜４のアルケニル基から選ばれる）であり、ｂは
Ｏ又は１であり、そしてＱはテトラフルオロボレート、
ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルゼネ
ート、ヘキサクロロアンチモネート及びヘキサフルオロ
ホスフェ−トから選ばれたハロヶ８ン含有錯アニオン、
フルオロ脂肪族スルホン酸、ビス（フルオロ脂肪族スル
ホニル）メタン又はビス（フルオロ脂肪族スルホニル）
イミドである。
前記の群に属する好ましい化合物は、ｂ＝Ｑのものを包
含する。さらに好ましいものは、Ａｒ”及びＡｒ２がフ
ェニル基のものである。
含する。さらに好ましいものは、Ａｒ”及びＡｒ２がフ
ェニル基のものである。
芳香族スルホニウム塩は式：
ケ有する。式中、Ａｒｌ及びＡｒ２は同−又は異なる基
であって芳香族基（芳香族ヨードニウム塩に関して定義
１〜だと同義）から選はれ、そしてＲＬ、Ｗ及びＱは前
記と同義である。
であって芳香族基（芳香族ヨードニウム塩に関して定義
１〜だと同義）から選はれ、そしてＲＬ、Ｗ及びＱは前
記と同義である。
好ましい芳香族オニウム環元触媒には、次のものが含ま
れるニ ジフコーニル＝１−ドニウムテトラフルオロホレート、 ジフェニルヨードニウムへキサフルオロホスフェ−１・
１ 、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルゼネート
、 ジフェニルヨードニウムへキサクロロアンチモネート、 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート
、 ジフェニルヨードニウムビス（トリフルオロメチルスル
ホニル）メタン。
れるニ ジフコーニル＝１−ドニウムテトラフルオロホレート、 ジフェニルヨードニウムへキサフルオロホスフェ−１・
１ 、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルゼネート
、 ジフェニルヨードニウムへキサクロロアンチモネート、 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート
、 ジフェニルヨードニウムビス（トリフルオロメチルスル
ホニル）メタン。
本発明の光重合性組成物に有用な芳香族オニウム環元触
媒は、それ自体紫外線中においてのみ感光性である。こ
れらは潜在的触媒であって、反応体と混合してから照射
によって活性化しなくてはならない。これらの触媒は、
米国特許 第６．７２９．３１３号明細書に記載の方法により、既
知の光分解性ヨードニウム化合物についての増感剤によ
り、スペクトルの近紫外線及び可視光線領域にまでさら
に増感させることができる。
媒は、それ自体紫外線中においてのみ感光性である。こ
れらは潜在的触媒であって、反応体と混合してから照射
によって活性化しなくてはならない。これらの触媒は、
米国特許 第６．７２９．３１３号明細書に記載の方法により、既
知の光分解性ヨードニウム化合物についての増感剤によ
り、スペクトルの近紫外線及び可視光線領域にまでさら
に増感させることができる。
リモネンモノオキシドは、構造式：
を有し、本発明において特異の効果を示すことか見いだ
された。例えはシクロヘキセンオキシド、α−ピネンオ
キシド又はリモネンジオキシドのような関連化合物Ｚリ
モネンモノオキシドの代りに用いた場合、撥水性はリモ
ネンモノオキシドに到底及ばない。これらの化合物は、
エポキシ基と共１合しうる物質として含ませることはで
きるが、本発明の実施に必要とされる１５〜３０重量−
のリモネンモノオキシドの又替成分にはなり得ない。
された。例えはシクロヘキセンオキシド、α−ピネンオ
キシド又はリモネンジオキシドのような関連化合物Ｚリ
モネンモノオキシドの代りに用いた場合、撥水性はリモ
ネンモノオキシドに到底及ばない。これらの化合物は、
エポキシ基と共１合しうる物質として含ませることはで
きるが、本発明の実施に必要とされる１５〜３０重量−
のリモネンモノオキシドの又替成分にはなり得ない。
本発明による共重合性のエポキシ化合物は、式：馨有す
る。式中のＲは、エポキシ化合物かエポキシ基１個につ
いて少なくとも１０００分子量馨有し１ブルームの発生
を防止しうるような脂肪族又は脂環式基である。エポキ
シ基１個について少なくとも１５００分子量ン有し、有
意に改良された可撓性が付与されるような化合物である
のがさらに好ましい。脂肪族及び脂環式基というのは、
その中にエーテル及びエステル形の酸素及びチオエーテ
ル基を含んでいてもよい炭化水素基ｔさ丁。
る。式中のＲは、エポキシ化合物かエポキシ基１個につ
いて少なくとも１０００分子量馨有し１ブルームの発生
を防止しうるような脂肪族又は脂環式基である。エポキ
シ基１個について少なくとも１５００分子量ン有し、有
意に改良された可撓性が付与されるような化合物である
のがさらに好ましい。脂肪族及び脂環式基というのは、
その中にエーテル及びエステル形の酸素及びチオエーテ
ル基を含んでいてもよい炭化水素基ｔさ丁。
ｎはＲの原子価であって１〜乙の整数である。ａ及びｂ
はＨであるのが好ましく、また−絽に縮合された場合に
