JP2768609B2 - オキシムシランの連続製造方法 - Google Patents
オキシムシランの連続製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はオキシムシランの製造方
法、特には爆発性のあるオキシム塩酸塩の発生を防止し
て、容易に、かつ安全にオキシムシランを製造する方法
に関するものである。
法、特には爆発性のあるオキシム塩酸塩の発生を防止し
て、容易に、かつ安全にオキシムシランを製造する方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オキシムシランの製造は、従来メチルト
リクロロシランなどの塩化シランと化学量論上当量のオ
キシム化合物、例えばメチルエチルケトオキシムとを、
反応時に副生する塩酸の受容体としての化学量論上当量
の有機塩基、例えばピリジンの存在下に反応させること
によって行なわれている（特公昭３９−２９８３７号公
報参照）。
リクロロシランなどの塩化シランと化学量論上当量のオ
キシム化合物、例えばメチルエチルケトオキシムとを、
反応時に副生する塩酸の受容体としての化学量論上当量
の有機塩基、例えばピリジンの存在下に反応させること
によって行なわれている（特公昭３９−２９８３７号公
報参照）。
【０００３】また、このオキシムシランの製造について
は、塩化シランと化学量論的に２倍当量のオキシム化合
物と反応させることも知られており（特公平１−２１８
３４号公報参照）、この場合には過剰のオキシム化合物
が反応時に副生する塩酸の受容体として作動するものと
されている。
は、塩化シランと化学量論的に２倍当量のオキシム化合
物と反応させることも知られており（特公平１−２１８
３４号公報参照）、この場合には過剰のオキシム化合物
が反応時に副生する塩酸の受容体として作動するものと
されている。
【０００４】さらにこのオキシムシランの製造について
は、塩化シランと化学量論上当量のオキシム化合物とを
反応させる際に、塩酸の受容体としてのアンモニアを化
学量論的に１．０４〜１．４６倍量吹き込んでオキシム
シランを連続的に製造する方法も提案されている（特開
昭６３−２２７５９２号公報参照）。
は、塩化シランと化学量論上当量のオキシム化合物とを
反応させる際に、塩酸の受容体としてのアンモニアを化
学量論的に１．０４〜１．４６倍量吹き込んでオキシム
シランを連続的に製造する方法も提案されている（特開
昭６３−２２７５９２号公報参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、塩化シランと
オキシム化合物を反応させる場合に副生する塩酸をピリ
ジンなどの有機塩基で受容すると、生成物をこの有機塩
基塩酸塩から蒸留分離する際に時々爆発を伴なう危険性
がある。この塩酸を過剰のオキシム化合物で受容する方
法には爆発性のあるオキシム塩酸塩が生成するし、オキ
シム化合物が高価なものであるためにオキシム塩酸塩か
らオキシム化合物を回収精製する設備が必要とされると
いう欠点があり、さらにこの塩酸をアンモニアで受容す
る方法については沸点が６０℃以下の非引火性のペルク
ロルフッ素化アルカン類特にトリクロロトリフルオロエ
タン類、より詳細には１，１，２−トリクロル−１，
２，２−トルフルオロエタンなどの塩素系溶剤を使用す
る必要があるために、工業的には塩素系溶剤の使用規制
があり、その使用が難しいという問題点があるし、これ
らの方法はいずれもその収率が低いという不利がある。
オキシム化合物を反応させる場合に副生する塩酸をピリ
ジンなどの有機塩基で受容すると、生成物をこの有機塩
基塩酸塩から蒸留分離する際に時々爆発を伴なう危険性
がある。この塩酸を過剰のオキシム化合物で受容する方
法には爆発性のあるオキシム塩酸塩が生成するし、オキ
シム化合物が高価なものであるためにオキシム塩酸塩か
らオキシム化合物を回収精製する設備が必要とされると
いう欠点があり、さらにこの塩酸をアンモニアで受容す
る方法については沸点が６０℃以下の非引火性のペルク
ロルフッ素化アルカン類特にトリクロロトリフルオロエ
タン類、より詳細には１，１，２−トリクロル−１，
２，２−トルフルオロエタンなどの塩素系溶剤を使用す
る必要があるために、工業的には塩素系溶剤の使用規制
があり、その使用が難しいという問題点があるし、これ
らの方法はいずれもその収率が低いという不利がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利，欠点を解決したオキシムシランの連続製造方法に関
するもので、これは一般式Ｒ1 4-nＳｉＸn （ここにＲ1
は非置換または置換の１価炭化水素基、Ｘはハロゲン原
子、ｎは１〜４の整数）で示されるハロゲン化シラン
と、このハロゲン化シラン１モルに対し１．５５ｎ〜
