JP2775575B2 - ラスター釉 - Google Patents
ラスター釉Info
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- JP2775575B2 JP2775575B2 JP5224016A JP22401693A JP2775575B2 JP 2775575 B2 JP2775575 B2 JP 2775575B2 JP 5224016 A JP5224016 A JP 5224016A JP 22401693 A JP22401693 A JP 22401693A JP 2775575 B2 JP2775575 B2 JP 2775575B2
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- Japan
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- glaze
- raster
- baking
- firing
- temperature
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00241—Physical properties of the materials not provided for elsewhere in C04B2111/00
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、通常の施釉と同じく本
焼工程によってタイル等にラスター光沢を付与すること
の可能なラスター釉に関する。
焼工程によってタイル等にラスター光沢を付与すること
の可能なラスター釉に関する。
【０００２】
【従来の技術】タイル等の陶磁器質の素地表面に金属光
沢あるいは真珠光沢を発するラスター光沢を付与するに
は、従来、次のような手段が採られている。すなわち、
素焼きして焼き固めた素地の表面に釉材料を塗布し、こ
れを本焼きして素地表面に基礎釉を設けたのち、当該基
礎釉の上に金属化合物を含有する絵具を塗り重ね、さら
に焼成してこの絵具を焼き付けることにより、ラスター
光沢を発する金属又は金属化合物粒子の薄い層から成る
ラスター光沢層を形成するという手段である。
沢あるいは真珠光沢を発するラスター光沢を付与するに
は、従来、次のような手段が採られている。すなわち、
素焼きして焼き固めた素地の表面に釉材料を塗布し、こ
れを本焼きして素地表面に基礎釉を設けたのち、当該基
礎釉の上に金属化合物を含有する絵具を塗り重ね、さら
に焼成してこの絵具を焼き付けることにより、ラスター
光沢を発する金属又は金属化合物粒子の薄い層から成る
ラスター光沢層を形成するという手段である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、タイ
ル等にラスター光沢を付与するには、従来、素焼き、本
焼き及び絵具焼付の３回の焼成を行うことを必要として
いた。これは、素地に基礎釉を焼き付けるための本焼き
温度が比較的高い１０００〜１２００°Ｃであるのに対
し、金属化合物を含有する絵具を焼き付けて美麗なラス
ター光沢を発揮させるのに適した焼成温度は７００〜９
００°Ｃ程度の比較的低温であるため、基礎釉の焼き付
け（本焼）後に改めて低温焼成を行うという手順を取ら
ざるを得なかったからである。
ル等にラスター光沢を付与するには、従来、素焼き、本
焼き及び絵具焼付の３回の焼成を行うことを必要として
いた。これは、素地に基礎釉を焼き付けるための本焼き
温度が比較的高い１０００〜１２００°Ｃであるのに対
し、金属化合物を含有する絵具を焼き付けて美麗なラス
ター光沢を発揮させるのに適した焼成温度は７００〜９
００°Ｃ程度の比較的低温であるため、基礎釉の焼き付
け（本焼）後に改めて低温焼成を行うという手順を取ら
ざるを得なかったからである。
【０００４】また素地の種類や製造条件によっては素焼
きを省略できる場合もあるが、この場合でも、基礎釉を
形成するための本焼と絵具焼付との２回焼成が少なくと
も必要である。
きを省略できる場合もあるが、この場合でも、基礎釉を
形成するための本焼と絵具焼付との２回焼成が少なくと
も必要である。
【０００５】このように、いずれの場合においても、ラ
スター光沢層をタイル等に形成するには、従来、本焼き
後に改めて低温焼成によりラスター絵具を焼き付けると
いう手法を採らねばならず、それ故、工程数が多いため
非常に手間がかかるだけでなく、製造ラインもその分だ
け余分に必要となり、生産性がきわめて悪いものであっ
た。
スター光沢層をタイル等に形成するには、従来、本焼き
後に改めて低温焼成によりラスター絵具を焼き付けると
いう手法を採らねばならず、それ故、工程数が多いため
非常に手間がかかるだけでなく、製造ラインもその分だ
け余分に必要となり、生産性がきわめて悪いものであっ
た。
【０００６】また、前記のようにして製造されたラスタ