は、５員もしくは６員の複素環ン形Ｊ戎するのに必要な
原子群を表わす。ホモ重合したエポキシ化合物から得ら
れるポリマーのガラス転移温度（Ｔ６）が−２５℃より
も低くなるようにＲ７選ぶのが望ましい。
はＨであるのが好ましく、また−絽に縮合された場合に
は、５員もしくは６員の複素環ン形Ｊ戎するのに必要な
原子群を表わす。ホモ重合したエポキシ化合物から得ら
れるポリマーのガラス転移温度（Ｔ６）が−２５℃より
も低くなるようにＲ７選ぶのが望ましい。
可撓化性エポキシでもある有用なポリエポキシドには、
１個又はそれ以上のンクロヘキセンオキシド基乞含むも
の、例えばエボキシシクロヘキサンカルボキシレートが
包含される。代表的な例は、ろ、４−エポキシシクロヘ
キシルメチル−２，４−エボキシンクロヘキサンカルポ
キンレート、６゜４〜エポキシ−２−メチルシクロヘキ
シルメチル−５，４−エポキシ−２−メチルシクロヘキ
サンカルボキシレート及びビス（３，４−エポキシ−６
−メチルシクロヘキシルメチル）アジペートである。
１個又はそれ以上のンクロヘキセンオキシド基乞含むも
の、例えばエボキシシクロヘキサンカルボキシレートが
包含される。代表的な例は、ろ、４−エポキシシクロヘ
キシルメチル−２，４−エボキシンクロヘキサンカルポ
キンレート、６゜４〜エポキシ−２−メチルシクロヘキ
シルメチル−５，４−エポキシ−２−メチルシクロヘキ
サンカルボキシレート及びビス（３，４−エポキシ−６
−メチルシクロヘキシルメチル）アジペートである。
他の有用な可撓化用エポキシ化合物の例には、脂肪族ボ
゛リオールの＆ ＩＪグリシジルエーテル、例えば１．
６−ヘキサンシオールジグリシジルエーテル、ジエチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレンクリ
コールジグリシジルエーテル、５ｌ）−ｊ’ロビレング
リコールジグリ／ジルエーテル、２，５−ジオキサンジ
オールのジグリンジルエーテル及びトリメチロールプロ
パンのトリダリシジルエーテル、エポキシ化ポリオレフ
ィン、例えばジペンテンジオキシドならびにエポキシ化
〆リブタジエンが含まれる。他の有用な脂肪族ポリエポ
キシ化合物は、マグロ−ヒル・プルツク社（ＭｃＧｒａ
ｗ−Ｈｊ、］−１Ｅｒｏｏｋ Ｃｏ 、 ）から１９６
７年に発行された［エポキシ樹脂便覧Ｊ （Ｈａｎｄｂ
ｏｏｋ ｏｆＥｐｏｘｙ Ｒθ８１ｎｓ）Ｋ開示されて
いる。これらの化合物は随意成分であり、水抵抗性乞改
善するためには、１０重Ｍ′−未満、好ましくは５Ｍ量
チ未満の量で用いるべきであり、使用量７１％未満とす
るか、又は全熱用いないのが最も好ましい。
゛リオールの＆ ＩＪグリシジルエーテル、例えば１．
６−ヘキサンシオールジグリシジルエーテル、ジエチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレンクリ
コールジグリシジルエーテル、５ｌ）−ｊ’ロビレング
リコールジグリ／ジルエーテル、２，５−ジオキサンジ
オールのジグリンジルエーテル及びトリメチロールプロ
パンのトリダリシジルエーテル、エポキシ化ポリオレフ
ィン、例えばジペンテンジオキシドならびにエポキシ化
〆リブタジエンが含まれる。他の有用な脂肪族ポリエポ
キシ化合物は、マグロ−ヒル・プルツク社（ＭｃＧｒａ
ｗ−Ｈｊ、］−１Ｅｒｏｏｋ Ｃｏ 、 ）から１９６
７年に発行された［エポキシ樹脂便覧Ｊ （Ｈａｎｄｂ
ｏｏｋ ｏｆＥｐｏｘｙ Ｒθ８１ｎｓ）Ｋ開示されて
いる。これらの化合物は随意成分であり、水抵抗性乞改
善するためには、１０重Ｍ′−未満、好ましくは５Ｍ量
チ未満の量で用いるべきであり、使用量７１％未満とす
るか、又は全熱用いないのが最も好ましい。
紫外線吸収剤
本発明に用いるのに好ましい紫外線吸収剤は、次のよう
に分類される： ２−ヒドロキシベンゾフェノンで構成される。適当な相
容性、不揮発性、及び特に吸光性火高めるために基本分
子に檜々の置換基ケ含ませたものが販売されている。代
表的な置換２−ヒドロキシベンゾフェノンは、 ２−ヒドロキシ−４−メトキンベン・アフエノン、２−
ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、 ４−ドデシルオキシー２−ヒドロキシベン゛アフエノン
及び ２．２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン である。置換２−ヒドロキシベンゾフェノンは、当業界
で一つの部類として分類されている。
に分類される： ２−ヒドロキシベンゾフェノンで構成される。適当な相
容性、不揮発性、及び特に吸光性火高めるために基本分
子に檜々の置換基ケ含ませたものが販売されている。代
表的な置換２−ヒドロキシベンゾフェノンは、 ２−ヒドロキシ−４−メトキンベン・アフエノン、２−
ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、 ４−ドデシルオキシー２−ヒドロキシベン゛アフエノン
及び ２．２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン である。置換２−ヒドロキシベンゾフェノンは、当業界
