JP2717167C - - Google Patents
Info
- Publication number
- JP2717167C JP2717167C JP2717167C JP 2717167 C JP2717167 C JP 2717167C JP 2717167 C JP2717167 C JP 2717167C
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- parts
- sio
- fine particles
- partial condensate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 56
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 37
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 26
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 17
- 239000004579 marble Substances 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N Silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N iso-propanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N Tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 230000003301 hydrolyzing Effects 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 244000269722 Thea sinensis Species 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N Methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J Titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating Effects 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion media Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000001681 protective Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006468 Thea sinensis Nutrition 0.000 description 2
- 235000020279 black tea Nutrition 0.000 description 2
- 235000012970 cakes Nutrition 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000003628 erosive Effects 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 235000009569 green tea Nutrition 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000002633 protecting Effects 0.000 description 2
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N Silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J Titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 210000002268 Wool Anatomy 0.000 description 1
- 238000005296 abrasive Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 230000001351 cycling Effects 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011068 load Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZYAPKYFYYWOKA-UHFFFAOYSA-N tetrahexyl silicate Chemical compound CCCCCCO[Si](OCCCCCC)(OCCCCCC)OCCCCCC HZYAPKYFYYWOKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTGOQZIKPDZNK-UHFFFAOYSA-N tetrapentyl silicate Chemical compound CCCCCO[Si](OCCCCC)(OCCCCC)OCCCCC KCTGOQZIKPDZNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);disulfate Chemical compound [Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はプラスチック製品、セラミック製品、ガラス製品等に耐摩耗性、耐候
性、耐熱水性等を付与する目的で、製品の表面に塗布される被覆用組成物に関す
る。 [従来の技術] 各種の被覆用組成物の中にあって、上記の目的で使用されるものとしては、有
機アルコキシシラン系の被覆用組成物が知られている。例えば、特開昭48−2
6822号公報及び特開昭51−33128号公報には、アルキルトリアルコキ
シシランとテトラアルコキシシランとの部分縮合物を主成分とする被覆用組成物
が記載されている。また、特開昭51−2736号、同53−130732号、
同55−94971号、同59−68377号、同62−79274号等の各公
報には、有機アルコキシシランの部分縮合物にコロイダルシリカが配合した被覆
用組成物が記載されている。さらにまた、特開昭55−106261号、同62
−57470号等の各公報には、シラノール又はアルコキシシランの部分縮合物
にコロイダルシリカとコロイダルチタニアを配合した組成物が記載されている。 しかし、これら従来の被覆用組成物から得られる被膜は、耐擦傷性、耐熱水性
、耐候性等の面で必ずしも満足できず、また、組成物のポットライフが短い等の
問題点があった。 ところで、床材、壁材、室内装飾材等として賞用される天然大理石は、生地の
ままであると耐候性に乏しく、汚染物質の付着によっても容易に変質し、光沢、
色調等が劣化する。このため、従来は天然大理石の表面にワックスを塗布すると
か、あるいはアクリル−シリコン樹脂又はフッ素樹脂等による保護被膜を形成さ
せるのが通例である。しかし、これらの保護被膜は耐擦傷性、耐候性の点が不充