２．１０ｎモル量のアンモニア及びこのハロゲン化シラ
ンに対し１〜２０倍重量の有機溶剤を第１反応器の下方
に連続的にかつ同時に注入し、（ｂ）第１反応器上方よ
り連続的に流出する反応物を第２反応器に送ると同時
に、ハロゲン化シラン１モルに対し１．０ｎ〜１．１ｎ
モル量の一般式Ｒ2 Ｒ3 Ｃ＝Ｎ−ＯＨ（ここにＲ2 ，Ｒ
3 は水素原子あるいは非置換または置換の１価炭化水素
基）で示されるオキシム化合物を第２反応器に連続的に
注入し、（ｃ）連続的に第２反応器下方より流出する反
応生成物をスラリ−タンクにおくり、（ｄ）反応生成物
より副生したＮＨ4 Ｘの沈殿物を除去すると共に有機液
相を蒸留して、オキシムシランを回収することを特徴と
するものである。
利，欠点を解決したオキシムシランの連続製造方法に関
するもので、これは一般式Ｒ1 4-nＳｉＸn （ここにＲ1
は非置換または置換の１価炭化水素基、Ｘはハロゲン原
子、ｎは１〜４の整数）で示されるハロゲン化シラン
と、このハロゲン化シラン１モルに対し１．５５ｎ〜
２．１０ｎモル量のアンモニア及びこのハロゲン化シラ
ンに対し１〜２０倍重量の有機溶剤を第１反応器の下方
に連続的にかつ同時に注入し、（ｂ）第１反応器上方よ
り連続的に流出する反応物を第２反応器に送ると同時
に、ハロゲン化シラン１モルに対し１．０ｎ〜１．１ｎ
モル量の一般式Ｒ2 Ｒ3 Ｃ＝Ｎ−ＯＨ（ここにＲ2 ，Ｒ
3 は水素原子あるいは非置換または置換の１価炭化水素
基）で示されるオキシム化合物を第２反応器に連続的に
注入し、（ｃ）連続的に第２反応器下方より流出する反
応生成物をスラリ−タンクにおくり、（ｄ）反応生成物
より副生したＮＨ4 Ｘの沈殿物を除去すると共に有機液
相を蒸留して、オキシムシランを回収することを特徴と
するものである。
【０００７】すなわち、本発明者らはオキシムシランを
爆発の危険性なしに、安全に、かつ高収率で得る方法に
ついて種々検討した結果、これについては、始発剤とし
て安価なメチルトリクロロシランなどのハロゲン化シラ
ンを使用し、これをすぐにオキシム化合物と反応させ
ず、このハロゲン化シランをアンモニアと連続的に反応
させたのち、別の反応器で、この反応物をオキシム化合
物と連続的に反応させれば、容易にしかも何の危険性も
なく着色のないオキシムシランを得ることができるし、
収率も８５％以上の高いものとすることができることを
見出し、この反応方法などについての研究を進めて本発
明を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。
爆発の危険性なしに、安全に、かつ高収率で得る方法に
ついて種々検討した結果、これについては、始発剤とし
て安価なメチルトリクロロシランなどのハロゲン化シラ
ンを使用し、これをすぐにオキシム化合物と反応させ
ず、このハロゲン化シランをアンモニアと連続的に反応
させたのち、別の反応器で、この反応物をオキシム化合
物と連続的に反応させれば、容易にしかも何の危険性も
なく着色のないオキシムシランを得ることができるし、
収率も８５％以上の高いものとすることができることを
見出し、この反応方法などについての研究を進めて本発
明を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。
【０００８】
【作用】本発明はオキシムシランの連続的製造方法に関
するものであり、これはハロゲン化シランを有機溶剤下
でアンモニアと連続的に反応させ、別の反応器でこの反
応物をオキシム化合物と連続的に反応させてオキシムシ
ランを製造するものである。
するものであり、これはハロゲン化シランを有機溶剤下
でアンモニアと連続的に反応させ、別の反応器でこの反
応物をオキシム化合物と連続的に反応させてオキシムシ
ランを製造するものである。
【０００９】本発明の方法で始発材とされるハロゲン化
シランは一般式Ｒ1 4-nＳｉＸn で示され、Ｒ1 はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基などのアルケニル基、フェニ
ル基、トリル基などのアリール基、またはこれらの基の
炭素原子に結合した水素原子の一部または全部をハロゲ
ン原子などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプ
ロピル基などから選択される非置換または置換の１価炭
化水素、Ｘは塩素、フッ素などのハロゲン原子、ｎは１
〜４の整数とされるもので、これにはテトラクロルシラ
ン、トリメチルクロルシラン、ジメチルジクロルシラ
ン、メチルトリクロルシラン、メチルエチルジクロルシ
ラン、エチルトリクロルシラン、ジエチルジクロルシラ
ン、トリエチルクロルシラン、ｎ−プロピルトリクロル
シラン、イソプロピルトリクロルシラン、２−クロル−
エチルトリクロルシラン、３−クロルプロピルトリクロ