で一つの部類として分類されている。
体で構成される。典型的な例は、
２− （２’−ヒドロキシ−５７−メチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、及び ２−（２’−ヒドロキシ−５′−℃−オクチルフェニル
）ベン１）′＞トリアゾール テアル。置換２− （２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾールも、紫外線吸収剤の一つの部類として商
業界で分類されている。
ンゾトリアゾール、及び ２−（２’−ヒドロキシ−５′−℃−オクチルフェニル
）ベン１）′＞トリアゾール テアル。置換２− （２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾールも、紫外線吸収剤の一つの部類として商
業界で分類されている。
れた別のＵＶ吸収剤である。代表的な例は、エチル−２
−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、及び ｐ−メトキシベンジリデンマロン酸ジメチルエステル である。
−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、及び ｐ−メトキシベンジリデンマロン酸ジメチルエステル である。
類には、アリールサリチレート、ベンゾエート、及びレ
ゾルシノールのエステルが包含さオする。典型的な例は
、フェニルサリチレート、ｐ−ｔ−オクチルフェニルサ
リチレート、レソゞルンノールモノベンゾエート、及び
２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−６，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエートである。
ゾルシノールのエステルが包含さオする。典型的な例は
、フェニルサリチレート、ｐ−ｔ−オクチルフェニルサ
リチレート、レソゞルンノールモノベンゾエート、及び
２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−６，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエートである。
個々のＵＶ吸収剤の性質を寄せ集めるため、しばしばこ
れらの吸収剤が組合わせて用いられる。
れらの吸収剤が組合わせて用いられる。
好ｔしい吸収剤は、（１）２．４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、（ｌｌｊ２． ２’、４． ４’−テトラヒ
ドロ千ンベンゾフエノン、ｔｉｌｌ＋ ２−（２’−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）ペンソトυアゾール及
ヒｔ＋ｖ＋ ２−（６′、５′−ジ−ｔ−アミル−２′
−ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾールである。
フェノン、（ｌｌｊ２． ２’、４． ４’−テトラヒ
ドロ千ンベンゾフエノン、ｔｉｌｌ＋ ２−（２’−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）ペンソトυアゾール及
ヒｔ＋ｖ＋ ２−（６′、５′−ジ−ｔ−アミル−２′
−ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾールである。
紫外線吸収物質の一般的使用量は、耐摩耗層の２〜２０
重柑：％である。３〜１０里量係の使用量か好ましく、
４〜８重量係であればいっそう好ましい。特に米国特許
第４，１５６．０４６号明細書に記載されているような
可撓化用エポキシの不存在下において、大量の吸収剤を
層内に溶解しうろことは篤くべきことである。大量のＵ
Ｖ吸収剤を用いることにより、皮膜による紫外線からの
保穫効果が高められる。
重柑：％である。３〜１０里量係の使用量か好ましく、
４〜８重量係であればいっそう好ましい。特に米国特許
第４，１５６．０４６号明細書に記載されているような
可撓化用エポキシの不存在下において、大量の吸収剤を
層内に溶解しうろことは篤くべきことである。大量のＵ
Ｖ吸収剤を用いることにより、皮膜による紫外線からの
保穫効果が高められる。
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
例１〜２
下記の好適配合により、２種の溶／Ｉｌを製造した：ｒ
−グリシドギンプロピルメトキン７ラン ７０ ４５リ
モネンモノオキシド ２０ ０ １．４−ブタンジオ−ルジグリ／ジルエーテル 口 ６
６２、 ４−ジヒドロキシベンゾフェノン ５５）・リ
フェニルスルホニウムへキザフルオロアン ５５チモネ
−ト 不活性なフルオロカーボン被覆助剤 ＜０．２ ＜０．
２２ ：１ｉｌｉの組成物乞共Ｋ ２．５μの厚さで光
沢焼付り゛のカラー′Ｊ４Ｘに塗布し、紫外線乞照射し
て硬化させ１こ。両溶液とも非常に光沢のある被覆を生
じ、これらの被覆はすぐれた耐Ｍ粍性、劇有機溶剤性ヶ
