JP2730102B2 - 抵抗線加熱炉 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造工程に用いられるウェハ
ーの熱処理を行う抵抗線加熱炉に関する。

〔従来の技術〕

近年、半導体装置、特に超LSIと呼ばれる1MDRAM等を
製造する量産装置においては、装置内外からの塵埃を如
何にしてウェハー上に付着させないようにするか、換言
すれば如何に清浄な雰囲気でウェハーを処理するかがLS
Iの歩留まりを向上させる重要な要素となっている。中
でも、ウェハーを熱処理する工程においては、塵埃中の
不純物元素（例えばNa⁺,Cl^-,Feⁿ⁺等）が、ウェハー上に
付着すると、基板内に熱拡散し、種々の弊害をもたら
し、LSIの製造歩留まりを低下させる現象は周知の事実
であり、抵抗線加熱熱処理炉においてもガスのフィルト
レーションや、ウェハー挿入のソフトトランディング方
式を採用する事が一般的となってきた。

しかしながら、従来この種の抵抗線加熱炉に於て、反
応管の脱着時の塵埃発生防止施策を積極的に実施した物
は皆無であった。第４図は、従来の抵抗線加熱炉の１例
の構造図を示している。断熱材１の内周に、円筒状に抵
抗線２を設置し、更にこの内部に炉芯管３を挿入して抵
抗線加熱炉を形成している。炉芯管３挿入時には、炉芯
管３を、抵抗線２と接触しないような炉芯管ガイド４で
滑らせながら抵抗線２内部に挿入する。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の抵抗線加熱炉は、炉芯管を挿入する際
に炉芯管ガイド上を摺動させながら行うため、摺動時に
発生する塵埃を、炉芯管内部に導入してしまい、結果と
してウェーハ上に塵埃を付着させ、LSIの歩留まりを低
下させるといった欠点を有していた。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の抵抗線加熱炉は、内周部に抵抗線を持ち、前
記抵抗線で囲まれた空間内部に炉芯管を挿入する抵抗線
加熱炉において、前記断熱材の内周の前記抵抗線間に、
前記抵抗線よりも突出し、前記炉芯管挿入方向に略直交
する回転軸を持つころを、前記炉芯管挿入方向に複数配
置したころ列を少なくとも１つ有することを特徴とす
る。

〔実施例〕

次に、本発明について、図面を参照して説明する。

第１図は、本発明の一実施例を示す構造断面図、第２
図は、炉芯管ところ列の関係を示す斜視図、第３図は、
本発明による抵抗線加熱炉に炉芯管を挿入する状態を表
す構造断面図を表している。断熱材１内周に抵抗線２を
円柱状に配置し、断熱材１内周下方に、炉芯管３をうけ
るべくころ列５を配置する。ころ列５は、第２図にみら
れるように、ころガイド６を炉芯管３長軸方向に並行に
設置し、このころガイド６に直交するべく回転軸７を設
け、この回転軸７を中心としてころ８を回転可能に設置
する。炉芯管３の挿入は、第３図に表されるように、こ
ろ列５の上に炉芯管３をのせ、スライドさせて実施す
る。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、炉芯管挿入方
向に略平行に、前記挿入方向に略直交する回転軸を持
つ、回転面が前記炉芯管接触面に略直行するべく設置さ
せた少なくとも一つのころ列を有する構造及び方式を採
用しているため、炉芯管挿入時に炉芯管と抵抗線加熱炉
との摺動を最小限に食い止め、塵埃の発生を極力抑える
ことが出来、従来のこの種の抵抗線加熱炉に比較し、よ
り清浄な状態でウェハーの熱処理を実施することが可能
な抵抗線加熱炉を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例を示す構造断面図、第２図
は、該一実施例の炉芯管と、ころ列の関係を示す斜視
図、第３図は、該一実施例の抵抗線加熱炉に炉芯管を挿
入する状態を表す構造断面図、第４図は、従来の抵抗線
加熱炉の構造断面図である。 １……断熱材、２……抵抗線、３……炉芯管、４……炉
芯管ガイド、５……ころ列、６……ころガイド、７……
回転軸、８……ころ。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】中空の断熱材の内周部に抵抗線を持ち、前
   記抵抗線で囲まれた空間内部に炉芯管を挿入する抵抗線
   加熱炉において、前記抵抗線は前記炉心管挿入方向に略
   平行に配線され、前記断熱材の内周の前記抵抗線間に、
   前記抵抗線よりも突出し、前記炉心管挿入方向に略直交
   する回転軸を持つころを、前記炉心管挿入方向に複数配
   列したころ列を少なくとも一つ有することを特徴とする
   抵抗線加熱炉。