ルシラン、トリエチルクロルシラン、ビニルトリクロル
シラン、ビニルメチルジクロルシラン、プロペニルトリ
クロルシラン、アリルトリクロルシラン、フェニルトリ
クロルシラン及びベンジルトリクロルシランなどが例示
されるが、好ましくはＲ1 がメチル基、エチル基、ビニ
ル基であるトリクロル化合物とすることがよい。
シランは一般式Ｒ1 4-nＳｉＸn で示され、Ｒ1 はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基などのアルケニル基、フェニ
ル基、トリル基などのアリール基、またはこれらの基の
炭素原子に結合した水素原子の一部または全部をハロゲ
ン原子などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプ
ロピル基などから選択される非置換または置換の１価炭
化水素、Ｘは塩素、フッ素などのハロゲン原子、ｎは１
〜４の整数とされるもので、これにはテトラクロルシラ
ン、トリメチルクロルシラン、ジメチルジクロルシラ
ン、メチルトリクロルシラン、メチルエチルジクロルシ
ラン、エチルトリクロルシラン、ジエチルジクロルシラ
ン、トリエチルクロルシラン、ｎ−プロピルトリクロル
シラン、イソプロピルトリクロルシラン、２−クロル−
エチルトリクロルシラン、３−クロルプロピルトリクロ
ルシラン、トリエチルクロルシラン、ビニルトリクロル
シラン、ビニルメチルジクロルシラン、プロペニルトリ
クロルシラン、アリルトリクロルシラン、フェニルトリ
クロルシラン及びベンジルトリクロルシランなどが例示
されるが、好ましくはＲ1 がメチル基、エチル基、ビニ
ル基であるトリクロル化合物とすることがよい。
【００１０】このハロゲン化シランは有機溶剤下でアン
モニアガスと反応させるとＳｉ−ＸがＳｉ−ＮＨ2 また
はＳｉ−ＮＨ−Ｓｉに置換される（第１反応）。またＮ
Ｈ4Ｘも同時に副生する。ここに使用されるアンモニア
の量は、ハロゲン化シラン１モルに対し１．５５ｎモル
未満では未反応となり易く、２．１０ｎより多くすると
大過剰となるので、１．５５ｎ〜２．１０ｎモルの範囲
とすることがよく、より好ましくは１．６０ｎ〜１．９
５ｎモルとされる。なお、後記の第２反応で発生したア
ンモニアガスを第１反応で使用される有機溶剤に前もっ
て吸収させておくことにより、アンモニアガスの量をハ
ロゲン化シラン１モルに対し１．１０ｎ〜１．４５ｎモ
ル量にすることができる。
モニアガスと反応させるとＳｉ−ＸがＳｉ−ＮＨ2 また
はＳｉ−ＮＨ−Ｓｉに置換される（第１反応）。またＮ
Ｈ4Ｘも同時に副生する。ここに使用されるアンモニア
の量は、ハロゲン化シラン１モルに対し１．５５ｎモル
未満では未反応となり易く、２．１０ｎより多くすると
大過剰となるので、１．５５ｎ〜２．１０ｎモルの範囲
とすることがよく、より好ましくは１．６０ｎ〜１．９
５ｎモルとされる。なお、後記の第２反応で発生したア
ンモニアガスを第１反応で使用される有機溶剤に前もっ
て吸収させておくことにより、アンモニアガスの量をハ
ロゲン化シラン１モルに対し１．１０ｎ〜１．４５ｎモ
ル量にすることができる。
【００１１】また、この第１反応では反応混合物の粘度
を低下させ、反応性を向上させるため及び後記するオキ
シム化合物との反応後におけるハロゲン化アンモニウム
塩とオキシムシランとの分離を容易にするために、トル
エン、ヘキサン、石油エーテルなどのような有機溶剤の
存在下で行う。この配合量はハロゲン化シランに対し１
〜２０倍重量、好ましくは２〜１０倍重量とすることが
よい。
を低下させ、反応性を向上させるため及び後記するオキ
シム化合物との反応後におけるハロゲン化アンモニウム
塩とオキシムシランとの分離を容易にするために、トル
エン、ヘキサン、石油エーテルなどのような有機溶剤の
存在下で行う。この配合量はハロゲン化シランに対し１
〜２０倍重量、好ましくは２〜１０倍重量とすることが
よい。
【００１２】この第１反応における反応温度は限界的で
はなく、室温またはそれ以下の温度でも進行し、温度の
上昇と共に反応速度は増大するが、着色体の形成も若干
増加するので、この温度は０〜１００℃、好ましくは２
５〜７０℃とされる。なお、この第１反応は発熱反応で
あるため、第１反応器は、撹拌機を装着した縦型のもの
でジャケットなどによる冷却構造をもったものとするこ
とがよい。第１反応の滞留時間は、３０秒〜１０分、好
ましくは１〜５分の範囲とすればよい。
はなく、室温またはそれ以下の温度でも進行し、温度の
上昇と共に反応速度は増大するが、着色体の形成も若干
増加するので、この温度は０〜１００℃、好ましくは２
５〜７０℃とされる。なお、この第１反応は発熱反応で
あるため、第１反応器は、撹拌機を装着した縦型のもの
でジャケットなどによる冷却構造をもったものとするこ
とがよい。第１反応の滞留時間は、３０秒〜１０分、好