示し、紫外線による褪色作用から写真色素を保護した。
−グリシドギンプロピルメトキン７ラン ７０ ４５リ
モネンモノオキシド ２０ ０ １．４−ブタンジオ−ルジグリ／ジルエーテル 口 ６
６２、 ４−ジヒドロキシベンゾフェノン ５５）・リ
フェニルスルホニウムへキザフルオロアン ５５チモネ
−ト 不活性なフルオロカーボン被覆助剤 ＜０．２ ＜０．
２２ ：１ｉｌｉの組成物乞共Ｋ ２．５μの厚さで光
沢焼付り゛のカラー′Ｊ４Ｘに塗布し、紫外線乞照射し
て硬化させ１こ。両溶液とも非常に光沢のある被覆を生
じ、これらの被覆はすぐれた耐Ｍ粍性、劇有機溶剤性ヶ
示し、紫外線による褪色作用から写真色素を保護した。
２枚の写真の表面を水平匠保ち、そσ）上知水乞滴状散
布した。被覆１゛みの写真を６分間水滴と接触させブこ
ままにした後、薄葉吸取紙を用いて水滴をおだやかに吸
取った。爵液Ｂで被覆された写真の表面−ヒ眞、永久的
な可視斑点か現われたが、溶液Ａで被覆された写真の表
ｒＮｊ Ｋは、そのような剃点か残らなかった。
布した。被覆１゛みの写真を６分間水滴と接触させブこ
ままにした後、薄葉吸取紙を用いて水滴をおだやかに吸
取った。爵液Ｂで被覆された写真の表面−ヒ眞、永久的
な可視斑点か現われたが、溶液Ａで被覆された写真の表
ｒＮｊ Ｋは、そのような剃点か残らなかった。
例６〜５
同じように溶液Ｃ１Ｄ及びＥを調製し、前記のごとく被
覆、硬化及び試験２行った。
覆、硬化及び試験２行った。
ンクロヘキセンオキシド ２０ −− −−α−ビネン
オキシド −−２０−− リモネンジオキシド −一 −−２０ ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン ５５５不活性な
フルオロカーボン界面活性剤 ０．１ ０．１ ０．１
三つの場合の１−べてにおいて、水滴と６分間接触させ
た後の被覆ずみ写真の上に永久的な水の斑点が生じた。
オキシド −−２０−− リモネンジオキシド −一 −−２０ ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン ５５５不活性な
フルオロカーボン界面活性剤 ０．１ ０．１ ０．１
三つの場合の１−べてにおいて、水滴と６分間接触させ
た後の被覆ずみ写真の上に永久的な水の斑点が生じた。
こｇらの］水の玖点」を顕微鏡で調べたところ、水と接
触した部分の被覆に多数の微細な割れ目σ）あるのが認
められた。これらの痕跡は永久的な性質７有し、数日間
風乾した後でも消えなかった。これらの例からリモネン
ジオキシドの特異性が証明される。
触した部分の被覆に多数の微細な割れ目σ）あるのが認
められた。これらの痕跡は永久的な性質７有し、数日間
風乾した後でも消えなかった。これらの例からリモネン
ジオキシドの特異性が証明される。
例 ６
別の分類に属するＵＶ吸収剤ン用いた以外は例１及び２
と同じ被扱溶液ヶ調製した。例１及び２の溶液にはベン
ゾフェノン誘導体２含ませたか、本例のＮ４ ’Ｑには
チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ”）） ３２８〔チパガイギ
ー＝社（Ｏｌｂａ−Ｇｅｉｇｙ ） ｐのベンゾトリア
ゾール誘導体〕を含まぜた。
と同じ被扱溶液ヶ調製した。例１及び２の溶液にはベン
ゾフェノン誘導体２含ませたか、本例のＮ４ ’Ｑには
チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ”）） ３２８〔チパガイギ
ー＝社（Ｏｌｂａ−Ｇｅｉｇｙ ） ｐのベンゾトリア
ゾール誘導体〕を含まぜた。
ブタンジオールのジグリシジルエーテル −一−３６，
３リモネンモノオキシド １９．６ −−トリアリール
スルホニウムへキザフルオロアン ４．２ ４．０チモ
ネート チヌビン３２８ ５．０ ５．０ ＦＣ−４３００，２０，２ ＪＪ−７２２シリコーン ０．４ ０．２１０１Ｊ、Ｏ
，？ １００．Ｌｌ、？ １６ろＲＤＳ兇装用バーケ用い、光沢焼付処理Ｚ施した
カラー写真に上記の溶ｇ、を塗布した。被覆ずみの写真
に対し、９インチの距離から中圧紫外灯（２００ワツｌ
−７インチ）で約２０秒照射を施して塗膜７鋏化させた
。１夜エージングしプこ後、被覆ずみの写真乞検査した
ところ、溶液Ｂ′で＃Ｌ、覆さ肚だ写真は、無数の「吸
収剤ブルーム」乞示し、被覆表面に１色のほこりのよう
な皮膜か被４負面ｒｔｃ不規則に沈積していた。これに
対し、溶液Ａ′で被覆された写真の方は、透明で光沢の
ある表面を保っていた。
３リモネンモノオキシド １９．６ −−トリアリール
スルホニウムへキザフルオロアン ４．２ ４．０チモ
ネート チヌビン３２８ ５．０ ５．０ ＦＣ−４３００，２０，２ ＪＪ−７２２シリコーン ０．４ ０．２１０１Ｊ、Ｏ
，？ １００．Ｌｌ、？ １６ろＲＤＳ兇装用バーケ用い、光沢焼付処理Ｚ施した
カラー写真に上記の溶ｇ、を塗布した。被覆ずみの写真
に対し、９インチの距離から中圧紫外灯（２００ワツｌ
−７インチ）で約２０秒照射を施して塗膜７鋏化させた
。１夜エージングしプこ後、被覆ずみの写真乞検査した
ところ、溶液Ｂ′で＃Ｌ、覆さ肚だ写真は、無数の「吸