分であるばかりでなく、天然大理石から剥離しやすい欠点があった。尚、上記し
た従来の有機アルコキシシラン系被膜用組成物は天然大理石に塗布した場合は、
被膜の密着性が貧弱であるので、天然大理石の保護には適性を欠くものである。 ここに於いて、本発明者等は特定なトリアルコキシシランとテトラアルコキシ
シランの部分縮合物にシリカ微粒子を配合することで、従来の有機アルコキシシ ラン系被覆用組成物の欠点が解消されることを見出した。そしてまた、シリカ微
粒子に加えて少量のチタニア微粒子を添加することで、当該組成物から得られる
被膜の耐酸性を一段と向上させることができ、このものは特に天然大理石の表面
保護被膜として好適であることを見出した。 [発明の構成] 本発明の被覆用組成物は、必須成分として、 (a)一般式:RSi(OR1)3[R:炭素数1〜6の炭化水素基、R1:炭素
数1〜6のアルキル基]で示されるトリアルコキシシラン100重量部と、一般
式:Si(OR2)4[R2:炭素数1〜6のアルキル基]で示されるテトラアル
コキシシラン20〜130重量部とからなる有機ケイ素化合物の部分縮合物、及
び (b)前記トリアルコキシシランをRSiO3/2として計算し、テトラアルコキ
シシランをSiO2として計算した場合に於いて、前記(a)の部分縮合物(R
SiO3/2+SiO2)100重量部に対し、0.05〜200重量部の平均粒子
径が5〜80mμのシリカ微粒子 を含有することを特徴とする。 上記トリアルコキシシランRSi(OR1)3に於いて、Rはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、フェニル基等
で例示される炭素数1〜6の炭化水素基のいずれでもよく、またR1はメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等で例示される炭
素数1〜6のアルキル基のいずれでもよい。従って、本発明のトリアルコキシシ
ランは、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメ
トキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-
プロピルトリエトキシシラン、i-プロピルトリメトキシシラン、i-プロピルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン等が包含される。本発明では上記の各トリアルコキシシ
ランを2種以上混合して使用しても差し支えない。 テトラアルコキシシランSi(OR2)4に於けるR2は、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等で例示される炭素数1〜6
の 直鎖又は分岐鎖アルキル基のいずれでもよい。従って、直鎖アルキル基を有する
テトラアルコキシシランを例示すれば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラペンチルオキ
シシラン、テトラヘキシルオキシシラン等を挙げることができる。そして、これ
らテトラアルコキシシランは2種以上混合して使用することもできる。 本発明の被覆用組成物に使用される有機ケイ素化合物の部分縮合物は、上記し
たトリアルコキシシランとテトラアルコキシシランを後述する割合で混合し、こ
の混合物を加水分解する方法により、あるいはまたトリアルコキシシランとテト
ラアルコキシシランを別々に加水分解し、しかる後それぞれの加水分解生成物を
混合する方法により調製することができる。しかし、予めテトラアルコキシシラ
ンを加水分解することで、平均分子量が好ましくは300〜700程度の部分縮
合物を調製し、この部分縮合物又はこれに相当する市販品を、所定の割合でトリ
アルコキシシランと混合し、これを加水分解することが好ましい。 いずれの方法を採用する場合でも、トリアルコキシシランとテトラアルコキシ
シランとの混合割合は、前者100重量部当り後者20〜130重量部、好まし
くは35〜70重量部であることを可とする。後者が20重量部未満では被膜の
耐擦傷性、耐熱水性が低下し、130重量部を越えると、被膜にクラックが入り
易く、また被覆用組成物自体の安定性が劣化するからである。加水分解は適当な
有機溶媒中で、水及び加水分解触媒の存在下に、約10〜90℃、好ましくは約
20〜80℃の温度範囲で行われる。この場合の有機溶媒には、アルコール類、
エーテル類、エステル類、グリコール類が使用でき、加水分解触媒としては各種
の無機酸又は有機酸が使用可能である。 本発明の被覆用組成物の第2の必須成分はシリカ微粒子である。このシリカ微
粒子には四塩化ケイ素等を加熱分解して得たシリカ粉末が使用できるほか、シリ
カ微粒子が分散媒に分散したシリカゾルを使用することができ、本発明ではシリ
カゾルの使用が好ましい。シリカゾルはヒドロゾルでもオルガノゾルでも差し支
えなく、これらはそのまま組成物に配合することができる。シリカ微粒子の平均
粒径は5〜80mμである。特に透明な被膜を得たい場合には約30mμ以下の
平均粒径を有するシリカ微粒子を使用することが推奨される。 シリカ微粒子の配合割合は、本発明の有機ケイ素化合物の部分縮合物、すなわ
ち、上記(a)成分を調製する際に使用したトリアルコキシシランをRSiO3
/2として計算し、同じくテトラアルコキシシランをSiO2として計算して(a
)成分の量を(RSiO3/2+SiO2)で算出した場合に於いて、その100重
量部当り0.05〜200重量部、好ましくは2〜50重量部の範囲にある。0
.05重量部未満では基材への密着性が良好な被膜を得ることができず、200
重量部を越えると組成物の安定性が低下し、ゲル化又は凝集し易くなる。 特に、本発明の組成物を天然大理石被覆用に用いる場合は、被膜用組成物中の
シリカ微粒子の含有量が多くなると塗膜が白化してしまうこともあるので、この
場合にはシリカ微粒子の配合量を上記の算出基準で20重量部以下とするのが望
ましい。 本発明の被覆用組成物は上記した必須2成分に加えて、チタニア微粒子を配合
することにより、その組成物から得られる被膜を酸性物質による汚染から、より
有効に保護することができる。チタニア微粒子の平均粒径は5〜150mμであ
ることが好ましく、特に透明な被膜を得たい場合には平均粒径が約30mμ以下
であることが好ましい。本発明のチタニア微粒子としては、四塩化チタン等を加
熱分解して得られるチタニア微粉末を使用できるが、チタン塩の加水分解物を酸
で解膠する方法やその他の公知の方法で得られるチタニアゾルを用いることが好
ましい。特に、本出願人が先に出願した特願昭62−252953号出願の明細
書に記載した方法で得られるチタニアゾルは、透明性に優れ、pH2〜11の範
囲で安定であり、有機溶媒との混和性も良好であるので、本発明のチタニア微粒
子供給源として好適である。ちなみに、従来のチタニアゾルは一般にアルカリ性
領域では不安定であるので、これを被覆用組成物のチタニア源に使用する場合は
、組成物を酸性に保持しなければならないが、天然大理石は酸に侵されるので、
このような組成物は天然大理石被覆用には使用できない。 チタニア微粒子の配合割合は、シリカ微粒子の場合と同様、(a)成分の量を
(RSiO3/2+SiO2)で算出した場合に於いて、その100重量部当り0.
