JP2764454B2 - 置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂、その製造法及びエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂、その製造法及びエポキシ樹脂組成物

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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子部品封止剤として有用なエポキシ樹脂、
その製造法及びこれを含有したエポキシ樹脂組成物並び
にその硬化物に関する。
〔従来の技術〕
エポキシ樹脂は、その硬化物が耐熱性、耐薬品性、接
着性、電気特性、機械的性質等が優れているため、塗
料、接着剤、注型材料、成型材料等に使用され、特に耐
熱性が要求される分野ではフェノールノボラック型エポ
キシ樹脂が用いられている。中でもo−クレゾールノボ
ラックエポキシ樹脂はIC、LSI等の半導体封止材料とし
て使用されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、近年半導体素子の高集積度化が進む一
方、高密度化のために表面実装方式が取り入れられるよ
うになり封止成型品の耐熱性、耐水性に対する要求が一
段と高まり、それに伴い封止材料として、エポキシ樹脂
に体しても、耐熱性、耐水性に対する要求が厳しくなっ
てきた。即ち従来耐熱性にエポキシ樹脂として用いられ
てきたo−クレゾールノボラックエポキシ樹脂は、上記
の要求に対し、必ずしも耐熱性の点で、満足されるもの
ではなくその改良が試みられているが未だ不充分であ
る。
一方、高耐熱性樹脂としてヒドロキシベンヅアルデヒ
ドとフェノール類の共縮合で得られる多価フェノールを
グリシジル化して得られるエポキシ樹脂(特開昭57−14
1419号公報参照)が知られているが、このものの硬化物
は、耐熱性は高いが、吸水率が極めて高く耐水性に劣る
という欠点を有する。
〔課題を解決するための手段〕
本発明らは、置換フェノール類ノボラックのエポキシ
樹脂の耐熱性、耐水性に寄与する要因について鋭意検討
した結果、グリシジル基に対する置換基の位置が耐熱
性、耐水性に大きな影響を及ぼすことを見い出し本発明
を完成させるに至った。
即ち本発明は置換フェノール類ノボラックをエポキシ
化して得られるノボラック型エポキシ樹脂において4核
体以下の各成分がそれぞれ30重量%未満でクロロホルム
溶液にて13C−NMRを測定した化学シフトで A/B ≦0.04 (但しA:69ppmにみられる吸収強度 B:73ppmにみられる吸収強度) である置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂、そ
の製造法及びこれを含有してなるエポキシ樹脂組成物並
びにその硬化物を提供する。ここで69ppm及び73ppmの化
学シフトはいずれもグリシジル基のメチレン炭素に帰属
されるもので、前者は芳香環において、グリシジル基に
対しオルト位の少くとも1つが水素原子であるクリシジ
ル基のメチレン基炭素に、後者は同様に2つのオルト位
が水素以外の置換基を有するときのクリシジル基のメチ
レン基炭素に帰属される。
従ってA/B≦0.04は芳香環においてグリシジル基に対
して2つのオルト位がほぼ完全に置換基で置換されてい
ることを表わす。
A/Bの値は0.04以下であればよいが、好ましくは0.03
以下、より好ましくは0.02以下である。置換基としては
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、塩素
原子、臭素原子を例示でき、好ましくはメチル基、t−
ブチル基、塩素原子、臭素原子であるが本発明はこれら
に限定されない。
置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂の各成分
は、2,3核体が多いと耐熱性が不充分であり、4核体は
成分比を上げなくても目的の硬化物性を得ることがで
き、又工業的にも有利であるので4核体以下の各成分は
30重量%未満が好ましい。
本発明の置換フェノール類ノボラックのエポキシ樹脂
はテトラハイドロフランを溶出液とするゲルパーミュエ
ーションクロマトグラフ(GPC)より算出される平均く
り返し単位数は好ましくは1以上30以下であり、より好
ましくは2以上20以下である。くり返し単位数が30以上
でなると高粘度、高軟化点となるため取り扱いが困難で
あり、1以下では、目的とする耐熱性が不充分である。
具体的には置換フェノールノボラックとしてo−クレ
ゾールの如きo−アルキル置換フェノール類又はp−ク
レゾールの如きp−アルキル置換フェノール類をくり返
し単位とし両末端がオルト位及びパラ位に置換基を有す