収剤ブルーム」乞示し、被覆表面に１色のほこりのよう
な皮膜か被４負面ｒｔｃ不規則に沈積していた。これに
対し、溶液Ａ′で被覆された写真の方は、透明で光沢の
ある表面を保っていた。
代理人 浅 村 皓
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）（ｉ）６０重量％を超えるエポキシ末端停止シラ
ン、 （ｉｉ）１５〜６０重量％のリモネンモノオキシド、及
び （石） リモネンモノオキシド以外の、エポキシ基と共
重合しうる１０重量％未満の物質 の反応生成物を含むことを特徴とする耐摩耗撥水性皮膜
。 （２）２〜２０重量％の紫外線吸収剤乞食む特許請求の
範囲（１）の皮膜。 （３）紫外線吸収剤がベンゾフェノン及びベンゾトリア
ゾールからなる群から選ばれたものである特許請求の範
囲（２）の皮膜。 （４） エポキシ末端停止シランが、式％式％ （式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキルであり、ｍ及びｎ
は独立に１〜６である）２有している特許請求の範囲（
１）の皮膜。 （５）３〜１０重量％の紫外線吸収剤を含む特許請求の
範囲（４）の皮膜。 （６）紫外線吸収剤がベンゾフェノン及びベンゾトリア
ゾールからなる群から選ばれたものである特許請求の範
囲（４）の皮膜。 （７１現像された写真映像の表面に付着させた特許請求
の範囲（１１〜（６）のいずれか１項の皮膜。 （８） ０．０５〜１．５重量％の減摩剤７含んでいる
特許請求の範囲（７）の皮膜。 （９） リモネンモノオキシド以外にはエポキシ基と共
重合しうる物質を含んでいない特許請求の範囲（１）〜
（６）のいずれか１項の皮膜。 （１０） 少なくとも６０重量％のエポキシ末端停止シ
ラン、１５〜６０重量％のリモネンモノオキシド、エボ
キシ基と共重合しうる１０Ｎ量％未満のリモネンモノオ
キシド以外の物質、エボキシ基とシラン基とを共に硬化
しうる１〜１０重量％の潜在的触媒、及び２〜２０重量
％の紫外線吸収物質を含んでいることを特徴とする重合
性液体組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/496,572 US4497861A (en) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | Water-repellent, abrasion resistant coatings |
| US496572 | 1983-05-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS604568A true JPS604568A (ja) | 1985-01-11 |
| JPH0611875B2 JPH0611875B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=23973228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59100346A Expired - Lifetime JPH0611875B2 (ja) | 1983-05-20 | 1984-05-18 | 耐摩耗撥水性皮膜 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4497861A (ja) |
| EP (1) | EP0127813B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0611875B2 (ja) |
| AU (1) | AU559197B2 (ja) |
| BR (1) | BR8402377A (ja) |
| CA (1) | CA1220595A (ja) |
| DE (1) | DE3470348D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999042513A1 (fr) * | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Kao Corporation | Procede de production de polyether |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4587169A (en) * | 1984-08-17 | 1986-05-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
| JPS6274959A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-06 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 硬化性組成物 |
| US5073583A (en) * | 1988-06-06 | 1991-12-17 | Dow Corning Corporation | Organosiloxane elastomers exhibiting improved physical properties |