02〜15重量部、好ましくは0.05〜10重量部の範囲にある。0.02重
量部未満ではチタニアを添加した効果が発現せず、15重量部を越えると、組成 物がゲル化又は凝集するなど安定性が低下し、塗膜の透明性を低下する。天然大
理石被覆用に組成物を使用する場合は、シリカ微粒子と同様、チタニア微粒子の
含有量が多くなると、塗膜が白化する不都合が生ずるので、天然大理石を対象と
する被覆用組成物にあっては、チタニア微粒子の配合量を上記の算出基準で1.
5重量部以下とするのがよい。 本発明の被覆用組成物の分散媒は、一般に本発明のアルコキシシラン化合物を
部分縮合物に加水分解するに際して使用された有機溶媒である。従って、この分
散媒には少量の水の共存が許される。被覆用組成物中の(a)〜(c)成分すな
わち固形分の量は、形成させようとする被膜の厚さや維成物の塗工方法を勘案し
て任意に選ぶことができるが、標準的には、本発明の被覆用組成物の固形分濃度
は、10〜30wt%程度である。また、本発明の被覆用組成物には、その使用
目的に応じてタレ止め剤、湿潤剤、硬化剤、レベリング剤等の塗料一般に使用さ
れる適当量の添加剤が配合可能である。基材への塗工は、スプレー、ロールコー
ター、ハケ塗り等任意の手段で行うことができ、塗工後は自然乾燥するか、ある
いは約40℃以下の温度で加熱乾燥することで、基材表面に目的の被膜を形成さ
せることができる。被膜の厚さは約1〜5μであれば、その被膜に所期の性能を
発揮させることが可能である。 [発明の効果] 本発明の被覆用組成物は、従来の類似品に比較して長期間安定であるばかりで
なく、基材との密着性、被膜の耐擦傷性、耐熱水性、耐候性、耐酸性等の各点に
優れ、特に天然大理石の保護膜としては、大理石との密着性及び酸性物質による
汚染に対する耐久性で優れた効果を発揮する。 [実施例] 実施例1 モノメチルトリエトキシシラン100gと、テトラメトキシシランの部分縮合
物(平均分子量470、三菱化成等の「メチルシリケート51」)37gと、イソ
プロピルアルコール130gを混合し、充分攪拌した。これに0.4wt%の酢
酸水溶液151gを添加し、50℃で60分間加熱した。こうして得た部分縮合
物を25℃まで冷却した後、平均粒径12mμのシリカ粒子がイソプロピルア ルコールに分散したSiO2濃度30wt%のシリカゾル(触媒化成工業製の「O
SCAL」)を21g添加して被覆用組成物(A)を調製した。 実施例2〜4 組成物(A)の調製において、シリカゾルの配合量及びシリカ粒子の平均粒径
を変化させた以外は、実施例1と同様にして表−1に示す被覆用組成物(B)、
(C)、(D)を調製した。 実施例5 平均粒径24mμのTiO2粒子がイソプロピルアルコールに分散したTiO2
濃度10wt%のチタニアゾル0.6gを、実施例1の被覆用組成物(A)に添
加して被覆用組成物(E)を調製した。 尚、上記のチタニアゾルは次の方法で調製した。 TiO2として0.4wt%の硫酸チタン水溶液に、15%アンモニア水をp
H8.5になるまで徐々に添加して得られた白色スラリーを濾過、洗浄し、固形
分濃度9wt%のチタニア水和物ゲルのケーキを得た。このケーキをTiO2濃
度が2.0wt%になるように純水に分散させ、しかる後、H2O2/TiO2=
4(wt/wt)になるように過酸化水素水を混合し、80℃で5時間加熱して
チタン酸水溶液を得た。 次いで、このチタン酸水溶液に平均粒径7mμ、SiO2濃度15wt%のシ
リカゾルを、TiO2/SiO2=9(wt/wt)になるように添加した。さら
に純水を加えて固形分濃度1.0wt%にした後、95℃で624時間加熱する
ことにより、平均粒径24mμのチタニア粒子の水分散ゾルを得た。このゾルに
エチルシリケートをSiO2/TiO2=0.3(wt/wt)になるように混合
し、約70℃に加熱した後、イソプロピルアルコールを加え、蒸留によって水を
留去し、イソプロピルアルコール分散チタニアゾルを調製した。 実施例6〜8 上記した組成物(E)の調製例に於いて、チタニアゾルの配合量、チタニアの
平均粒径及びシリカゾルの配合量を変えた以外は、上と同様にして表−1に示す
被覆用組成物(F)、(G)、(H)を調製した。 但し、組成物(F)に用いた平均粒径5mμのチタニアゾルは、実施例5に示 すチタニアゾル調製例に於いて、チタン酸水溶液とシリカゾルの混合液の固形分
濃度を10wt%に変更し、当該混合液の加熱温度を130℃に、加熱時間を1
1時間に変更して調製したものである。 実施例9 実施例5で使用したイソプロピルアルコール分散チタニアゾルに代えて、水分
散チタニアゾルを用いた以外は実施例5と同様にして、表−1に示す被覆用組成