ましくは１〜５分の範囲とすればよい。
【００１３】この第１反応で得られた反応物はオキシム
化合物との反応によりオキシムシランとなるのである
が、ここに使用されるオキシム化合物は一般式Ｒ2 Ｒ3
Ｃ＝Ｎ−ＯＨで示され、このＲ2 ，Ｒ3 が水素原子ある
いは前記したＲ1 と同じ非置換または置換１価炭化水素
基であるものとされるが、この炭化水素基としては特に
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ビニル基、ブテニル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、３−メチ
ル−１−シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、フェ
ニル基、トリル基などが例示される。
化合物との反応によりオキシムシランとなるのである
が、ここに使用されるオキシム化合物は一般式Ｒ2 Ｒ3
Ｃ＝Ｎ−ＯＨで示され、このＲ2 ，Ｒ3 が水素原子ある
いは前記したＲ1 と同じ非置換または置換１価炭化水素
基であるものとされるが、この炭化水素基としては特に
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ビニル基、ブテニル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、３−メチ
ル−１−シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、フェ
ニル基、トリル基などが例示される。
【００１４】このオキシム化合物としては４−メチルシ
クロヘキサノンオキシム、４−塩化シクロヘキサノンオ
キシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキ
シム、ベンジルエチルケトンオキシム、シクロヘキシル
メチルケトンオキシム及びベンズアルデヒドオキシムが
例示されるが、好ましいオキシム化合物としてはホルム
アルデヒドオキシム、アセトアルデヒドオキシム、アセ
トンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、ジエチル
ケトンオキシム及びシクロヘキサノンオキシムが挙げら
れ、さらに好ましいものとしてはメチルエチルケトンオ
キシム、アセトンオキシムが挙げられるが、このメチル
エチルケトンオキシムはシリコ−ン重合物の常温加硫剤
として用いられるオキシムシラン化合物に使用されるた
めに最も好適とされる。
クロヘキサノンオキシム、４−塩化シクロヘキサノンオ
キシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキ
シム、ベンジルエチルケトンオキシム、シクロヘキシル
メチルケトンオキシム及びベンズアルデヒドオキシムが
例示されるが、好ましいオキシム化合物としてはホルム
アルデヒドオキシム、アセトアルデヒドオキシム、アセ
トンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、ジエチル
ケトンオキシム及びシクロヘキサノンオキシムが挙げら
れ、さらに好ましいものとしてはメチルエチルケトンオ
キシム、アセトンオキシムが挙げられるが、このメチル
エチルケトンオキシムはシリコ−ン重合物の常温加硫剤
として用いられるオキシムシラン化合物に使用されるた
めに最も好適とされる。
【００１５】この第１反応で得られた反応物とオキシム
化合物とを反応させると、Ｓｉ−Ｎ＝がＳｉ−（ＯＮ＝
ＣＲ2 Ｒ3 ）に置換されて、オキシムシランとなり、こ
の時アンモニアガスが発生する（第２反応）。ここに使
用されるオキシム化合物の量はハロゲン化シラン１モル
に対して１．０ｎ〜１．１ｎモル倍の範囲、好ましくは
１．０１ｎ〜１．０６ｎモル倍の範囲とすればよい。こ
のオキシム化合物の添加は、第２反応器の中に液中滴下
すればよい。
化合物とを反応させると、Ｓｉ−Ｎ＝がＳｉ−（ＯＮ＝
ＣＲ2 Ｒ3 ）に置換されて、オキシムシランとなり、こ
の時アンモニアガスが発生する（第２反応）。ここに使
用されるオキシム化合物の量はハロゲン化シラン１モル
に対して１．０ｎ〜１．１ｎモル倍の範囲、好ましくは
１．０１ｎ〜１．０６ｎモル倍の範囲とすればよい。こ
のオキシム化合物の添加は、第２反応器の中に液中滴下
すればよい。
【００１６】第２反応器中で発生するアンモニアは、第
１反応で反応されなかった微量の未反応ハロゲン化物Ｓ
ｉ−Ｘのハロゲンの補足として用いられ、オキシムハロ
ゲン酸塩の生成を防止すると共に、Ｓｉ−Ｘに起因する
着色の防止を行う。第２反応器より系外に発生するアン
モニアガスは、第１反応器に入る前の有機溶剤に吸収さ
せて回収することが好ましい。
