JP2766118B2 - 傾き検出方法 - Google Patents

傾き検出方法

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JP2766118B2
JP2766118B2 JP4094520A JP9452092A JP2766118B2 JP 2766118 B2 JP2766118 B2 JP 2766118B2 JP 4094520 A JP4094520 A JP 4094520A JP 9452092 A JP9452092 A JP 9452092A JP 2766118 B2 JP2766118 B2 JP 2766118B2
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純一 秦
圭三 泉田
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品装着機におい
て、電子部品を撮像し、電子部品の装着補正角度を求め
る、傾き検出方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】以前から、電子部品を基板上にマウント
する電子部品装着機では、視覚認識技術を応用した部品
位置決め方法が行われている。これまでの電子部品装着
機における視覚認識方法では、部品に固有な閾値を用い
て、部品本体と背景とを分離する2値処理方法が主流で
あるが、最近では、濃淡画像を64階調、128階調あ
るいは256階調で表現する多値処理に移行しつつあ
る。この多値処理による傾き検出方法の従来技術として
は、1次元エッジ検出による方法がある。
【0003】以下に、上記の多値処理による傾き検出方
法の従来例を図20〜図25に基づいて説明する。
【0004】図20は、認識対象物の電子部品の2次元
多値画像10と、1次元エッジ検出を行う点によってな
る線分11、12と、線分11と12の1次元エッジ検
出で得られたエッジ点13と14とを示している。
【0005】図21は、認識対象物の電子部品の2次元
多値画像10と、1次元エッジ検出を行う点によってな
る線分11、12と、線分11、12上の輝度分布と、
線分11、12上の輝度の2次微分値と、線分11又は
12上にある電子部品の2次元多値画像10のエッジ点
13または14の位置に対応する2次微分値0の点16
(13、14)とを示している。
【0006】次に、図20、図21に基づいて、1次元
エッジ検出方法を説明する。
【0007】図20において、認識対象物の電子部品の
2次元多値画像10の1つの辺上から、2箇所のエッジ
点を検出できるように、1次元エッジ検出を行う点によ
ってなる線分11、12を設定する。線分11、12に
ついて、夫々の1次元エッジ検出により、認識対象物の
電子部品の2次元多値画像10の1つの辺上に、2次元
多値画像10のエッジ点13と14とが求められる。こ
のエッジ点13と14とを結んで得られる直線15の傾
きを電子部品の傾きとする。
【0008】図21は、1次元エッジ検出について説明
したもので、認識対象物の電子部品の2次元多値画像1
0において、輝度が急激に変化する電子部品の2次元多
値画像10の縁を横切るような線分11または12を設
定する。次に、この線分11または12上の輝度の分布
を求めると、その分布は、図21の輝度の分布曲線のよ
うになり、電子部品の2次元多値画像10の縁を横切る
位置で、輝度は急激に変化する。更に、前記線分11ま
たは12上の輝度の分布の2次微分値を求めると、その
2次微分値は、図21の輝度の2次微分値曲線のように
なり、2次微分値が、負値から正値に大きく変化し、そ
の中間で、0になる2次微分値0の点16(13、1
4)が求められる。この点16を、認識対象物の電子部
品の2次元多値画像10の縁の位置とし、この点16を
2つ求めてその間を結ぶ直線の傾きを、認識対象物の電
子部品の傾きとするのが、1次元エッジ検出方法であ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来例
の方法では、図22に示すように、電子部品10を真空
吸着している吸着ノズル17が、1次元エッジ検出を行
う線分12上にはみだした場合、或いは、図23に示す