物(I)を調製した。 実施例10〜11 モノメチルトリメトキシシランとテトラメトキシシテンとの混合割合を変えて
実施例5と同様な方法で表−1に示す被覆用組成物(J)、(K)を調製した。 実施例12 テトラメトキシシランの部分縮合物を平均分子量682の「メチルシリケート
53」(三菱化成製)に代えた以外は実施例5と同様にして表1に示す被覆用組
成物(L)を調製した。 実施例13 トリアルコキシシランをモノメチルトリエトキシシランに代えた以外は実施例
5と同様にして表1に示す被覆用組成物(M)を調製した。 実施例14 有機溶媒をエタノールに代えた以外は実施例5と同様な方法で表1に示す被覆
用組成物(N)を調製した。 実施例15 シリカゾルの使用量を変化させた以外は実施例5と同様な方法で表1に示す被
覆用組成物(O)を調製した。 実施例16〜17 平均粒径45mμのシリカゾル(SiO2濃度30wt%)を用いて実施例5
と同様な方法で表1に示す被覆用組成物(P)、(Q)を得た。 比較例1〜2 モノメチルトリメトキシシランとテトラメトキシシランの混合割合を変えて実
施例5と同様な方法で表1に示す被覆用組成物(R)、(S)を調製した。 被膜性能試験 上記の各実施例及び比較例で調製した被覆用組成物(A)〜(S)を、それぞ
れ天然大理石又はガラスの表面にバーコーターNo.3で塗布後、120℃で乾燥し
、膜厚2μの被膜を形成させた。なお、天然大理石は、その表面を研摩紙で研摩
後、塗布した。これらの各被膜形成試験片について、次のような試験を実施した
。 (1)密着性:セロテープを貼り付けた後、これを剥がし、被膜の剥離状況を目
視観察。 (2)耐熱水性:沸騰水中に1時間浸漬後引き上げ、セロテープを貼り付けた後
、これを剥がし、被膜の剥離状況を目視観察。 (3)耐擦傷性:500gの荷重をかけたスチールウール#0000にて100
回摩擦し、傷の有無を目視観察。 (4)冷熱サイクル:−30℃と80℃の温度の間を20回サイクルさせた後、
セロテープを貼り付け、これを剥がして被膜の外観を目視観察。 (5)耐汚染性:10%クエン酸水溶液、緑茶、紅茶(0.3gの緑茶、紅茶を
熱水30ccに5分浸したもの)及びタバスコを被膜上滴下し、室温で24時間放
置した後、水洗して外観を目視観察。 試験結果を表−2に示す。 (1)テトラアルコキシシランの()内は平均分子量。 (2)SiO2、TiO2の重量比は、アルコキシシラン部分縮合物 (RSiO3/2+SiO2)100重量部に対する重量。 (3)固形分濃度は、(RSiO3/2+SiO2)+SiO2+TiO2の含量
。 ○:良好 △:一部剥離又は侵食がみられる。 ×:剥離、又は侵食著しい。
性、耐熱水性等を付与する目的で、製品の表面に塗布される被覆用組成物に関す
る。 [従来の技術] 各種の被覆用組成物の中にあって、上記の目的で使用されるものとしては、有
機アルコキシシラン系の被覆用組成物が知られている。例えば、特開昭48−2
6822号公報及び特開昭51−33128号公報には、アルキルトリアルコキ
シシランとテトラアルコキシシランとの部分縮合物を主成分とする被覆用組成物
が記載されている。また、特開昭51−2736号、同53−130732号、
同55−94971号、同59−68377号、同62−79274号等の各公
報には、有機アルコキシシランの部分縮合物にコロイダルシリカが配合した被覆
用組成物が記載されている。さらにまた、特開昭55−106261号、同62
−57470号等の各公報には、シラノール又はアルコキシシランの部分縮合物
にコロイダルシリカとコロイダルチタニアを配合した組成物が記載されている。 しかし、これら従来の被覆用組成物から得られる被膜は、耐擦傷性、耐熱水性
、耐候性等の面で必ずしも満足できず、また、組成物のポットライフが短い等の
問題点があった。 ところで、床材、壁材、室内装飾材等として賞用される天然大理石は、生地の
ままであると耐候性に乏しく、汚染物質の付着によっても容易に変質し、光沢、
色調等が劣化する。このため、従来は天然大理石の表面にワックスを塗布すると
か、あるいはアクリル−シリコン樹脂又はフッ素樹脂等による保護被膜を形成さ
せるのが通例である。しかし、これらの保護被膜は耐擦傷性、耐候性の点が不充
分であるばかりでなく、天然大理石から剥離しやすい欠点があった。尚、上記し
た従来の有機アルコキシシラン系被膜用組成物は天然大理石に塗布した場合は、
被膜の密着性が貧弱であるので、天然大理石の保護には適性を欠くものである。 ここに於いて、本発明者等は特定なトリアルコキシシランとテトラアルコキシ
シランの部分縮合物にシリカ微粒子を配合することで、従来の有機アルコキシシ ラン系被覆用組成物の欠点が解消されることを見出した。そしてまた、シリカ微