１反応で反応されなかった微量の未反応ハロゲン化物Ｓ
ｉ−Ｘのハロゲンの補足として用いられ、オキシムハロ
ゲン酸塩の生成を防止すると共に、Ｓｉ−Ｘに起因する
着色の防止を行う。第２反応器より系外に発生するアン
モニアガスは、第１反応器に入る前の有機溶剤に吸収さ
せて回収することが好ましい。
【００１７】この反応温度は限界的ではなく、これは室
温またはそれ以下でも進行するが、温度の上昇と共に反
応速度が増大するし、着色体の形成も若干増加するの
で、０〜１００℃の範囲とすればよいが、好ましくは２
５〜７５℃の範囲とすればよい。この反応は前記した第
１反応と違って殆んど発熱しないので、特に冷却する必
要はないが、この反応における反応時間（回分法の場
合）および滞留時間（連続法の場合）は一般に５分間〜
６０分間、好ましくは１０分〜４０分間とすればよく、
これはオキシム化合物、溶剤の種類および量、温度など
により実験的に定めればよい。
温またはそれ以下でも進行するが、温度の上昇と共に反
応速度が増大するし、着色体の形成も若干増加するの
で、０〜１００℃の範囲とすればよいが、好ましくは２
５〜７５℃の範囲とすればよい。この反応は前記した第
１反応と違って殆んど発熱しないので、特に冷却する必
要はないが、この反応における反応時間（回分法の場
合）および滞留時間（連続法の場合）は一般に５分間〜
６０分間、好ましくは１０分〜４０分間とすればよく、
これはオキシム化合物、溶剤の種類および量、温度など
により実験的に定めればよい。
【００１８】第１反応物とオキシム化合物との反応（第
２反応）により、オキシムシランが生成するが、この第
２反応物中に、ＮＨ4 Ｘで示されるハロゲン化アンモニ
ウムが沈殿物として副生されているので、このものは第
２反応物から濾過して分離する必要がある。濾過時、収
率を増加させるために有機溶剤によりケ−キ洗浄するこ
ともできる。また、この濾過後の液相は有機溶剤を含有
しているので、蒸留により有機溶剤を分離する必要があ
るが、オキシムシランは１００℃以上に加熱されると着
色が著しくなるので、減圧下、９０℃以下で分離するこ
とが好ましい。
２反応）により、オキシムシランが生成するが、この第
２反応物中に、ＮＨ4 Ｘで示されるハロゲン化アンモニ
ウムが沈殿物として副生されているので、このものは第
２反応物から濾過して分離する必要がある。濾過時、収
率を増加させるために有機溶剤によりケ−キ洗浄するこ
ともできる。また、この濾過後の液相は有機溶剤を含有
しているので、蒸留により有機溶剤を分離する必要があ
るが、オキシムシランは１００℃以上に加熱されると着
色が著しくなるので、減圧下、９０℃以下で分離するこ
とが好ましい。
【００１９】本発明の方法によるオキシムシランの製造
は、例えば、ハロゲン化シランとこのハロゲン化シラン
１モルに対し１．５５ｎ〜２．１０ｎモル量のアンモニ
アおよびハロゲン化シランに対し１〜２０倍重量の有機
溶剤とを第１反応器の下方に連続的に、かつ同時に注入
し反応させ、第１反応器上方よりこの第１反応物を第２
反応器に入れ、オキシム化合物をハロゲン化シラン１モ
ルに対し１．０ｎ〜１．１ｎモル量を連続添加し反応さ
せてオキシムシランとしたのち、副生したＮＨ4 Ｘをろ
別し、この液相を蒸留するという方法で行えばよい。
は、例えば、ハロゲン化シランとこのハロゲン化シラン
１モルに対し１．５５ｎ〜２．１０ｎモル量のアンモニ
アおよびハロゲン化シランに対し１〜２０倍重量の有機
溶剤とを第１反応器の下方に連続的に、かつ同時に注入
し反応させ、第１反応器上方よりこの第１反応物を第２
反応器に入れ、オキシム化合物をハロゲン化シラン１モ
ルに対し１．０ｎ〜１．１ｎモル量を連続添加し反応さ
せてオキシムシランとしたのち、副生したＮＨ4 Ｘをろ
別し、この液相を蒸留するという方法で行えばよい。
【００２０】つぎにこれを添付の図面にもとづいて説明
する。図１は本発明によるオキシムシラン製造装置の好
ましい実施態様を示したものであるが、図における第１
反応器１は撹拌器を備えており、冷却のためのジヤケッ
トをそなえている。この第１反応器１にはメチルトリク
ロロシランなどのハロゲン化シランが反応器下部の流路
２より注入され、このシランに対し２〜１０倍重量のト
ルエン、ヘキサンなどの有機溶剤が反応器下部の流路３
から流入され、これにハロゲン化シラン１モルに対し
１．５５ｎ〜２．１０ｎモル量のアンモニアガスが反応
器下部の流路４から注入される。後記の反応器２より流
出するアンモニアガスを反応器１に入る前の有機溶剤に
吸収させる場合は、ハロゲン化シラン１モルに対し１．
１０ｎ〜１．１５ｎモル量のアンモニアガスを注入すれ
ばよい。
する。図１は本発明によるオキシムシラン製造装置の好
ましい実施態様を示したものであるが、図における第１
反応器１は撹拌器を備えており、冷却のためのジヤケッ