ように、電子部品10の一部にゴミ19が付着していた
場合、或いは、図24に示すように、電子部品10の表
面の一部に、大きな輝度変化部21があった場合等で
は、1次元エッジ検出方法で求めたエッジ点と、電子部
品の縁の位置とが一致しないことがあるという問題点が
ある。
【0010】図22の場合においては、線分11につい
て1次元エッジ検出方法で求めたエッジ点13は、電子
部品10の縁の位置と一致するが、線分12について1
次元エッジ検出方法で求めたエッジ点14′は、電子部
品10の縁の位置(エッジ点14)と一致せず、検出し
た直線18の傾きは、電子部品10の傾きとは異なる。
【0011】図23の場合においては、線分12につい
て1次元エッジ検出方法で求めたエッジ点14は、電子
部品10の縁の位置と一致するが、線分11について1
次元エッジ検出方法で求めたエッジ点13′は、電子部
品10の縁の位置(エッジ点13)と一致せず、検出し
た直線20の傾きは、電子部品10の傾きとは異なる。
【0012】図24の場合においては、線分12につい
て1次元エッジ検出方法で求めたエッジ点14は、電子
部品10の縁の位置と一致するが、線分11について1
次元エッジ検出方法で求めたエッジ点13′は、電子部
品10の縁の位置(エッジ点13)と一致せず、検出し
た直線22の傾きは、電子部品10の傾きとは異なる。
【0013】又、電子部品の縁の形状が異なり、図25
に示すように、電子部品10の縁の形状が複雑な場合に
は、1次元エッジ検出を行う点で構成される線分23の
設定本数や位置や、求められたエッジ点24からの直線
25の傾きの計算方法をその都度、その形状に合わせて
検討する必要があり、処理が複雑になり、時間がかかる
という問題点がある。
【0014】本発明は、上記の問題点を解決し、ノズル
や、ゴミ、輝度変化等によるノイズの影響が少なく、多
品種の電子部品を共通に扱える汎用性が高い、傾き検出
方法を提供することを課題としている。
【0015】
【課題を解決するための手段】本願第1発明の傾き検出
方法は、上記の課題を解決するために、認識対象物の濃
淡画像を2次元多値画像としてメモリに格納する第1工
程と、前記2次元多値画像上に複数のサンプリング点を
設定する第2工程と、前記第2工程で設定された各サン
プリング点において、2次元多値画像上の全ての方向の
中で、輝度勾配が最大となる方向に所定の角度を加えた
偏角と輝度勾配の大きさとを求める第3工程と、前記第
3工程の処理結果から、前記輝度勾配の大きさを頻度の
重みとして偏角別の最大輝度勾配発生頻度を表す偏角ヒ
ストグラムを作成する第4工程と、前記第4工程の偏角
ヒストグラムにおいて最大輝度勾配発生頻度が最大とな
る偏角を求め、この最大となる偏角を認識対象物の傾き
とする第5工程とを有することを特徴とする。
【0016】本願第2発明の傾き検出方法は、上記の課
題を解決するために、認識対象物の濃淡画像を2次元多
値画像としてメモリに格納する第1工程と、前記2次元
多値画像上に複数のサンプリング点を設定する第2工程
と、前記第2工程で設定された各サンプリング点におい
て、2次元多値画像上の全ての方向の中で、輝度勾配が
最大となる方向に所定の角度を加えた偏角と輝度勾配の
大きさとを求める第3工程と、前記第3工程の処理結果
から、前記輝度勾配の大きさを頻度の重みとして偏角別
の最大輝度勾配発生頻度を表す偏角ヒストグラムを作成
する第4工程と、前記第4工程の偏角ヒストグラムを所
定角度分だけ変位させて累算して累算偏角ヒストグラム
を作成する第5工程と、前記第5工程の累算偏角ヒスト
グラムにおいて最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角
を求め、この最大となる偏角を認識対象物の傾きとする
第6工程とを有することを特徴とする。
【0017】又、本願第2発明の傾き検出方法は、上記
の課題を解決するために、第5工程の所定角度は、90
度の整数倍であることが好適である。
【0018】
【作用】本願第1発明の傾き検出方法は、第1工程で、
認識対象物の濃淡画像を2次元多値画像としてメモリに
格納し、第2工程で、前記2次元多値画像上に複数のサ
ンプリング点を設定し、第3工程で、前記第2工程で設
定された各サンプリング点において、2次元画多値像上