粒子に加えて少量のチタニア微粒子を添加することで、当該組成物から得られる
被膜の耐酸性を一段と向上させることができ、このものは特に天然大理石の表面
保護被膜として好適であることを見出した。 [発明の構成] 本発明の被覆用組成物は、必須成分として、 (a)一般式:RSi(OR1)3[R:炭素数1〜6の炭化水素基、R1:炭素
数1〜6のアルキル基]で示されるトリアルコキシシラン100重量部と、一般
式:Si(OR2)4[R2:炭素数1〜6のアルキル基]で示されるテトラアル
コキシシラン20〜130重量部とからなる有機ケイ素化合物の部分縮合物、及
び (b)前記トリアルコキシシランをRSiO3/2として計算し、テトラアルコキ
シシランをSiO2として計算した場合に於いて、前記(a)の部分縮合物(R
SiO3/2+SiO2)100重量部に対し、0.05〜200重量部の平均粒子
径が5〜80mμのシリカ微粒子 を含有することを特徴とする。 上記トリアルコキシシランRSi(OR1)3に於いて、Rはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、フェニル基等
で例示される炭素数1〜6の炭化水素基のいずれでもよく、またR1はメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等で例示される炭
素数1〜6のアルキル基のいずれでもよい。従って、本発明のトリアルコキシシ
ランは、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメ
トキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-
プロピルトリエトキシシラン、i-プロピルトリメトキシシラン、i-プロピルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン等が包含される。本発明では上記の各トリアルコキシシ
ランを2種以上混合して使用しても差し支えない。 テトラアルコキシシランSi(OR2)4に於けるR2は、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等で例示される炭素数1〜6
の 直鎖又は分岐鎖アルキル基のいずれでもよい。従って、直鎖アルキル基を有する
テトラアルコキシシランを例示すれば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラペンチルオキ
シシラン、テトラヘキシルオキシシラン等を挙げることができる。そして、これ
らテトラアルコキシシランは2種以上混合して使用することもできる。 本発明の被覆用組成物に使用される有機ケイ素化合物の部分縮合物は、上記し
たトリアルコキシシランとテトラアルコキシシランを後述する割合で混合し、こ
の混合物を加水分解する方法により、あるいはまたトリアルコキシシランとテト
ラアルコキシシランを別々に加水分解し、しかる後それぞれの加水分解生成物を
混合する方法により調製することができる。しかし、予めテトラアルコキシシラ
ンを加水分解することで、平均分子量が好ましくは300〜700程度の部分縮
合物を調製し、この部分縮合物又はこれに相当する市販品を、所定の割合でトリ
アルコキシシランと混合し、これを加水分解することが好ましい。 いずれの方法を採用する場合でも、トリアルコキシシランとテトラアルコキシ
シランとの混合割合は、前者100重量部当り後者20〜130重量部、好まし
くは35〜70重量部であることを可とする。後者が20重量部未満では被膜の
耐擦傷性、耐熱水性が低下し、130重量部を越えると、被膜にクラックが入り
易く、また被覆用組成物自体の安定性が劣化するからである。加水分解は適当な
有機溶媒中で、水及び加水分解触媒の存在下に、約10〜90℃、好ましくは約
20〜80℃の温度範囲で行われる。この場合の有機溶媒には、アルコール類、
エーテル類、エステル類、グリコール類が使用でき、加水分解触媒としては各種
の無機酸又は有機酸が使用可能である。 本発明の被覆用組成物の第2の必須成分はシリカ微粒子である。このシリカ微
粒子には四塩化ケイ素等を加熱分解して得たシリカ粉末が使用できるほか、シリ
カ微粒子が分散媒に分散したシリカゾルを使用することができ、本発明ではシリ
カゾルの使用が好ましい。シリカゾルはヒドロゾルでもオルガノゾルでも差し支
えなく、これらはそのまま組成物に配合することができる。シリカ微粒子の平均
粒径は5〜80mμである。特に透明な被膜を得たい場合には約30mμ以下の