| US5221560A (en) * | 1989-02-17 | 1993-06-22 | Swedlow, Inc. | Radiation-curable coating compositions that form transparent, abrasion resistant tintable coatings |
| US5137758A (en) * | 1991-03-27 | 1992-08-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Apparatus and method for coating flexible sheets while inhibiting curl |
| US5354379A (en) * | 1993-02-08 | 1994-10-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Apparatus for applying a protective coating to a film strip |
| WO2005103172A2 (en) * | 2004-04-15 | 2005-11-03 | Avery Dennison Corporation | Dew resistant coatings |
| US7776960B2 (en) | 2006-11-29 | 2010-08-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Epoxy functional polymers comprising the reaction product of terpene and an epoxy functional monomer and coatings comprising such polymers |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4049861A (en) * | 1975-03-07 | 1977-09-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
| US4069368A (en) * | 1976-10-01 | 1978-01-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Workable and curable epoxy-terminated silane films |
| US4156046A (en) * | 1977-03-28 | 1979-05-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings |
| CA1109589A (en) * | 1977-03-28 | 1981-09-22 | Larry A. Lien | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings |
| US4293606A (en) * | 1978-03-13 | 1981-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Low friction, abrasion resistant coating for transparent film |
-
1983
- 1983-05-20 US US06/496,572 patent/US4497861A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-04-30 CA CA000453088A patent/CA1220595A/en not_active Expired
- 1984-05-15 DE DE8484105528T patent/DE3470348D1/de not_active Expired
- 1984-05-15 EP EP84105528A patent/EP0127813B1/en not_active Expired
- 1984-05-18 BR BR8402377A patent/BR8402377A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-05-18 JP JP59100346A patent/JPH0611875B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1984-05-18 AU AU28362/84A patent/AU559197B2/en not_active Ceased
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999042513A1 (fr) * | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Kao Corporation | Procede de production de polyether |