の全ての方向の中で、輝度勾配が最大となる方向に所定
の角度を加えた偏角と輝度勾配の大きさとを求め、第4
工程で、前記第3工程の処理結果から、前記輝度勾配の
大きさを頻度の重みとして偏角別の最大輝度勾配発生頻
度を表す偏角ヒストグラムを作成し、第5工程で、前記
第4工程の偏角ヒストグラムにおいて最大輝度勾配発生
頻度が最大となる偏角を求めると、この最大となる偏角
が認識対象物の傾きである。その理由は、次の通りであ
る。
【0019】電子部品等の認識対象物の2次元多値画像
において、電子部品の縁に相当する点についての、2次
元多値画像の輝度勾配が最大となる方向は、通常、電子
部品の縁に対して垂直な方向なので、輝度勾配が最大と
なる方向に、90度の奇数倍を加えた方向は、電子部品
の縁の接線方向、即ち、縁が伸びている方向である。
【0020】それで、第3工程での所定の角度を、90
度の奇数倍とすると(所定の角度は、輝度勾配が最大と
なる方向と電子部品の縁の接線方向とのなす角度である
が、90度の奇数倍以外のこともあり得る。)、第2工
程で設定された各サンプリング点についての、輝度勾配
が最大となる方向にこの所定の角度を加えた偏角は、夫
々のサンプリング点の近傍の電子部品の縁の接線方向を
示す。従って、偏角ヒストグラムにおいて第4工程で求
められた最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角方向
は、電子部品の縁の方向を示す。そして、電子部品が複
雑な形状をしていても、何処かの部分に直線的な縁があ
るので、この直線的な縁で、その方向検出が可能であ
る。
【0021】この場合、2次元多値画像内にノズルの画
像があったり、電子部品等の認識対象物にゴミが付着し
ていたり、電子部品等の認識対象物に部分的輝度変化等
があったりしても、これらは何れも部分的なものなの
で、これらから得られるデータ数は、全体から得られる
データ数に比較して、非常に少ないので、その影響は殆
ど無く、且つ、前記の所定の角度を適切に決めるだけ
で、多品種の電子部品を共通に扱えるので、汎用性が高
い。
【0022】本願第2発明の傾き検出方法は、上記の本
願第1発明の傾き検出方法の第4工程までの作用に加え
て、第5工程で、前記第4工程の偏角ヒストグラムを所
定角度分(2次元多値画像上の複数の直線部分間の角
度)だけ変位させて累算して累算偏角ヒストグラムを作
成し、第6工程で、第5工程の累算偏角ヒストグラムに
おいて最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角を求める
と、この最大となる偏角が、認識対象物の傾きとなる。
その理由は、次の通りである。
【0023】通常、電子部品等の認識対象物の外形は、
直方形を基準としており、一部に複雑な形状が付加して
いても、その外周各部の大部分の縁が伸びる方向は、直
方形の4辺の何れかと一致する。それで、第4工程で求
められた偏角別の最大輝度勾配発生頻度を表す偏角ヒス
トグラムには、直方形の4辺の方向に対応した、90度
の整数倍ずつ方向が異なる4つの偏角において、偏角別
の最大輝度勾配発生頻度が大きくなっている。従って、
若し、各偏角ヒストグラムにおいて、最大輝度勾配発生
頻度が最大の偏角が明確でない場合に、第5工程で、所
定角度(2次元多値画像上の複数の直線部分間の角度)
を90度の整数倍とし、偏角ヒストグラムを90度の整
数倍分だけ変位させて累算した累算偏角ヒストグラムを
作ると、この累算偏角ヒストグラムにおいて、最大輝度
勾配発生頻度が最大となる偏角が、累算前の各偏角ヒス
トグラムに比較してより明確になり、認識対象物の傾き
が明確に判定できる。
【0024】
【実施例】本発明の傾き検出方法の一実施例方法を図1
〜図19に基づいて説明する。
【0025】図1は、本発明の傾き検出方法の一実施例
方法のフローチャートである。
【0026】図1のフローチャートにおいて、ステップ
#1において、認識対象物の濃淡画像を2次元多値画像
としてメモリに格納し、ステップ#2に進む。
【0027】ステップ#2において、前記2次元多値画
像上に複数のサンプリング点を設定し、ステップ#3に
進む。
【0028】ステップ#3において、ステップ#2で設
定された全てのサンプリング点について、次のステップ