平均粒径を有するシリカ微粒子を使用することが推奨される。 シリカ微粒子の配合割合は、本発明の有機ケイ素化合物の部分縮合物、すなわ
ち、上記(a)成分を調製する際に使用したトリアルコキシシランをRSiO3
/2として計算し、同じくテトラアルコキシシランをSiO2として計算して(a
)成分の量を(RSiO3/2+SiO2)で算出した場合に於いて、その100重
量部当り0.05〜200重量部、好ましくは2〜50重量部の範囲にある。0
.05重量部未満では基材への密着性が良好な被膜を得ることができず、200
重量部を越えると組成物の安定性が低下し、ゲル化又は凝集し易くなる。 特に、本発明の組成物を天然大理石被覆用に用いる場合は、被膜用組成物中の
シリカ微粒子の含有量が多くなると塗膜が白化してしまうこともあるので、この
場合にはシリカ微粒子の配合量を上記の算出基準で20重量部以下とするのが望
ましい。 本発明の被覆用組成物は上記した必須2成分に加えて、チタニア微粒子を配合
することにより、その組成物から得られる被膜を酸性物質による汚染から、より
有効に保護することができる。チタニア微粒子の平均粒径は5〜150mμであ
ることが好ましく、特に透明な被膜を得たい場合には平均粒径が約30mμ以下
であることが好ましい。本発明のチタニア微粒子としては、四塩化チタン等を加
熱分解して得られるチタニア微粉末を使用できるが、チタン塩の加水分解物を酸
で解膠する方法やその他の公知の方法で得られるチタニアゾルを用いることが好
ましい。特に、本出願人が先に出願した特願昭62−252953号出願の明細
書に記載した方法で得られるチタニアゾルは、透明性に優れ、pH2〜11の範
囲で安定であり、有機溶媒との混和性も良好であるので、本発明のチタニア微粒
子供給源として好適である。ちなみに、従来のチタニアゾルは一般にアルカリ性
領域では不安定であるので、これを被覆用組成物のチタニア源に使用する場合は
、組成物を酸性に保持しなければならないが、天然大理石は酸に侵されるので、
このような組成物は天然大理石被覆用には使用できない。 チタニア微粒子の配合割合は、シリカ微粒子の場合と同様、(a)成分の量を
(RSiO3/2+SiO2)で算出した場合に於いて、その100重量部当り0.
02〜15重量部、好ましくは0.05〜10重量部の範囲にある。0.02重
量部未満ではチタニアを添加した効果が発現せず、15重量部を越えると、組成 物がゲル化又は凝集するなど安定性が低下し、塗膜の透明性を低下する。天然大
理石被覆用に組成物を使用する場合は、シリカ微粒子と同様、チタニア微粒子の
含有量が多くなると、塗膜が白化する不都合が生ずるので、天然大理石を対象と
する被覆用組成物にあっては、チタニア微粒子の配合量を上記の算出基準で1.
5重量部以下とするのがよい。 本発明の被覆用組成物の分散媒は、一般に本発明のアルコキシシラン化合物を
部分縮合物に加水分解するに際して使用された有機溶媒である。従って、この分
散媒には少量の水の共存が許される。被覆用組成物中の(a)〜(c)成分すな
わち固形分の量は、形成させようとする被膜の厚さや維成物の塗工方法を勘案し
て任意に選ぶことができるが、標準的には、本発明の被覆用組成物の固形分濃度
は、10〜30wt%程度である。また、本発明の被覆用組成物には、その使用
目的に応じてタレ止め剤、湿潤剤、硬化剤、レベリング剤等の塗料一般に使用さ
れる適当量の添加剤が配合可能である。基材への塗工は、スプレー、ロールコー
ター、ハケ塗り等任意の手段で行うことができ、塗工後は自然乾燥するか、ある
いは約40℃以下の温度で加熱乾燥することで、基材表面に目的の被膜を形成さ
せることができる。被膜の厚さは約1〜5μであれば、その被膜に所期の性能を
発揮させることが可能である。 [発明の効果] 本発明の被覆用組成物は、従来の類似品に比較して長期間安定であるばかりで
なく、基材との密着性、被膜の耐擦傷性、耐熱水性、耐候性、耐酸性等の各点に
優れ、特に天然大理石の保護膜としては、大理石との密着性及び酸性物質による
汚染に対する耐久性で優れた効果を発揮する。 [実施例] 実施例1 モノメチルトリエトキシシラン100gと、テトラメトキシシランの部分縮合
物(平均分子量470、三菱化成等の「メチルシリケート51」)37gと、イソ
プロピルアルコール130gを混合し、充分攪拌した。これに0.4wt%の酢
酸水溶液151gを添加し、50℃で60分間加熱した。こうして得た部分縮合
物を25℃まで冷却した後、平均粒径12mμのシリカ粒子がイソプロピルア ルコールに分散したSiO2濃度30wt%のシリカゾル(触媒化成工業製の「O