るジ置換フェノール類、例えば、2,4−キシレノール、
2,4−ジ−t−ブチルフェノールの如き2,4−ジアルキル
フェノール類及び2,4−ジハロゲン置換フェノール類、
2,6−キシレノール、2,6−ジ−t−ブチルフェノールの
如き2,6−ジアルキルフェノール類及び2,6−ジハロゲン
置換フェノール類、2,3,6−トリメチルフェノールの如
き2,3,6−トリアルキルフェノール類をあげることがで
きる。
本発明のエポキシ樹脂は、次のようにして先ず置換フ
ェノール類ノボラック化合物を製造しこれをエポキシ化
して製造することが出来る。
即ち、一般式(I) で表わされるo−クレゾール2核体ジメチロール化合物
と一般式(II) で表わされる置換フェノール類を酸触媒の存在下に脱水
縮合させることにより、先ず一般式(III) で表わされる置換フェノール類ノボラック化合物を製造
する。置換フェノール類としては2,4−キシレノール、
2,4−ジ−t−ブチルフェノール、2,4−ジクロロフェノ
ール、2,4−ジブロモフェノール、2,6−キシレノール、
2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,6−ジクロロフェノ
ール、2,6−ジブロモフェノール、2,3,6−トリメチルフ
ェノールが挙げられる。酸触媒としては塩酸、硫酸、リ
ン酸、p−トルエンスルホン酸、シュウ酸等が使用出
来、酸触媒は化合物(I)の0.1〜30重量%用いるのが
好ましい。又置換フェノール類は化合物(I)に対して
2〜15モル倍用いるのが好ましい。
反応は、無溶媒でも、ベンゼン、トルエン、メタノー
ル、エタノール、メチルイソブチルケトン等の溶媒中で
も行なうことが出来る。反応温度は30〜120℃の範囲が
好ましい、反応終了後、使用した触媒を水洗等により除
去し、溶媒及び過剰の置換フェノール類を減圧下に留去
することにより、置換フェノール類ノボラック化合物が
得られる。次にこのノボラック化合物を公知の方法によ
りエポキシ化することにより目的の置換フェノール類ノ
ボラック型エポキシ樹脂が得られる。
本発明の置換フェノール類ノボラックのエポキシ樹脂
は単独で又は他のエポキシ樹脂、例えばクレゾールノボ
ラック型樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂等と混合して用いる。
その混合割合は本発明の効果を損なわない程度、すなわ
ち本発明の置換フェノール類ノボラックのエポキシ樹脂
100重量部に対して、10重量部ないし50重量部の範囲が
好ましい。
本発明の置換フェノール類ノボラックのエポキシ樹脂
を硬化剤と混合し、常法により加熱硬化させると、耐熱
性が高く、吸水率の低い硬化物が得られる。この際必要
に応じて硬化促進剤、無機又は有機の充填剤等の種々の
配合剤を添加することができる。硬化剤としては通常の
エポキシ樹脂に用いられる脂肪族ポリアミン、芳香族ポ
リアミン、ポリアミドポリアミン等のアミン系硬化剤、
無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフ
タル酸等の酸無水系硬化剤、フェノールノボラック、ク
レゾールノボラック、ポリp−ビニルフェノール等のフ
ェノール系硬化剤やジシアミンジアミド等をあげること
ができる。
これらの硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ
1当量に対して、フェノール性水酸基0.5〜1.5当量用い
るのが好ましく、より好ましくは0.8〜1.1当量である。
又通常エポキシ樹脂に使用される硬化促進剤として、例
えば2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾ
ール類、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジ
メチルアミノメチル)フェノール等の第3級アミン、ト
リフェニルホスフィン等のホスフィン類及びその塩、1,
8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(DBU)及
びその塩、アルミニウム化合物、チタン化合物を用いれ
ばよい、その使用量はエポキシ樹脂に対して0.5〜3重
量%が好ましく、より好ましくは0.8〜2重量%であ
る。
本発明の置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂
は従来のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、例えば
o−クレゾールノボラックエポキシ樹脂に対し耐熱性が
優れている。即ち耐熱性を表わす硬化物のガラス転移温
度(Tg)や熱変形温度(HDT)がo−クレゾールノボラ
ックエポキシ樹脂の硬化物に対して約10℃高い。