#4とステップ#5の処理が完了か否かを判断し、完了
であればステップ#6に進み、否であればステップ#4
に進む。
【0029】ステップ#4において、ステップ#2で設
定された各サンプリング点において、2次元多値画像上
の全ての方向の中で、輝度勾配が最大となる方向に所定
の角度を加えた偏角と輝度勾配の大きさとを求め、ステ
ップ#5に進む。
【0030】ステップ#5において、ステップ#4の処
理結果から、前記輝度勾配の大きさを頻度の重みとして
偏角別の最大輝度勾配発生頻度を表す偏角ヒストグラム
を作成し、ステップ#3に戻る。
【0031】ステップ#6において、ステップ#5で作
成した偏角ヒストグラムが、最大輝度勾配発生頻度が最
大となる偏角を明確に示しておれば、偏角ヒストグラム
の累算が不要と判断してステップ#8に進み、ステップ
#5で作成した偏角ヒストグラムが、最大輝度勾配発生
頻度が最大となる偏角を明確に示していなければ、偏角
ヒストグラムの累算が必要と判断してステップ#7に進
む。
【0032】ステップ#7において、ステップ#5で作
成した偏角ヒストグラムを所定角度分だけ変位させて累
算し累算偏角ヒストグラムを作成し、ステップ#8に進
む。
【0033】ステップ#8において、ステップ#5で作
成した偏角ヒストグラム、又は、ステップ#7で作成し
た累算偏角ヒストグラムから、最大輝度勾配発生頻度が
最大となる偏角を求め、ステップ#9に進む。
【0034】ステップ#9において、ステップ#8で求
めた最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角から、電子
部品等の認識対象物の傾きを求める。
【0035】図2〜図5は、本実施例の図1のフローチ
ャートのステップ#1における、メモリに格納した電子
部品等の濃淡画像の2次元多値画像10を示す。これら
の2次元多値画像10は、幾つかの直線部分からなる縁
で構成されている。そして、この縁において画像の輝度
が急激に変化している。又、電子部品等の認識対象物の
傾きは、電子部品の縁が伸びている方向で表せることが
多い。
【0036】図6、図7は、本実施例の図1のフローチ
ャートのステップ#2における、2次元多値画像上に設
定した複数のサンプリング点Sを示す。この複数のサン
プリング点Sは、図6、図7に示すように、電子部品の
全体または一部に、格子点状に設定する。
【0037】図8〜図10は、本実施例の図1のフロー
チャートのステップ#4で、前工程で設定された各サン
プリング点Sについて、2次元多値画像上の全ての方向
の中で、輝度勾配が最大となる方向に所定の角度を加え
た偏角と輝度勾配の大きさとを求める方法を示す。
【0038】図8において、設定された各サンプリング
点Sの周囲に、x方向、y方向の、A〜Hの8点を設
け、例えば、A点における輝度をZ(A)と表現すれ
ば、サンプリング点Sのx方向の輝度勾配Zx は、 Zx=Z(C)+Z(D)+Z(E)−Z(A)−Z
(H)−Z(G) サンプリング点Sのy方向の輝度勾配Zy は、 Zy =Z(G)+Z(F)+Z(E)−Z(A)−Z
(B)−Z(C) として求めることができる。
【0039】そして、ZxとZy とを2次元ベクトル
(Zx、Zy )とみなすと、図9に示すようにして、輝
度勾配が最大となる方向θが求まり、所定の角度を90
度とすれば、偏角=θ+90°となり、輝度勾配の大き
さは式(1)となる。
【0040】
【数1】
【0041】図10の上部は、全てのサンプリング点S
について、輝度勾配が最大となる方向θと輝度勾配の大
きさを示したものである。各サンプリング点Sの棒の方
向が、各サンプリング点Sの輝度勾配が最大となる方向
θを示す。各サンプリング点Sの棒の長さが、各サンプ
リング点Sの輝度勾配の大きさを示す。直方形の2次元
多値画像10の辺の近傍にあるサンプリング点Sの輝度
勾配が最大となる方向θは、辺に垂直方向であり、直方
形の2次元多値画像10の頂角の近傍にあるサンプリン
グ点Sの輝度勾配が最大となる方向θは、頂角の2等分
線の方向に傾いている。
【0042】図10の下部は、本実施例の図1のフロー
チャートのステップ#5で、前工程の処理結果(図10
の上部)から、サンプリング点Sの輝度勾配が最大とな