ー光沢層を有する従来製品は、絵具の焼付温度が比較的
低温であるため一般の釉薬に比べるとラスター光沢層の
付着強度が小さいこと及び絵具の焼き付けにより形成さ
れるラスター光沢層の厚みが薄いことが相俟って、耐候
性に劣るため上記ラスター光沢層が剥離するおそれがあ
るという問題があり、とりわけ外装用材料として使用す
ることは非常に難しかった。
ー光沢層を有する従来製品は、絵具の焼付温度が比較的
低温であるため一般の釉薬に比べるとラスター光沢層の
付着強度が小さいこと及び絵具の焼き付けにより形成さ
れるラスター光沢層の厚みが薄いことが相俟って、耐候
性に劣るため上記ラスター光沢層が剥離するおそれがあ
るという問題があり、とりわけ外装用材料として使用す
ることは非常に難しかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明が上記課題に鑑み
これを解決するために創案したラスター釉の特徴とする
ところは、耐火度が素地の本焼温度よりも低い温度に調
整された釉薬原料に、６重量％以上の酸化ニオブ又は６
重量％以上の塩化ジルコニウムを配合したことである。
これを解決するために創案したラスター釉の特徴とする
ところは、耐火度が素地の本焼温度よりも低い温度に調
整された釉薬原料に、６重量％以上の酸化ニオブ又は６
重量％以上の塩化ジルコニウムを配合したことである。
【０００８】
【作用】本発明において採用する酸化ニオブ又は塩化ジ
ルコニウムを配合したラスター釉は、これを素地表面に
塗布して通常の施釉時と同様の本焼温度（約１０００〜
１２００°Ｃ）で焼成すると、主成分の釉薬原料は溶融
して、一部は素地表面から内側へ浸透し残りの大部分は
素地表面にとどまり、従来と比べて全く遜色のない優れ
た付着強度を有する釉薬層を形成する。酸化ニオブ又は
塩化ジルコニウムは、この釉薬層中において溶融せずに
発色し、金属光沢を素地表面に付与する。
ルコニウムを配合したラスター釉は、これを素地表面に
塗布して通常の施釉時と同様の本焼温度（約１０００〜
１２００°Ｃ）で焼成すると、主成分の釉薬原料は溶融
して、一部は素地表面から内側へ浸透し残りの大部分は
素地表面にとどまり、従来と比べて全く遜色のない優れ
た付着強度を有する釉薬層を形成する。酸化ニオブ又は
塩化ジルコニウムは、この釉薬層中において溶融せずに
発色し、金属光沢を素地表面に付与する。
【０００９】通常、酸化ニオブ，塩化ジルコニウム共、
銀色の光沢を呈する。但し、光沢の色調は、顔料等の添
加により変更可能である。
銀色の光沢を呈する。但し、光沢の色調は、顔料等の添
加により変更可能である。
【００１０】なお、釉薬原料に配合する酸化ニオブ又は
塩化ジルコニウムの量が６重量％に満たない場合には、
所要のラスター光沢を得ることができなくなる。好適な
ラスター光沢を得るための酸化ニオブ又は塩化ジルコニ
ウムの配合量は１０重量％以上である。
塩化ジルコニウムの量が６重量％に満たない場合には、
所要のラスター光沢を得ることができなくなる。好適な
ラスター光沢を得るための酸化ニオブ又は塩化ジルコニ
ウムの配合量は１０重量％以上である。
【００１１】
【実施例】本発明に係るラスター釉の構成の一例を挙げ
ると、次のとおりである。主成分である釉薬原料は、長
石、珪砂及び少量の粘土を用いて調整され、その耐火度
が素地の本焼温度よりも若干低くなるように設定され
る。耐火度の変更は長石の配合量を変えることで可能で
あり、通常、長石の分量を増大させれば、耐火度を低く
することができる。また素地の本焼温度は、素地の種類
に応じて決められる。
ると、次のとおりである。主成分である釉薬原料は、長
石、珪砂及び少量の粘土を用いて調整され、その耐火度
が素地の本焼温度よりも若干低くなるように設定され
る。耐火度の変更は長石の配合量を変えることで可能で
あり、通常、長石の分量を増大させれば、耐火度を低く
することができる。また素地の本焼温度は、素地の種類
に応じて決められる。
【００１２】次に、こうして調整した釉薬原料に酸化ニ
オブ又は塩化ジルコニウムを配合する。配合量は、最低
６重量％以上で、好ましくは１０重量％以上である。必
要に応じ顔料を添加して色調を所望のものに整えてもよ
い。
オブ又は塩化ジルコニウムを配合する。配合量は、最低
６重量％以上で、好ましくは１０重量％以上である。必
要に応じ顔料を添加して色調を所望のものに整えてもよ
い。
【００１３】しかるのち、これらを充分に混練し、粒度
調節を施し、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）等
を用いて粘度調整し（約２００ｃｐに合わせる）、目的
とするラスター釉を得る。
調節を施し、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）等
を用いて粘度調整し（約２００ｃｐに合わせる）、目的
とするラスター釉を得る。