SCAL」)を21g添加して被覆用組成物(A)を調製した。 実施例2〜4 組成物(A)の調製において、シリカゾルの配合量及びシリカ粒子の平均粒径
を変化させた以外は、実施例1と同様にして表−1に示す被覆用組成物(B)、
(C)、(D)を調製した。 実施例5 平均粒径24mμのTiO2粒子がイソプロピルアルコールに分散したTiO2
濃度10wt%のチタニアゾル0.6gを、実施例1の被覆用組成物(A)に添
加して被覆用組成物(E)を調製した。 尚、上記のチタニアゾルは次の方法で調製した。 TiO2として0.4wt%の硫酸チタン水溶液に、15%アンモニア水をp
H8.5になるまで徐々に添加して得られた白色スラリーを濾過、洗浄し、固形
分濃度9wt%のチタニア水和物ゲルのケーキを得た。このケーキをTiO2濃
度が2.0wt%になるように純水に分散させ、しかる後、H2O2/TiO2=
4(wt/wt)になるように過酸化水素水を混合し、80℃で5時間加熱して
チタン酸水溶液を得た。 次いで、このチタン酸水溶液に平均粒径7mμ、SiO2濃度15wt%のシ
リカゾルを、TiO2/SiO2=9(wt/wt)になるように添加した。さら
に純水を加えて固形分濃度1.0wt%にした後、95℃で624時間加熱する
ことにより、平均粒径24mμのチタニア粒子の水分散ゾルを得た。このゾルに
エチルシリケートをSiO2/TiO2=0.3(wt/wt)になるように混合
し、約70℃に加熱した後、イソプロピルアルコールを加え、蒸留によって水を
留去し、イソプロピルアルコール分散チタニアゾルを調製した。 実施例6〜8 上記した組成物(E)の調製例に於いて、チタニアゾルの配合量、チタニアの
平均粒径及びシリカゾルの配合量を変えた以外は、上と同様にして表−1に示す
被覆用組成物(F)、(G)、(H)を調製した。 但し、組成物(F)に用いた平均粒径5mμのチタニアゾルは、実施例5に示 すチタニアゾル調製例に於いて、チタン酸水溶液とシリカゾルの混合液の固形分
濃度を10wt%に変更し、当該混合液の加熱温度を130℃に、加熱時間を1
1時間に変更して調製したものである。 実施例9 実施例5で使用したイソプロピルアルコール分散チタニアゾルに代えて、水分
散チタニアゾルを用いた以外は実施例5と同様にして、表−1に示す被覆用組成
物(I)を調製した。 実施例10〜11 モノメチルトリメトキシシランとテトラメトキシシテンとの混合割合を変えて
実施例5と同様な方法で表−1に示す被覆用組成物(J)、(K)を調製した。 実施例12 テトラメトキシシランの部分縮合物を平均分子量682の「メチルシリケート
53」(三菱化成製)に代えた以外は実施例5と同様にして表1に示す被覆用組
成物(L)を調製した。 実施例13 トリアルコキシシランをモノメチルトリエトキシシランに代えた以外は実施例
5と同様にして表1に示す被覆用組成物(M)を調製した。 実施例14 有機溶媒をエタノールに代えた以外は実施例5と同様な方法で表1に示す被覆
用組成物(N)を調製した。 実施例15 シリカゾルの使用量を変化させた以外は実施例5と同様な方法で表1に示す被
覆用組成物(O)を調製した。 実施例16〜17 平均粒径45mμのシリカゾル(SiO2濃度30wt%)を用いて実施例5
と同様な方法で表1に示す被覆用組成物(P)、(Q)を得た。 比較例1〜2 モノメチルトリメトキシシランとテトラメトキシシランの混合割合を変えて実
施例5と同様な方法で表1に示す被覆用組成物(R)、(S)を調製した。 被膜性能試験 上記の各実施例及び比較例で調製した被覆用組成物(A)〜(S)を、それぞ
れ天然大理石又はガラスの表面にバーコーターNo.3で塗布後、120℃で乾燥し
、膜厚2μの被膜を形成させた。なお、天然大理石は、その表面を研摩紙で研摩
後、塗布した。これらの各被膜形成試験片について、次のような試験を実施した
。 (1)密着性:セロテープを貼り付けた後、これを剥がし、被膜の剥離状況を目
視観察。 (2)耐熱水性:沸騰水中に1時間浸漬後引き上げ、セロテープを貼り付けた後
、これを剥がし、被膜の剥離状況を目視観察。 (3)耐擦傷性:500gの荷重をかけたスチールウール#0000にて100
回摩擦し、傷の有無を目視観察。 (4)冷熱サイクル:−30℃と80℃の温度の間を20回サイクルさせた後、
セロテープを貼り付け、これを剥がして被膜の外観を目視観察。 (5)耐汚染性:10%クエン酸水溶液、緑茶、紅茶(0.3gの緑茶、紅茶を
熱水30ccに5分浸したもの)及びタバスコを被膜上滴下し、室温で24時間放