る方向θに所定の角度を加えた偏角(θ+所定の角度)
に対して、輝度勾配の大きさを頻度の重みとして累算し
て作成した偏角別の最大輝度勾配発生頻度を表す偏角ヒ
ストグラムを示す。
【0043】そして、図10の下部に示す偏角ヒストグ
ラムの作成方法は次の通りである。
【0044】この偏角ヒストグラムとは、360度をn
等分(nは任意の自然数)し、n個の区間(1からnま
で)の夫々の最大輝度勾配発生頻度を求めたものであ
る。いま輝度勾配が最大になる方向θに90度を加えた
偏角をm度とし、k番目の偏角区間の輝度勾配が最大に
なる頻度をH(k)、サンプリング点Sの輝度勾配をD
とすると、その処理は、 H([mn/360]+1)←H([mn/360]+
1)+D となる(但し、[]は整数化を示し、この場合の処理
は、([mn/360]+1)番目の偏角区間にDを加
えることを示す。)。
【0045】本実施例では、図10の上部の2次元多値
画像10が直方形なので、直方形の各辺の近傍にあるサ
ンプリング点Sの輝度勾配が最大となる方向θに所定の
角度を加えた偏角は、各辺毎にグループを構成し、各グ
ループ毎の偏角ヒストグラムの最大輝度勾配発生頻度が
最大となる偏角は、図10の下部に示すように、直方形
の頂角90度の倍数だけ変位している。
【0046】図11、図12は、本実施例の図1のフロ
ーチャートのステップ#7で、ステップ#5の偏角ヒス
トグラムを所定角度分だけ変位させて累算して累算偏角
ヒストグラムを作成する方法を示す。この所定角度は、
2次元多値画像10の直線部分間の角度差である。
【0047】図11は、本実施例では、図10の上部に
示すように、2次元多値画像10が直方形なので、ステ
ップ#5の偏角ヒストグラムでは、360度を直方形の
頂角90度で4等分した範囲が、直方形の各辺に対応
し、4等分した範囲内において、頻度の分布が類似す
る。従って、図11について、0度〜90度の範囲はそ
のままにし、90度〜180度の範囲は90度を加えて
0度〜90度の範囲に加算し、180度〜270度の範
囲は180度を加えて0度〜90度の範囲に加算し、2
70度〜360度の範囲は270度を加えて0度〜90
度の範囲に加算すると、図12に示すような、累算偏角
ヒストグラムができる。
【0048】この場合、本実施例では、360度を90
度の範囲に4等分して累算したが、360度の範囲全体
を毎回90度ずつ加算して4回累算しても、図11に示
すものと同様の累算偏角ヒストグラムが4つできるのは
いうまでも無い。
【0049】図13は、本実施例の図1のフローチャー
トのステップ#8、#9で、ステップ#5の偏角ヒスト
グラム、又は、ステップ#7の累算偏角ヒストグラムに
おいて最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角を求め、
この最大となる偏角を認識対象物の傾きとする方法を示
す。
【0050】図13に示すように、連続する(2j−
1)個(jは任意の自然数)の区間の頻度の和が最大に
なるような区間の重心を最大輝度勾配発生頻度が最大と
なる偏角とする。
【0051】即ち、先ず、
【0052】i=−j+1。
【0053】次に、このtを中心値とする(2j−1)
個の区間の頻度の重心を求めると、この重心が、部品の
傾きになる。
【0054】図14、図15は、本実施例が、ノズル
や、ゴミ、輝度変化等によるノイズの影響が少ないこと
を示している。
【0055】図14は、ノズルや、ゴミ、輝度変化等の
影響が無い、理想的な2次元多値画像の場合の偏角ヒス
トグラムであり、その形状は、部品の傾き角度θを中心
とした分散の小さな山型である。
【0056】図15は、ノズルや、ゴミ、輝度変化等の
影響がある場合の2次元多値画像の偏角ヒストグラムで
あり、その形状は、分散が大きな山型であるが、2次元
多値画像内にノズルの画像があったり、電子部品等の認
識対象物にゴミが付着していたり、電子部品等の認識対
象物に部分的輝度変化等があったりしても、これらは何
れも部分的なものなので、これらから得られるデータ数
は、全体から得られるデータ数に比較して、非常に少な
いので、その影響は殆ど無く、山の高さが最大になる偏
角は殆ど変化しないので、正確な傾きを安定して検出で
きる。
【0057】図16〜図19に基づいて、本実施例方法