【００１４】このようにして得られたラスター釉を、素
焼きしたタイル又は生素地表面へ塗布し、適当に乾燥さ
せたのち、１０００〜１２００°Ｃの温度で本焼成すれ
ば、表面に、銀色その他の色調の金属光沢を発するラス
ター光沢が付与されたタイル等の陶磁器質製品を得るこ
とができる。
焼きしたタイル又は生素地表面へ塗布し、適当に乾燥さ
せたのち、１０００〜１２００°Ｃの温度で本焼成すれ
ば、表面に、銀色その他の色調の金属光沢を発するラス
ター光沢が付与されたタイル等の陶磁器質製品を得るこ
とができる。
【００１５】なお、ラスター釉の塗布は、素地の全表面
であってもよく、部分的な模様付けや絵柄付けであって
もよい。
であってもよく、部分的な模様付けや絵柄付けであって
もよい。
【００１６】また、釉薬原料に酸化ニオブを配合する場
合は、従来の施釉設備をほぼそのまま利用することがで
きるが、塩化ジルコニウムを配合する場合にはｐＨ調節
を行うことが必要になるので、そのための設備を別途設
けることが望ましい。
合は、従来の施釉設備をほぼそのまま利用することがで
きるが、塩化ジルコニウムを配合する場合にはｐＨ調節
を行うことが必要になるので、そのための設備を別途設
けることが望ましい。
【００１７】その他、本発明は、実施の態様に応じた適
宜の変更を妨げるものではない。
宜の変更を妨げるものではない。
【００１８】
【発明の効果】本発明に係るラスター釉によれば、素焼
きした又は素焼きを省略した素地の表面に施釉したの
ち、これを本焼するだけで、ラスター光沢を有する陶磁
器質製品が得られるから、焼成工程の回数は、通常の施
釉製品を製造する場合と全く同じでよい。従って、本焼
後に絵具の焼き付け工程を必要としていた従来と比べ
て、焼成回数が少なくなり、また絵具の焼付工程のため
の余分な設備が不要となるから、ラスター光沢を有する
製品の生産性が格段に向上する。
きした又は素焼きを省略した素地の表面に施釉したの
ち、これを本焼するだけで、ラスター光沢を有する陶磁
器質製品が得られるから、焼成工程の回数は、通常の施
釉製品を製造する場合と全く同じでよい。従って、本焼
後に絵具の焼き付け工程を必要としていた従来と比べ
て、焼成回数が少なくなり、また絵具の焼付工程のため
の余分な設備が不要となるから、ラスター光沢を有する
製品の生産性が格段に向上する。
フロントページの続き (72)発明者 福島 智子 愛知県常滑市鯉江本町５丁目１番地 株 式会社イナックス内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C04B 41/86
Claims (2)
- 【請求項１】 耐火度が素地の本焼温度よりも低い温度
に調整された釉薬原料に６重量％以上の酸化ニオブを配
合したことを特徴とするラスター釉。 - 【請求項２】 耐火度が素地の本焼温度よりも低い温度
に調整された釉薬原料に６重量％以上の塩化ジルコニウ
ムを配合したことを特徴とするラスター釉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5224016A JP2775575B2 (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | ラスター釉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5224016A JP2775575B2 (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | ラスター釉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0733557A JPH0733557A (ja) | 1995-02-03 |
| JP2775575B2 true JP2775575B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=16807270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5224016A Expired - Lifetime JP2775575B2 (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | ラスター釉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2775575B2 (ja) |
-
1993
- 1993-07-15 JP JP5224016A patent/JP2775575B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0733557A (ja) | 1995-02-03 |
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