一方高耐熱性樹脂の硬化物は一般的に吸水率が高く、
耐水性に劣るが、本発明のエポキシ樹脂はその硬化物の
耐熱性が高いにもかかわらず吸水率も低いという利点を
有している。
また、本発明のエポキシ樹脂は溶融粘度が低いため作
業性に優れ、硬化物の高い耐熱性及び良好な吸水率から
電子部品用、特に半導体封止用エポキシ樹脂として好適
である。
実施例1. o−クレゾール162g(1.5モル)、パラホルムアルデ
ヒド90g(3モル)及び水270mlを温度計、冷却器、滴下
ロート及び撹拌機をつけた1のフラスコに仕込み、窒
素を吹込みながら撹拌した。
室温下、30%水酸化ナトリウム水溶液50g(水酸化ナ
トリウムとして0.375モル)を発熱に注意しながら液温
が50℃を越えないようにゆっくり滴下した。
その後60℃までゆっくり加温し、6時間反応した。3
時間を経過した頃よりo−クレゾール2核体ジメチロー
ル化合物が析出しはじめた。
反応終了後水400mlを加え室温まで冷却し発熱に注意
しながら15%塩酸水溶液で中和した。撹拌をとめ室温に
放置するとo−クレゾール2核体ジメチロール化合物の
結晶が沈殿したので水層をデカンテーションで除き、更
に水400ml及び2,6−キシレノール110g(0.9モル)を添
加して撹拌、静置後再度水槽を除いた。
次にメタノール65ml及び2,6−キシレノール73g(0.6
モル)、p−トルエンスルホン酸5gを加えて70℃、3時
間、窒素気流下で反応させた後、メチルイソブチルケト
ン600mlを加えて2の分液ロートに移し水洗した。洗
浄水が中性を示すまで水洗し、有機層を減圧下濃縮する
と淡褐色のノボラック樹脂285gを得た。このノボラック
樹脂の軟化温度(環球法)は86.0℃であった。
次にこのノボラック樹脂285g、エピクロルヒドリン84
4g及びジメチルスルホキシド210gを温度計撹拌装置のつ
いた1フラスコに仕込み窒素置換を行った後、水酸化
ナトリウム93gを、添加し30℃、50℃、70℃でそれぞれ
3時間、2時間、1時間反応させた。
その後減圧下で過剰のイピクロルヒドリンを回収し、
メチルイソブチルケトン1000mlを加えて水洗した。
メチルイソブチルケトン層を2のフラスコに移し、
系内の水をメチルイソブチルケトンとの共沸で除いた後
40%水酸化ナトリウム水溶液11gを添加して70℃で1時
間撹拌後、水洗した。水層が中性を示すまで水洗後メチ
ルイソブチルケトン層を減圧下濃縮し、淡褐色のエポキ
シ樹脂(I)392gを得た。
エポキシ樹脂(I)のエポキシ当量(g/モル)、軟化
温度、溶融粘度を第1表に示した。
テトラハイドロフラン(THF)を用いGPC分析したとこ
ろ第1図に示される分子量分布曲線を得、2〜4核体の
量はそれぞれ4.7、14.1、28.1重量%であった。
GPC分析条件 分析カラム:TSK−G−3000HXL(1本) TSK−G−2500HXL(2本) TSK−G−2000HXL(1本) 溶 媒:テトラハイドロフラン1ml/分 検 出:UV(254nm) またエポキシ樹脂(I)を重水素置換クロロホルム溶
媒とする13C−NMRを測定しその結果を第3図に示した。
73ppmには3本の強い吸収(B、73.5、73.4、73.1ppm)
がみられ68ppm(A)にはほとんど吸収がみられなかっ
た。
NMR分析条件 NMR :日本電子(株)JNM−GX 270 溶 媒:CDCl3 濃 度:100mg/0.5ml 周波数領域:16000Hz パルス間隔:0.5sec 積 算:5000回 測定温度 :室温 実施例2〜3. 実施例1において、2,6−キシレノールの量を第1表
に示すように変えた以外は実施例1と同様の操作を行い
エポキシ樹脂(II)、(III)を得た。
実施例4. 実施例1において、2,6−キシレノールに代えて2,4−
キシレノールを使用した以外は実施例と同様の操作を行
いエポキシ樹脂(IV)を得た。
実施例5. 実施例1において、2,6−キシレノールに代えて2,3,6
−トリメチルフェノールを使用した以外は実施例1と同
様の操作を行いエポキシ樹脂(V)を得た。
実施例6. 実施例1において、2,6−キシレノールに代えて2,6−
ジt−ブチルフェノールを使用した以外は実施例1と同
様の操作を行いエポキシ樹脂(VI)を得た。
実施例1〜6のエポキシ当量、軟化温度、溶融粘度、
13C−NMR測定を行い、その結果を第1表に示す。またGP
Cの分析の結果、2〜4核体量はいずれも30重量%未満
であった。
比較例 o−クレゾール130g(1.2モル)、2,6−キシレノール
98g(0.8モル)触媒としてp−トルエンスルホン酸5.7g
を温度計、冷却器、滴下ロート及び撹拌機を取りつけた
1のフラスコに仕込み窒素を吹込みながら100℃で溶
解混合した。
次に37%ホルマリン水溶液130g(ホルムアルデヒドと
して1.6モル)を滴下ロートから3時間で滴下し、その