を使用した、反射板2、照明3、TVカメラ5、視覚認
識装置6の組合せの2例を説明する。
【0058】図16、図17は、吸着ノズル1に吸着さ
れた電子部品4の背後から照明3の光を照射して、電子
部品4の影絵をTVカメラ5が撮像する透過型の場合を
示す。透過型の場合には、2次元多値画像は、その外形
輪郭どおりの形状になり、この外形輪郭の直線部によっ
て、電子部品の傾きが検出される。視覚認識装置6は、
A/D変換回路9と、画像メモリ8と、CPU7とを有
する。
【0059】図18、図19は、吸着ノズル1に吸着さ
れた電子部品4の下面から照明3の光を直接照射して、
電子部品4からの反射画像をTVカメラ5が撮像する反
射型の場合を示す。反射型の場合では、2次元多値画像
は、電子部品の電極以外の部分は、その輝度が、背景と
殆ど同じで認識できる画像を形成せず、電子部品の2次
元多値画像は、その外形輪郭とは無関係に、反射係数が
大きな電極部分等のとおりの形状になり、この電極形状
の直線部によって、電子部品の傾きが検出される。視覚
認識装置6は、A/D変換回路9と、画像メモリ8と、
CPU7とを有する。
【0060】本発明の傾き検出方法によれば、透過型で
も、反射型でも、電子部品の2次元多値画像に、直線部
分がある限り、この直線部分によって、電子部品の傾き
を検出できる。特に、反射型の場合、電子部品の形状が
複雑であっても、その外形に直線部分が無くても、電極
等の反射係数が大きな部分に直線部分があれば、検出可
能である。
【0061】そして、電子部品の2次元多値画像の幾つ
かの直線部分が、90度の整数倍等の既知の角度差を有
する場合には、電子部品の2次元多値画像の他の直線部
分が如何に複雑であっても、傾きの検出を容易に行うこ
とがきる。従って、多くの品種の電子部品に対して同一
の方法で、傾きの検出を行うことができる。
【0062】本実施例の傾きの検出方法は、上記の実施
例に限らず種々の態様が可能である。例えば、次の通り
である。
【0063】サンプリング点Sの輝度勾配の大きさを頻
度の重みとして偏角別の最大輝度勾配発生頻度を表す偏
角ヒストグラムを作成し、この偏角ヒストグラムにおい
て最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角を求め、この
最大となる偏角を認識対象物の傾きとすることが可能で
あれば、サンプリング点Sの設定方法、輝度勾配の大き
さと方向の求め方、偏角ヒストグラムの作成方法、累算
方法、偏角ヒストグラム又は累算偏角ヒストグラムにお
いて最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角を求め、こ
の最大となる偏角を認識対象物の傾きとする計算方法等
の設計は自由にできる。
【0064】
【発明の効果】本発明の傾き検出方法は、電子部品等の
認識対象物の2次元多値画像上の複数のサンプリング点
の輝度勾配の大きさを頻度の重みとして偏角別の最大輝
度勾配発生頻度を表す偏角ヒストグラムを作成し、この
偏角ヒストグラム又は累算偏角ヒストグラムにおいて最
大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角を求め、この最大
となる偏角を認識対象物の傾きとすることによって、電
子部品等の認識対象物の傾きを検出しているので、ノズ
ルや、ゴミ、輝度変化等によるノイズの影響が少なくな
り、正確な傾きを検出できるので、本発明の傾き検出方
法を使用する電子部品装着装置の信頼性を向上できると
いう効果を奏する。
【0065】又、本発明の傾き検出方法は、本発明の傾
き検出方法を使用する電子部品装着装置が、透過型の部
品認識であっても、反射型の部品認識であっても適用で
きると共に、多くの品種の電子部品に対して同一の計算
処理方法の設定で、傾きの検出を行うことができるの
で、傾き検出作業が簡単で容易になり、本発明の傾き検
出方法を使用する電子部品装着装置の作業能率を向上で
きるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の傾き検出方法の一実施例方法のフロー
チャートである。
【図2】図1の2次元多値画像の1例である。
【図3】図1の2次元多値画像の1例である。