トをそなえている。この第１反応器１にはメチルトリク
ロロシランなどのハロゲン化シランが反応器下部の流路
２より注入され、このシランに対し２〜１０倍重量のト
ルエン、ヘキサンなどの有機溶剤が反応器下部の流路３
から流入され、これにハロゲン化シラン１モルに対し
１．５５ｎ〜２．１０ｎモル量のアンモニアガスが反応
器下部の流路４から注入される。後記の反応器２より流
出するアンモニアガスを反応器１に入る前の有機溶剤に
吸収させる場合は、ハロゲン化シラン１モルに対し１．
１０ｎ〜１．１５ｎモル量のアンモニアガスを注入すれ
ばよい。
【００２１】この反応は連続的に行なわれ、この滞留時
間は１〜５分間とされるが、発生した反応熱は反応器の
間接冷却で冷却され、反応温度は２５〜７５℃とされ
る。この反応で生成された第１反応物は、反応器上部か
ら流路６を経て第２反応器５に連続的に送られる。
間は１〜５分間とされるが、発生した反応熱は反応器の
間接冷却で冷却され、反応温度は２５〜７５℃とされ
る。この反応で生成された第１反応物は、反応器上部か
ら流路６を経て第２反応器５に連続的に送られる。
【００２２】第２反応器５に送られた第１反応物に、オ
キシム化合物が添加され、これらの反応でオキシムシラ
ンが合成されるのであるが、オキシム化合物はハロゲン
化シラン１モルに対し１．０ｎ〜１．１ｎモル量を流路
７から連続的に添加すればよい。流路８より系外に流出
するアンモニアガスを反応器１に注入される前の有機溶
剤に吸収させることができる。
キシム化合物が添加され、これらの反応でオキシムシラ
ンが合成されるのであるが、オキシム化合物はハロゲン
化シラン１モルに対し１．０ｎ〜１．１ｎモル量を流路
７から連続的に添加すればよい。流路８より系外に流出
するアンモニアガスを反応器１に注入される前の有機溶
剤に吸収させることができる。
【００２３】この反応は反応温度２５〜７５℃で、滞在
時間５〜６０分好ましくは１０〜４０分で行えばよい。
第２反応物は、反応器下部の流路１０より連続的にスラ
リ−タンク９に送られ、そこから流路１２を経て、ろ過
器１１に送られる。ろ過器１１で副生ハロゲン化アンモ
ニウムを第２反応物より分離する。なお、流路１３は必
要に応じ添加されるケ−キ洗浄用の溶剤流路である。
時間５〜６０分好ましくは１０〜４０分で行えばよい。
第２反応物は、反応器下部の流路１０より連続的にスラ
リ−タンク９に送られ、そこから流路１２を経て、ろ過
器１１に送られる。ろ過器１１で副生ハロゲン化アンモ
ニウムを第２反応物より分離する。なお、流路１３は必
要に応じ添加されるケ−キ洗浄用の溶剤流路である。
【００２４】このろ過器１１で分離された固体状のハロ
ゲン化アンモニウムは流路１４から除去され、流体は流
路１６を経てタンク１７に送られた後、ストリッパ−１
８で蒸留される。蒸留後オキシムシランは流路１９から
精製物として取得され、溶剤及びオキシム化合物を含む
蒸気流は流路２０から回収される。
ゲン化アンモニウムは流路１４から除去され、流体は流
路１６を経てタンク１７に送られた後、ストリッパ−１
８で蒸留される。蒸留後オキシムシランは流路１９から
精製物として取得され、溶剤及びオキシム化合物を含む
蒸気流は流路２０から回収される。
【００２５】
【実施例】次に本発明の実施例を上げる。 実施例１ ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シランの製造 １８０ｒｐｍで回転するテフロン製の撹拌機を装着し
た、内径８０ｍｍ、長さ１１０ｍｍで、冷却水で外側を
冷却できるようにした二重管構造の縦型円柱状反応器１
に、ビニルトリクロロシランを９３４ｇ／時で反応器下
方の流路２より注入すると共に、トルエンを５，８８７
ｇ／時（シランに対し６．３倍重量）で反応器下方の流
路３から注入、およびアンモニアガスを７００ＮＬ／時
（シラン１モルに対し１．８×３モル）で反応器下方の
流路４より注入し、６０〜７５℃で滞留時間４分で反応
させた。
シランの製造 １８０ｒｐｍで回転するテフロン製の撹拌機を装着し
た、内径８０ｍｍ、長さ１１０ｍｍで、冷却水で外側を
冷却できるようにした二重管構造の縦型円柱状反応器１
に、ビニルトリクロロシランを９３４ｇ／時で反応器下
方の流路２より注入すると共に、トルエンを５，８８７
ｇ／時（シランに対し６．３倍重量）で反応器下方の流
路３から注入、およびアンモニアガスを７００ＮＬ／時
（シラン１モルに対し１．８×３モル）で反応器下方の
流路４より注入し、６０〜７５℃で滞留時間４分で反応
させた。
【００２６】ついで、反応生成物を流路６から容積１０
Ｌのテフロン製反応機付反応器５に流下させると同時
に、メチルエチルケトオキシムを１，５５５ｇ／時で
（シラン１モルに対し１．０３×３モル）流路７から注
入し、温度６０〜６５℃、滞留時間４０分で流路１０よ