後2時間そのままの温度で撹拌した。5%水酸化ナトリ
ウム水溶液で触媒として使用したp−トルエンスルホン
酸を中和した後徐々に冷却しながらメチルイソブチルケ
トン450mlを加えて水洗後、メチルイソブチルケトン及
び低沸点化合物を蒸留により除去し、室温で淡黄色固体
のo−クレゾールと2,6−キシレノールを含むノボラッ
ク型樹脂を得た。この樹脂の軟化温度(環球法)は91.3
℃であった。
次にこの樹脂274gを用いて実施例1と同様の操作でグ
リシジル化を行い淡黄色のエポキシ樹脂(VII)370gを
得た。
得られたエポキシ樹脂(VII)のエポキシ当量、軟化
温度13C−NMRの測定を行い、その結果を第1表に示し、
13C−NMRのチャートを第4図に示した。13C−NMR測定結
果は69ppm(A、68.8ppm)に1本と73ppm(B、73.5、7
3.4、73.1ppm)に3本の強い吸収がみられ、吸収強度比
A/Bは0.08であった。
またGPC分析による分子量分布曲線を第2図に示し
た。
応用実施例1〜6. 実施例1〜6で得た置換フェノール類ノボラック型エ
ポキシ樹脂(I)〜(VI)を第2表で示す配合量(単位
は重量部)にて70℃でロール混練し、冷却後ミキサー粉
砕して成形材料を得た。この成形材料をタブレット化
後、予熱してトランスファー成形機を用いて50kg/cm2
150℃、3分の条件で試験片をプレス成形した。この成
形品を160℃、2時間、180℃、6時間後硬化して硬化成
形物を得た。この硬化成形物の測定結果を第2表に示
す。
応用比較例1〜2. 比較例1で得たノボラック型エポキシ樹脂(VII)及
び高耐熱樹脂として知られているヒドロキシベンヅアル
デヒドとフェノール類の縮合によって得られる多価フェ
ノールのグリシジルエーテルEPPN−501(エポキシ樹脂
(VIII)、日本化薬(株)製)を応用実施例と同様にし
て硬化成形物を得、その測定結果を第2表に示す。
〔発明の効果〕 本発明の置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂
は溶融粘度が低く、その硬化物は耐熱性に優れしかも吸
水率が低く電子部品用エポキシ樹脂として好適である。
【図面の簡単な説明】 第1図及び第2図はそれぞれエポキシ樹脂(I)(実施
例)及びエポキシ樹脂(VII)(比較例)のGPCによる分
子量分布曲線、第3図及び第4図はそれぞれエポキシ樹
脂(I)(実施例)及びエポキシ樹脂(VII)(比較
例)の13C−NMRのチャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−237123(JP,A) 特開 平3−21627(JP,A) 特開 平2−88628(JP,A) 特開 昭63−81118(JP,A) 特開 昭63−225621(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 59/08 C08L 63/04

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】置換フェノール類ノボラックをエポキシ化
    して得られるノボラック型エポキシ樹脂において、4核
    体以下の各成分がそれぞれ30重量%未満でクロロホルム
    溶液にて13C−NMRを測定した化学シフトで、 A/B ≦0.04 (但しA:69ppmにみられる吸収強度 B:73ppmにみられる吸収強度) であることを特徴とする置換フェノール類ノボラック型
    エポキシ樹脂。
  2. 【請求項2】置換フェノール類ノボラックをエポキシ化
    して得られるノボラック型エポキシ樹脂において4核体
    以下の各成分がそれぞれ30重量%未満でクロロホルム溶
    液にて13C−NMRを測定した化学シフトで、 A/B ≦0.04 (但しA:69ppmにみられる吸収強度 B:73ppmにみられる吸収強度) である置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂を含
    有してなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】請求項2のエポキシ樹脂組成物の硬化物。
  4. 【請求項4】一般式(I) で表わされるo−クレゾール2核体ジメチロール化合物
    と一般式(II) で表わされる置換フェノール類を反応させて得られる一
    般式(III) で表わされる置換フェノール類ノボラックとエピハロゲ
    ン化合物とを反応させて得ることを特徴とする請求項1
    記載の置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂の製
    造法。
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