【図4】図1の2次元多値画像の1例である。
【図5】図1の2次元多値画像の1例である。
【図6】図1の2次元多値画像とサンプリング点分布図
の1例である。
【図7】図1の2次元多値画像とサンプリング点分布図
の1例である。
【図8】図1のサンプリング点の輝度勾配の計算図であ
る。
【図9】図1のサンプリング点の輝度勾配の計算図であ
る。
【図10】図1のサンプリング点とその輝度勾配の分布
図とその偏角ヒストグラムである。
【図11】図1の偏角ヒストグラムである。
【図12】図1の累算偏角ヒストグラムである。
【図13】図1の最大頻度計算方法を示す偏角ヒストグ
ラムである。
【図14】図1のノイズが無い偏角ヒストグラムであ
る。
【図15】図1のノイズがある偏角ヒストグラムであ
る。
【図16】図1の反射型の構成図である。
【図17】図16の2次元多値画像である。
【図18】図1の透過型の構成図である。
【図19】図18の2次元多値画像である。
【図20】従来例方法の構成図である。
【図21】従来例方法の構成図である。
【図22】従来例方法の構成図である。
【図23】従来例方法の構成図である。
【図24】従来例方法の構成図である。
【図25】従来例方法の構成図である。
【符号の説明】
S サンプリング点 θ 輝度勾配最大方向 1 吸着ノズル 2 反射板 3 照明 4 電子部品 5 TVカメラ 6 視覚認識装置 7 CPU 8 画像メモリ 9 A/D変換回路 10 2次元多値画像
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−141938(JP,A) 特開 平3−121573(JP,A) 特開 昭63−246603(JP,A) 特開 昭61−239376(JP,A) 特開 昭53−23276(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 11/00 - 11/30 G06T 7/60

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 認識対象物の濃淡画像を2次元多値画像
    としてメモリに格納する第1工程と、前記2次元多値画
    像上に複数のサンプリング点を設定する第2工程と、前
    記第2工程で設定された各サンプリング点において、2
    次元多値画像上の全ての方向の中で、輝度勾配が最大と
    なる方向に所定の角度を加えた偏角と輝度勾配の大きさ
    とを求める第3工程と、前記第3工程の処理結果から、
    前記輝度勾配の大きさを頻度の重みとして偏角別の最大
    輝度勾配発生頻度を表す偏角ヒストグラムを作成する第
    4工程と、前記第4工程の偏角ヒストグラムにおいて最
    大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角を求め、この最大
    となる偏角を認識対象物の傾きとする第5工程とを有す
    ることを特徴とする傾き検出方法。
  2. 【請求項2】 認識対象物の濃淡画像を2次元多値画像
    としてメモリに格納する第1工程と、前記2次元多値画
    像上に複数のサンプリング点を設定する第2工程と、前
    記第2工程で設定された各サンプリング点において、2
    次元多値画像上の全ての方向の中で、輝度勾配が最大と
    なる方向に所定の角度を加えた偏角と輝度勾配の大きさ
    とを求める第3工程と、前記第3工程の処理結果から、
    前記輝度勾配の大きさを頻度の重みとして偏角別の最大
    輝度勾配発生頻度を表す偏角ヒストグラムを作成する第
    4工程と、前記第4工程の偏角ヒストグラムを所定角度
    分だけ変位させて累算して累算偏角ヒストグラムを作成
    する第5工程と、前記第5工程の累算偏角ヒストグラム
    において最大輝度勾配発生頻度が最大となる偏角を求
    め、この最大となる偏角を認識対象物の傾きとする第6
    工程とを有することを特徴とする傾き検出方法。
  3. 【請求項3】 第5工程の所定角度は、90度の整数倍
    である請求項2に記載の傾き検出方法。
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