| US6417323B1 (en) | 1998-02-20 | 2002-07-09 | Kao Corporation | Process for producing polyether |
| US6800723B2 (en) | 1998-02-20 | 2004-10-05 | Kao Corporation | Process for producing polyether |
| US6906167B2 (en) | 1998-02-20 | 2005-06-14 | Kao Corporation | Process for producing polyether |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1220595A (en) | 1987-04-14 |
| AU2836284A (en) | 1984-11-22 |
| US4497861A (en) | 1985-02-05 |
| EP0127813B1 (en) | 1988-04-06 |
| DE3470348D1 (en) | 1988-05-11 |
| EP0127813A1 (en) | 1984-12-12 |
| AU559197B2 (en) | 1987-02-26 |
| BR8402377A (pt) | 1984-12-26 |
| JPH0611875B2 (ja) | 1994-02-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4156046A (en) | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings | |
| JP4124505B2 (ja) | 耐湿性を有する改良シリル化紫外線吸収剤 | |
| CA1098246A (en) | Cured abrasion resistant coatings of epoxy-silanes | |
| SE443792B (sv) | Sett att kondensera en hydrolyserbar silan samt silankomposition innehallande en oniumkatalysator for anvendning dervid | |
| JP4190585B2 (ja) | 架橋性官能基含有ポリオルガノシロキサンを基剤とする安定な組成物及び抗付着性コーティングの製造のためのその使用 | |
| KR100337685B1 (ko) | 활성에너지선-경화성수지조성물 | |
| TW585891B (en) | Scratch-resistant coating | |
| CN102803274A (zh) | 硅烷偶联剂、负型感光性树脂组合物、固化膜、及触控面板用构件 | |
| EP2738188A1 (en) | Monolayer film and hydrophilic material comprising same | |
| JPS59202264A (ja) | 紫外線開始カチオン硬化性液体被覆組成物 | |
| JPS58180564A (ja) | 帯電防止組成物およびそれを原料としたシ−ト物質 | |
| JPS604568A (ja) | 耐摩耗撥水性皮膜 | |
| US4587169A (en) | Abrasion resistant coatings | |
| JP3280637B2 (ja) | 環状ジオン重合体 | |
| US4619949A (en) | Abrasion resistant coatings | |
| JP2003515617A (ja) | 架橋性官能基を有するポリオルガノシロキサンの重合用及び／又は架橋用開始剤、相当する組成物及びそれらの使用 | |
| JPS6365115B2 (ja) | ||
| JP4608621B2 (ja) | （メタ）アクリルアミド及びこれを含んでなる光重合性組成物 | |
| JP2001270990A (ja) | 光活性オニウム塩を配合した硬化性シリコーン組成物 | |
| US4082896A (en) | Abrasion resistant coatings | |
| JPS6079071A (ja) | 保護コ−テイング剤 | |
| CN105885871A (zh) | 一种聚合性液晶组合物 | |
| GB1596234A (en) | Ultraviolet radiation protective abrasion resistant bloom resistant coatings | |
| US5739174A (en) | Epoxysilicone photocurable composition comprising a sulfolene or isatin photosensitizer | |
| JPH02289801A (ja) | ハードコーティング剤及びプラスチック製光学製品 |