りスラリ−タンク９に移送した。５時間後反応を中止
し、スラリ−タンク９内の反応物を流路１２より加圧ろ
過器１１に送り塩化アンモニウムを除去し、液相を流路
１６よりタンク１５に送った。得られたケ−キはトルエ
ンで洗浄後流路１４より排出し、液はタンク１５に送っ
た。液相を流路１７からストリッパ−１８に移し、７５
〜８５℃、３０ｍｍＨｇ以下で２時間蒸留した。ストリ
ッパ−内に残った液をガスクロマトグラフィ−で分析し
たところ、このものは純度９５．１％のビニルトリス
（メチルエチルケトオキシム）シランであることが確認
され、ビニルトリクロロシランに対する収率は９３％で
あった。
Ｌのテフロン製反応機付反応器５に流下させると同時
に、メチルエチルケトオキシムを１，５５５ｇ／時で
（シラン１モルに対し１．０３×３モル）流路７から注
入し、温度６０〜６５℃、滞留時間４０分で流路１０よ
りスラリ−タンク９に移送した。５時間後反応を中止
し、スラリ−タンク９内の反応物を流路１２より加圧ろ
過器１１に送り塩化アンモニウムを除去し、液相を流路
１６よりタンク１５に送った。得られたケ−キはトルエ
ンで洗浄後流路１４より排出し、液はタンク１５に送っ
た。液相を流路１７からストリッパ−１８に移し、７５
〜８５℃、３０ｍｍＨｇ以下で２時間蒸留した。ストリ
ッパ−内に残った液をガスクロマトグラフィ−で分析し
たところ、このものは純度９５．１％のビニルトリス
（メチルエチルケトオキシム）シランであることが確認
され、ビニルトリクロロシランに対する収率は９３％で
あった。
【００２７】実施例２ 実施例１におけると同様な実験を反復したが、ただし供
給速度は、 ビニルトリクロロシラン １，８７０ｇ／時 トルエン ９，３５０ｇ／時（シラン
に対し５．０倍重量） アンモニア（反応器１） １，２６８ＮＬ／時（シラ
ン１モルに対し１．６３×３モル） メチルエチルケトオキシム ３，１７３ｇ／時（シラン
１モルに対し１．０５×３モル） 滞留時間（反応器１）＝ ２．４分 滞留時間（反応器２）＝ ２０ 分 としたところ、ビニルトリクロロシランに対する、ビニ
ルトリス（メチルエチルケトオキシム）シランの収率は
９１％であった。
給速度は、 ビニルトリクロロシラン １，８７０ｇ／時 トルエン ９，３５０ｇ／時（シラン
に対し５．０倍重量） アンモニア（反応器１） １，２６８ＮＬ／時（シラ
ン１モルに対し１．６３×３モル） メチルエチルケトオキシム ３，１７３ｇ／時（シラン
１モルに対し１．０５×３モル） 滞留時間（反応器１）＝ ２．４分 滞留時間（反応器２）＝ ２０ 分 としたところ、ビニルトリクロロシランに対する、ビニ
ルトリス（メチルエチルケトオキシム）シランの収率は
９１％であった。
【００２８】実施例３ メチルトリス（メチルエチルケ
トオキシム）シランの製造 実施例１に記したのと同じ方法および装置を用いて行っ
たが、ビニルトリクロロシランの代わりにメチルトリク
ロロシランを用い、その供給速度は、 メチルトリクロロシラン １，３１３ｇ／時 トルエン ６，１７１ｇ／時（シラン
に対し４．７倍重量） アンモニア（反応器１） １，０９１ＮＬ／時（シラ
ン１モルに対し１．８５×３モル） メチルエチルケトオキシム ２，３３７ｇ／時（シラ
ン１モルに対し１．０２×３モル） 滞留時間（反応器１）は３．６分 滞留時間（反応器２）は３４分としたところ、メチルト
リクロロシランに対するメチルトリス（メチルエチルケ
トオキシム）シランの収率は９．４％であった。
トオキシム）シランの製造 実施例１に記したのと同じ方法および装置を用いて行っ
たが、ビニルトリクロロシランの代わりにメチルトリク
ロロシランを用い、その供給速度は、 メチルトリクロロシラン １，３１３ｇ／時 トルエン ６，１７１ｇ／時（シラン
に対し４．７倍重量） アンモニア（反応器１） １，０９１ＮＬ／時（シラ
ン１モルに対し１．８５×３モル） メチルエチルケトオキシム ２，３３７ｇ／時（シラ
ン１モルに対し１．０２×３モル） 滞留時間（反応器１）は３．６分 滞留時間（反応器２）は３４分としたところ、メチルト
リクロロシランに対するメチルトリス（メチルエチルケ
トオキシム）シランの収率は９．４％であった。
【００２９】
【発明の効果】本発明はオキシムシランの製造方法に関
するもので、これは前記したようにハロゲン化シランを
有機溶剤下アンモニアと反応させ、別の反応器でこの反
応物をオキシム化合物と反応させてオキシムシランを製
造するというものであるが、この場合爆発性のオキシム
ハロゲン酸塩は発生しないので、容易にかつ安全にオキ
シムシランを得ることができるし、これによれば目的と
するオキシムシランを８５％以上の高い収率で得ること
ができるという有利性が与えられる。
するもので、これは前記したようにハロゲン化シランを
有機溶剤下アンモニアと反応させ、別の反応器でこの反
応物をオキシム化合物と反応させてオキシムシランを製