置した後、水洗して外観を目視観察。 試験結果を表−2に示す。 (1)テトラアルコキシシランの()内は平均分子量。 (2)SiO2、TiO2の重量比は、アルコキシシラン部分縮合物 (RSiO3/2+SiO2)100重量部に対する重量。 (3)固形分濃度は、(RSiO3/2+SiO2)+SiO2+TiO2の含量
。 ○:良好 △:一部剥離又は侵食がみられる。 ×:剥離、又は侵食著しい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)(a)一般式:RSi(OR1)3[R:炭素数1〜6の炭化水素基、R1
:炭素数1〜6のアルキル基]のトリアルコキシシラン100重量部と、一般式
:Si(OR2)4[R2:炭素数1〜6のアルキル基]のテトラアルコキシシラン
20〜130重量部とからなる有機ケイ素化合物の部分縮合物、 (b)トリアルコキシシランをRSiO3/2として計算し、テトラアルコキシシ
ランをSiO2として計算した前記(a)の部分縮合物(RSiO3/2+SiO2
)100重量部に対し、0.05〜200重量部の平均粒子径が5〜80mμの
シリカ微粒子 を含有することを特徴とする被覆用組成物。 (2)特許請求の範囲第1項の被覆組成物において、(a)の部分縮合物及び(
b)のシリカ微粒子に加え、さらに(c)チタニア微粒子を前記(a)の部分縮
合物(RSiO3/2+SiO2)100重量部に対し、0.02〜15重量部含有
することを特徴とする被覆用組成物。 (3)(a)一般式:RSi(OR1)3[R:炭素数1〜6の炭化水素基、R1
:炭素数1〜6のアルキル基]のトリアルコキシシラン100重量部と、一般式
:Si(OR2)4[R2:炭素数1〜6のアルキル基]のテトラアルコキシシラ
ン20〜130重量部とからなる有機ケイ素化合物の部分縮合物、 (b)トリアルコキシシランをRSiO3/2として計算し、テトラアルコキシシ
ランをSiO2として計算した前記(a)の部分縮合物(RSiO3/2+SiO2
)100重量部に対し、2〜50重量部の平均粒子径が5〜80mμのシリカ微
粒子、及び (c)前記(a)の部分縮合物(RSiO3/2+SiO2)100重量部に対し、
0.02〜1.5重量部のチタニア微粒子 を含有する透明膜にて表面を被覆した透明被膜形成大理石。
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1153257A (en) | Method for rendering non-ferrous metals corrosion resistant | |
TW575401B (en) | Antifouling agents, their production and use, and antifouling coatings produced therefrom | |
TWI422653B (zh) | 塗料組合物 | |
JP2730552B2 (ja) | コーティング組成物 | |
JP2004521988A (ja) | シラン類および金属アルコレート類から製造される非水性コーテイング組成物 | |
TW200416262A (en) | Coating composition | |
CA2594688A1 (en) | A binder composition | |
JPH10330646A (ja) | 水性無機質塗料用組成物および塗膜形成方法 | |
CN112625470A (zh) | 一种常温固化无机涂料及其制备方法 | |
JP2717167B2 (ja) | 被覆用組成物 | |
JPH0786183B2 (ja) | 被覆用塗料組成物 | |
JP3987505B2 (ja) | 表面処理剤、表面処理方法及び該方法により処理された物品 | |
JP2717167C (ja) | ||
JPH05140507A (ja) | コーテイング用組成物 | |
JP2002308664A (ja) | 無機系硬化性組成物および無機塗料 | |
JP2589360B2 (ja) | 大理石表面塗布用下地剤および被覆大理石 | |
JP3761747B2 (ja) | 塗装構成体 | |
JP2000212473A (ja) | コ―ティング組成物 | |
JPH0649412A (ja) | コーティング組成物 | |
JPH01163276A (ja) | 硬質被膜形成組成物 | |
JP2005113023A (ja) | 光触媒含有ケイ素組成物 | |
JP5619836B2 (ja) | 粉塵付着防止剤 | |
JP4489569B2 (ja) | つや出し剤組成物 | |
JPH08229502A (ja) | ステンレス塗装構成体、及びその製造方法 | |
JP2759178B2 (ja) | コーティング用組成物 |