造するというものであるが、この場合爆発性のオキシム
ハロゲン酸塩は発生しないので、容易にかつ安全にオキ
シムシランを得ることができるし、これによれば目的と
するオキシムシランを８５％以上の高い収率で得ること
ができるという有利性が与えられる。
【図１】本発明によってオキシムシランを製造するため
の製造フローシートを示したものである。
の製造フローシートを示したものである。
１ 第１反応器 ２、３、４、６、７、８、１０、１２、１３、１４、１
６、１７、１９、２０ 流路 ４ 第２反応機 ９ スラリ−タンク １１ ろ過器 １７ タンク １８ ストリッパ−
６、１７、１９、２０ 流路 ４ 第２反応機 ９ スラリ−タンク １１ ろ過器 １７ タンク １８ ストリッパ−
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小棚 伸彦 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越 化学工業株式会社 磯部工場内 (56)参考文献 特公 昭51−38693（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 7/10
Claims (3)
- 【請求項１】（ａ）一般式Ｒ1 4-nＳｉＸn （ここにＲ1
は非置換または置換の１価炭化水素基、Ｘはハロゲン原
子、ｎは１〜４の整数）で示されるハロゲン化シラン
と、このハロゲン化シラン１モルに対し、１．５５ｎ〜
２．１ｎモル量のアンモニア及びこのハロゲン化シラン
に対し１〜２０倍重量の有機溶剤を第１反応器の下方に
連続的にかつ同時に注入し、（ｂ）第１反応器上方より
連続的に流出する反応物を第２反応器に送ると同時に、
ハロゲン化シラン１モルに対し１．０ｎ〜１．１ｎモル
量の一般式Ｒ2 Ｒ3 Ｃ＝Ｎ−ＯＨ（ここにＲ2 ，Ｒ3 は
水素原子あるいは非置換または置換の１価炭化水素基）
で示されるオキシム化合物を第２反応器に連続的に注入
し、（ｃ）連続的に第２反応器下方より流出する反応生
成物をスラリ−タンクにおくり、（ｄ）反応生成物より
副生したＮＨ4 Ｘの沈殿物を除去すると共に有機液相を
蒸留して、そこから一般式Ｒ1 4-nＳｉ（ＯＮ＝ＣＲ2 Ｒ
3 ）n 示されるオキシムシランを回収することを特徴と
するオキシムシランの連続製造方法。 - 【請求項２】工程（ｂ）の第２反応器から流出するアン
モニアを第１反応器に入る前の有機溶剤に吸収させ、か
つ工程（ａ）の第１反応器に注入するアンモニアガスの
量をハロゲン化シラン１モルに対し１．１０ｎ〜１．４
５ｎモル量とする請求項１に記載のオキシムシランの連
続製造方法。 - 【請求項３】工程（ｄ）で回収した溶剤を第１反応器に
循環させる請求項１または２に記載のオキシムシランの
連続製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32358192A JP2768609B2 (ja) | 1991-11-13 | 1992-11-09 | オキシムシランの連続製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32534591 | 1991-11-13 | ||
| JP3-325345 | 1991-11-13 | ||
| JP32358192A JP2768609B2 (ja) | 1991-11-13 | 1992-11-09 | オキシムシランの連続製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255352A JPH05255352A (ja) | 1993-10-05 |
| JP2768609B2 true JP2768609B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=26571236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32358192A Expired - Fee Related JP2768609B2 (ja) | 1991-11-13 | 1992-11-09 | オキシムシランの連続製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2768609B2 (ja) |
-
1992
- 1992-11-09 JP JP32358192A patent/JP2768609B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05255352A (ja) | 1993-10-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |