JP2705979B2 - 燐を含有するl―アミノ酸、該アミノ酸のエステル及びn―誘導体の製法 - Google Patents

燐を含有するl―アミノ酸、該アミノ酸のエステル及びn―誘導体の製法

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明の対象は、一般式 I (式中 R1及びR2は互いに関係なく水素;置換されていないか
あるいはハロゲン又は(C6〜C10)−アリールにより1
回又は多数回置換されている(C1〜C6)−アルキル;又
は(C3〜C10)−シクロアルキルを意味し、 R3は水素;置換されていないかあるいは1回又は多数
回ハロゲンにより及び/又は1回ヒドロキシにより置換
されている(C1〜C6)−アルキル;又は1回又は多数回
ハロゲン又は(C1〜C6)−アルキルによりあるいは1回
(C6〜C10)−アリール、(C1〜C6)−アルコキシ、又
は(C6〜C13)−アリールにより置換されている(C1〜C
6)−アルコキシにより置換されていることができる(C
1〜C10)−アシルを意味し、 R4は水素、又は置換されていないかあるいは1回又は
多数回ハロゲンにより置換されている1−ヒドロキシ−
(C1〜C6)−アルキルを意味し、 R5はヒドロキシ、(C1〜C6)−アルコキシ、アミノ、
Ala−Ala−OR6又はAla−Leu−OR6を意味し、 R6は水素、(C1〜C6)−アルキル又はベンジルを意味
し、 nは零又は1の数を意味しそして mは、R2が水素でない場合には零の数を意味し、その
他の場合は1を意味する) で示される燐を含有するL−アミノ酸又はその塩を製造
するに当たり、 a) 一般式 II (式中R1、R2は上記の意味を有するが、但し、nが1で
ある場合には、R1は水素であってはならない) で示される化合物を一般式III (式中 R3′は水素以外のR3の意味を有しそして R7はH、(C1〜C5)−アルキルを意味し、該アルキル
は1回又は多数回ハロゲンにより置換されていることが
できる) で示される化合物と触媒量のラジカル形成剤の存在下反
応させそして b) 得られる一般式 IV (式中R1、R2、R3′、R7、m及びnは上記の意味を有す
る) で示される中間生成物をHCl、アルカリ水酸化物、アル
カリアルコレート、NH3、H−Ala−Ala−OR6又はH−Al
a−Lue−OR6(式中R6は水素以外の上記意味を有する)
と反応させ、得られる一般式Iの化合物を場合により常
法で誘導体とすることを特徴とする方法である。
(C6〜C10)−アリールとは上記の定義に於いて特に
フェニル又はナフチルと解される。
(C6〜C13)−アリールは、特にフェニル、ナフチル
又はフルオレニルを意味する。R3に於いて挙げた置換さ
れたアシル残基の例は、ジクロル−、トリクロル−又は
トリフルオルアセチル、ベンジルオキシカルボニル、フ
ルオレニルメトキシカルボニル、ナフチルトキシカルボ
ニルである。
一般式Iの化合物は、例えば「Bull.Chem.Soc.」日本
60,1761(1987),ドイツ特許出願公開第2 856 260号公
報及び「Sci.Rep.」明治製菓会社 13,34(1973)から
公知である。そこではその除草性、殺カビ性及び抗ヴイ
ーナス性も記載されている。後者の性質は特にL−2−
アミノ−4−ホスホノ−酪酸に云える。更に、L−3−
アミノ−3−カルボキシプロパン−亜ホスホン酸は当該
除草剤の醗酵による製造の際の重要な中間体である(J.
Antibiotics 36,96(1983)。
一般式Iで示される化合物のなかで、R1(O)がCH
3又はC2H5を、R2(O)がOHを、R3及びR4がHを、R5
がOH、Ala−Ala−OH又はAla−Leu−OHを意味する化合物
並びにその塩が強調されるべきである。除草剤グルホシ
ネート(4−〔ヒドロキシ(メチル)−ホスフィノイ
ル〕−ホモアラニンは特に重要である(「Pesticide M
anual」、第8版(1987)、第448頁)。
ドイツ特許出願公開第2856260号公報によると、グル
ホシネートL−異性体の除草作用はラセミ化合物の除草
作用の2倍大である。それ故L−異性体の使用は明らか
な利益を提供する。
本発明による方法は、L−異性体の95%の含有率に相
当する、90%以上の高い光学的収率で一般式IのL−異
性体を与える。
従来、高い光学的純度を有する燐含有L−アミノ酸は
経費のかかる酵素によるラセミ体分離法によってしか得
ることができなかった(ドイツ特許出願公開第2939269
号及び第3048612号公報)。
それと並んで、光学的対掌体選択的合成を使用する方
法も確かに公知であるが、併しこれらは種々な欠点を有
する。
例えば欧州特許出願公開第127429号公報中に記載の、
キラルシッフ塩基の光学的対掌体選択的アルキル化は最
高でも71%の光学的収率しか与えず、一方ドイツ特許出
願公開第3609818号公報中に記載の、2,3−デヒドロアミ
ノ酸の非対称水素添加は入手し難い出発材料から出発す
る。
それと並んで複素環式先駆物質から出発する2種の方
法が公知である(ドイツ特許出願公開第3542645号及び
第3525267号公報)。
併しこれらの方法は、当該複素環式出発化合物は経費
のかかる多段階式合成工程に於いてしか製造できないと
云う欠点を有し、一方本発明による方法の一般式IIIの
出発化合物は、容易に入手されるL−グルタミン酸から
工業的製造プロセスにおいても簡単に製造することがで
きる。
本発明による方法の工程a)は、50℃乃至200℃、殊
に70℃乃至140℃の温度範囲に於いて実施される。
ラジカル形成剤としては、50℃〜200℃の温度範囲に
於いてラジカルを形成する、全ての公知化合物が考慮さ
れる。
この様な化合物の例は次の通りである: 有機過酸化物、例えばジ−第三ブチルペルオキシド又
はジベンゾイルペルオキシド;カルボン酸ペルエステ
ル、例えば第三ブチルペルピバレート、第三ブチルペル
オクトエート、第三アミルペルピバレート、第三ブチル
ペルネオデカノエート又は第三アミルペルネオデカノエ
ート;又は脂肪族アゾ化合物、例えばアゾビスイソブチ
ロニトリル。
化学的ラジカル形成剤の代わりに、ラジカル形成に導
く高エネルギー輻射線、例えばUV−、γ−又はX線も使
用することができる。同様に触媒は2種又は多種の上記
ラジカル形成剤の混合物からなることができる。
工程a)は、一般に一般式IIIの不飽和化合物を1〜1
0倍量、好ましくは1.5〜4倍過剰の一般式IIのホスフィ
ン化合物と共に、溶剤なしに又は不活性な高沸点溶剤、
例えばトルエン又はキシレンの存在下反応温度に加温
し、そして一般式IIIの成分に対し0.1乃至20モル%、併
し好ましくは0.5乃至10モル%のラジカル形成性触媒に
加える様に実施される。
別の方法は、一般式IIのホスフィン化合物を先ず仕込
み、反応温度に加温し、不飽和化合物III及び触媒の混
合物を、場合により不活性の高沸点溶剤中に溶解して、
加えることからなる。
望ましくない副反応を避けるために、反応を保護ガス
ふん囲気中で実施することが有利である。保護ガスとし
て窒素、アルゴン又は二酸化炭素が使用される。
反応の完結後、過剰で存在するホスフィン成分IIは、
場合により溶剤と共に、公知方法、例えば反応生成物の
蒸溜により分離される。粗反応生成物は公知の方法、例
えばクロマトグラフィーにより更に精製することができ
る。
驚くべきことに、上記の反応条件の場合に、置換ビニ
ル化合物IIIのラジカル重合が行われず、一般式IVの中
間生成物への円滑な反応が行われる(G.Henrici−Oliv
e,S.Olive:Polymerisation,第1頁以下、Verlag Chemi
e,Weinheim(1969)参照)。
更に、化合物IIIの二重結合への成分IIのレジオ選択
的付加が行われることは予期され得なかった。なぜなら
ば類似の反応において異性体混合物の生成が認められた
からである(Tetrahedron Letters 1984, 4737参
照)。
更に比較的高い反応温度にも拘わらずラセミ化が起こ
らないことは注目に値する。
一般式IIIの化合物は、Tetrahedron Letters 25, 1
425(1984)から公知であるか、又はそこに記載の方法
により製造することができる。その製造は入手が容易な
L−グルタミン酸から行われる。
一般式IIの化合物は、Houben−Weyl,Methoden der
organischen Chemie,第XII/1巻、第1頁、第5頁、第1
93頁及び第294頁(1963),Georg−Thieme−Verlag,Stut
tgart中に記載されている。
工程b)に於いてHClを使用する場合、アミノ酸(R5
=OH)がその塩酸塩の形で得られる。
特に水性の3N〜12NのHCl、殊に5N〜10NのHClが使用さ
れる。
有利には一般式IVの化合物を水性塩酸中に溶解し、数
時間90℃乃至130℃に加熱する。次いで、残基R3、R4
は場合によりR1、R2が分離するために生じる生成物を除
去するために、この酸性水性溶液を水とは混和し得ない
溶剤、例えばトルエン、キシレン、ジクロルメタン又は
メチルイソブチルケトンで抽出する。この水性溶液を完
全に蒸発濃縮し、粗生成物を場合により公知の手段、例
えば再結晶又はイオン交換により精製する。所望なら、
この様に得られる、一般式Iの化合物の塩酸塩を常法で
遊離アミノ酸に変えることができる。
驚くべきことに、類似の1,3−オキサゾリン−5−オ
ン−化合物においてはラセミ化が起こることが周知であ
るのに対し(Houben−Weyl,第XV/1巻、第35頁以下)、
本発明による行程b)においてはラセミ化は起きない。
望ましくない副反応を避けるために、工程b)の場合
にも有利には保護ガス雰囲気、例えばアルゴン、窒素又
は二酸化炭素の下で反応を実施する。
アルカリ金属水酸化物、例えばNaOH、KOH又はアルカ
リアルコレートによるアルカリ加水分解は、Chem.Phar
m、Bull.17, 1679(1969)中に記載の方法に類似して
行われる。
一般式IVの化合物とアンモニア、Ala−Leu−OR6又はA
la−Leu−OR6との反応は常法(Houben−Weyl XV/2,第91
頁以下)で行われる。
得られる一般式Iの化合物は公知の方法によりその塩
に変えることができ、又は残基R1、R2、R3、R4、R5又は
R6を適当な方法で分離することができる。
塩形成は当業者にとって周知の方法により行われる。
化合物Iの塩はドイツ特許出願公開第2856260号公報か
ら公知である。
残基R1、R2、R3、R4、R5又はR6の分離反応はそれ自体
公知である。
R3が−COOCH2C6H5をそしてR6がCH2C6H5を意味する場
合には、分離は例えば接触水素添加により行われる。残
基R1(n=1に関して)又はR2(m=1に関して)の分
離は、アセトニトリル中で鉱酸又は特殊な反応薬剤、例
えば沃化ナトリウム/トリメチルクロルシランを用いて
(Houben−Weyl E2,第312頁以下及び第322頁以下)又
はブロムトリメチルシラン(Tetrahedron Letters 19
77,155)により行われる。
一般式IVの中間化合物は新規であり、それ故同様に本
発明の対象である。
次の例は本発明を説明するためのものである。
A.中間生成物の製造(工程 a) 例 1 L−3−ベンジルオキシカルボニル−4[2−〔イソア
モキシ(メチル)ホスフィニル〕−エチル]−1,3−オ
キサゾリジン−5−オン メタン亜ホスホン酸イソアミルエステル5.0g(0.033
モル)をアルゴン雰囲気下で90℃に加熱し、キシレン4m
l中のL−3−ベンジルオキシカルボニル−4−ビニル
−1,3−オキサゾリジン−5−オン 2.7g(0.011モル)
及び第三ブチルペルネオデカノエート 0.024g(0.00011
モル)の溶液を10分以内に滴加する。添加終結後、なお
60分間90℃に於いて撹拌し続け、次に過剰のメタン亜ホ
スホン酸イソアミルエステルを高度減圧下に留出する。
粗生成物をシリカゲルに於けるクロマトグラフィーによ
り精製する(溶離剤:ジクロルメタン/メタノール)。
L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−〔イソ
アモキシ(メチル)ホスフィニル〕−エチル]−1,3−
オキサゾリジン−5−オン 0.8g(理論値の18.3%)が
無色油として得られる。
31P−NMR(CDCl3):52.710 ▲〔α〕23 D▼:74.4゜(CHCl3中 c=0.46) 例 2 L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−〔イソ
ブトキシ(メチル)ホスフィニル〕−エチル]−1,3−
オキサゾリジン−5−オン L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−ビニル−1,
3−オキサゾリジン−5−オン 2.0g(0.008モル)及び
メタン亜ホスホン酸イソブチルエステル3.2g(0.024モ
ル)をキシレン6ml中に溶解し、アルゴン雰囲気下で125
℃に加熱する。この熱い反応混合物中に第三ブチルペル
エチルヘキサノエート 0.022g(0.0001モル)を滴加す
る。30分及び60分後、再び夫々第三ブチルペルエチルヘ
キサノエート 0.022g(0.0001モル)をそれぞれ滴加す
る。
最後の添加後、なお60分後125℃に於いて撹拌する。
過剰のメタン亜ホスホン酸イソブチルエステルを高度減
圧下に留出し、粗生成物をシリカゲルに於いてクロマト
グラフィー処理を施す(溶離剤:ジクロルメタン/メタ
ノール)。L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−
[2−〔イソブトキシ(メチル)ホスフィニル〕−エチ
ル]−1,3−オキサゾリジン−5−オン 2.20g(理論値
の71.1%)が無色油として得られる。
1H−NMR(CDCl3):0.93(d,J=7Hz,6H)、1.43(d,J
=14Hz,3H)、1.68〜2.38(m,5H)、3.72(t,J=7Hz,2
H)、4.38(t,J=5,5Hz,1H)、5.19(s,2H)、5.24(d,
J=5Hz,1H)、5.53(d,J=5Hz,1H)、7.38(s,5H) 31P−NMR(CDCl3):52.852 ▲〔α〕19.5 D▼:72.6゜(CHCl3中 c=0.67) C18H26NO6P(383.373)計算値:C 56.4 H 6.8 N 3.6 実測値:C 56.3 H 6.8 N 3.6 例 3 L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−〔エト
キシ(メチル)ホスフィニル〕−エチル]−1,3−オキ
サゾリジン−5−オン メタン亜ホスホン酸エチルエステル2.0g(0.0182モ
ル)をアルゴン雰囲気下で120℃に加熱し、キシレン4ml
中のL−3−ベンジルオキシカルボニル−4−ビニル−
1,3−オキサゾリジン−5−オン 1.5g(0.006モル)及
び第三ブチルペルエチルヘキサノエート0.032g(0.0001
5モル)の溶液を15分以内に滴加する。添加終結後、な
お70分間120℃に於いて撹拌し続け、次に過剰のメタン
亜ホスホン酸エチルエステルを高度減圧下に留出する。
粗生成物をシリカゲルに於けるクロマトグラフィーによ
り精製する(溶離剤:ジクロルメタン/メタノール)。
L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−〔エト
キシ(メチル)ホスフィニル〕−エチル]−1,3−オキ
サゾリジン−5−オン 2.1g(理論値の97.4%)が無色
油として得られる。
1H−NMR(CDCl3):1.30(t,J=7Hz,3H)、1.43(d,J
=14Hz,3H)、1.57〜2.48(m,4H)、4.03(五重線,J=7
Hz,2H)、4.37(t,J=5,5Hz,1H)、5.19(s,2H)、5.24
(d,J=5Hz,1H)、5.53(d,J=5Hz,1H)、7.40(s,5H) 31P−NMR(CDCl3):52.780 ▲〔α〕23 D▼:79.7゜(CHCl3中 c=0.49) 例 4 L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−〔シク
ロヘキシルオキシ(メチル)ホスフィニル〕−エチル]
−1,3−オキサゾリジン−5−オン メタン亜ホスホン酸シクロヘキシルエステルの使用
下、例3に相当する手順により、L−3−ベンジルオキ
シカルボニル−4−[2−〔シクロヘキシルオキシ(メ
チル)ホスフィニル〕エチル]−1,3−オキサゾリジン
−5−オンが理論値の89.0%の量で無色油として得られ
る。
1H−NMR(CDCl3):1.10〜2.45(m,14H)に重畳した1.
43(d,J=14Hz,3H)、4.37(t,J=5.5Hz,1H)、5.19
(s,2H)、5.23(d,J=5Hz,1H)、5.52(d,J=5Hz,1
H)、7.38(s,5H) 31P−NMR(CDCl3):51.364 ▲〔α〕23 D▼:69.4゜(CHCl3中 c=0.59) 例 5 L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−(ジメ
チルホスフィニル)エチル]−1,3−オキサゾリジン−
5−オン ジメチルホスファンオキシド2.6g(0.033モル)をア
ルゴン雰囲気下で120℃に加熱し、キシレン4.5ml中のL
−3−ベンジルオキシカルボニル−4−ビニル−1,3−
オキサゾリジン−5−オン 2.7g(0.011モル)及び第三
ブチルペルエチルヘキサノエート0.040g(0.00018モ
ル)の溶液を10分以内に滴加する。添加終結後、なお55
分間120℃に於いて撹拌し続け、次に過剰のジメチルホ
スファンオキシドを高度減圧下に留出する。粗生成物を
シリカゲルに於けるクロマトグラフィーにより精製する
(溶離剤:ジクロルメタン/メタノール)。L−3−ベ
ンジルオキシカルボニル−4−[2−(ジメチルホスフ
ィニル)エチル]−1,3−オキサゾリジン−5−オン 2.
20g(理論値の62.0%)が無色油として得られる。
1H−NMR(CDCl3):1.30〜2.50(m,14H)に重畳した1.
44(d,J=14Hz,6H)、4.35(t,J=5,5Hz,1H)、5.18
(s,2H)、5.24(d,J=5Hz,1H)、5.50(d,J=5Hz,1
H)、7.35(s,5H) 31P−NMR(CDCl3):42.170 ▲〔α〕23 D▼:81.7゜(CHCl3中 c=0.4) 例 6 L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−(ジイ
ソプロポキシホスフィニル)−エチル]−1,3−オキサ
ゾリジン−5−オン ジイソプロピルホスフィット5.1g(0.031モル)をア
ルゴン雰囲気下で120℃に加熱し、キシレン4ml中のL−
3−ベンジルオキシカルボニル−4−ビニル−1,3−オ
キサゾリジン−5−オン 1.9g(0.0077モル)及び第三
ブチルペルエチルヘキサノエート0.12g(0.00055モル)
の溶液を25分以内に滴加する。混合物を60分間120℃に
於いて撹拌し、次に再び第三ブチルペルエチルヘキサノ
エート0.12g(0.00055モル)を添加し、更に60分間120
℃に於いて撹拌する。過剰のジイソプロピルホスフィッ
ト及び溶剤を高度減圧下に留出する。粗生成物をシリカ
ゲルに於けるクロマトグラフィーにより精製する(溶離
剤:ジクロルメタン/メタノール)。
L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−(ジ
イソプロポキシホスフィニル)−エチル]−1,3−オキ
サゾリジン−5−オン 1.95g(理論値の61.4%)が無色
油として得られる。
1H−NMR(CDCl3):1.30(d,J=6Hz,12H)、1.47〜2.4
5(m,4H)、4.36(t,J=5,5Hz,1H)、5.66(m,2H)、5.
18(s,2H)、5.23(d,J=5Hz,1H)、5.53(d,J=5Hz,1
H)、7.37(s,5H) 31P−NMR(CDCl3):27.645 ▲〔α〕21 D▼:56.6゜(CHCl3中 c=0.59) L−2−メチル−3−ベンジルオキシカルボニル−4
−ビニル−1,3−オキサゾリジン−5−オンから出発さ
せて一般式IVの次の化合物を得ることができる: B.目的生成物の製造(工程b) 例 10 L−ホモアラニン−4−イル(メチル)ホスフィン酸ヒ
ドロクロリド L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−〔イ
ソブトキシ(メチル)ホスフィニル〕エチル]−1,3−
オキサゾリジン−5−オン1.84g(0.0048モル)を6N塩
酸60ml中に取り込み、窒素雰囲気の下に6時間還流させ
ながら加熱する。その水性反応混合物を3回夫々20mlの
ジクロルメタンで抽出し、僅かな活性炭を加え、短時間
沸とうさせ、活性炭のろ別後に濃縮乾固する。一緒にし
たジクロルメタン−抽出物を廃棄する。この様にしてL
−ホモアラニン−4−イル(メチル)ホスフィン酸ヒド
ロクロリド 0.95g(理論値の91.0%)が薄帯黄色粉末と
して得られ、その1H−NMR−スペクトルにより同定され
る。
1H−NMR(D2O):1.55(d,J=14Hz,3H)、1.71〜2.43
(m,4H)、4.16(t,J=5,5Hz,1H) HPLC−法[J.Chromatogr.368,413(1986)]を用いて
測定された光学的対掌体過剰は97.4%eeである。
例 11 L−ホモアラニン−4−イル(メチル)ホスフィン酸 L−2−メチル3−ベンジルオキシカルボニル−4−
[2−〔エトキシ(メチル)ホスフィニル〕−エチル]
−1,3−オキサゾリジン−5−オンから出発させて例10
に類似して97.0%eeの光学的掌体過剰を有するL−ホモ
アラニン−4−イル(メチル)ホスフィン酸ヒドロクロ
リドが理論値の91.1%の量で得られ、これを常法で約2
倍モル量の酸化プロペンと反応させて遊離アミノ酸に変
える。
1H−NMR(D2O):1.38(d,J=14Hz,3H)、1.50〜2.35
(m,4H)、3.97(t,J=5,5Hz,1H) 融点=208〜211℃(分解) 〔α〕19=16.1゜(H2O中c=0.70) これは、光学的に純粋なL−ホモアラニン−4−イル
(メチル)ホスフィン酸の▲〔α〕23 D▼=17.0゜(H2O
2中c=1.00)(Sci.Reports、明治製菓会社 13,42(1
973))に対し少なくとも94.7%の光学的収率に相当す
る。
例 12 L−2−アミノ−4−ホスホノ酪酸 L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−(ジ
イソプロポキシホスフィニル)エチル]−1,3−オキサ
ゾリジン−5−オン(例6)1.15g(0.0028モル)を6N
塩酸25ml中に溶解し、窒素雰囲気の下に10時間還流させ
ながら加熱する。この水性反応混合物を3回夫々15mlの
ジクロルメタンで抽出し、僅かな活性炭を加え、短時間
沸とうさせ、活性炭のろ別後に濃縮乾固する。一緒にし
た有機抽出物を廃棄する。L−2−アミノ−4−ホスホ
ノ酪酸ヒドロクロリド 0.52g(84.6%)がガラス様に凝
固する固体として得られ、これをエタノール/水15ml中
に採取する。酸化プロペン 0.5ml[約0.42g(0.0072モ
ル)]の添加によりL−2−アミノ−4−ホスホノ酪酸
0.24g(理論値の46.8%)が得られる。
1H−NMR(D2O):1.50〜2.37(m,4H)、4.00(t,J=5,
5Hz,1H) ▲〔α〕20 D▼:16.7゜(6N HCl中c=0.55) 例 13 L−4−ジメチルホスフィニル−2−アミノ酪酸ヒドロ
クロリド 例12に類似してL−3−ベンジルオキシカルボニル−
4−[2−(ジメチルホスフィニル)エチル]−1,3−
オキサゾリジン−5−オン(例5)から出発させてL−
4−ジメチルホスフィニル−2−アミノ酪酸ヒドロクロ
リドが理論値の95.7%の量でガラス様に凝固する固体と
して得られる。
▲〔α〕20 D▼:15.0゜(1N HCl中 c=0.65) 例 14 L−(N−ベンジルオキシカルボニル)−ホモアラニン
−4−イル(メチル)ホスフィン酸イソブチルエステル L−3−ベンジルオキシカルボニル−4−[2−〔イ
ソブトキシ(メチル)ホスフィニル〕エチル]−1,3−
オサゾリジン−5−オン(例2)2.10g(0.0055モル)
をテトラヒドロフラン11ml中に溶解し、1N苛性ソーダ液
11mlを加える。この混合物を1時間室温で撹拌し、引き
続いて水流ポンプによる減圧下に濃縮する。残留物を1N
塩酸11mlの添加により酸性にし、この水性溶液を3回夫
々20mlのジクロルメタンで抽出する。一緒にした有機抽
出物を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮乾固す
る。L−(N−ベンジルオキシカルボニル)−ホモアラ
ニン−4−イル(メチル)ホスフィン酸イソブチルエス
テル1.62g(理論値の79.3%)がガラス様に凝固する固
体として得られる。
31P−NMR(CDCl3):58.550、58.652 ▲〔α〕19.5 D▼:32.4゜(CHCl3中 c=1.06) C17H26NO6P(371,363)計算値:C 55.0 H 7.1 N 3.
8 実測値:C 54.6 H 6.8 N 3.9 例 15 L−ホモアラニン−4−イル(メチル)ホスフィン酸イ
ソブチルエステル L−(N−ベンジルオキシカルボニル)−ホモアラニ
ン−4−イル(メチル)ホスフィン酸イソブチルエステ
ル(例14)1.00g(0.0027モル)をメタノール25ml中に
溶解し、パラジウム−活性炭担持触媒(10%)0.1gを加
え、24時間室温及び3.0バールの圧力に於いて水素化す
る。反応容器の圧力を開放した後に触媒をろ別しそして
濃縮乾固する。残留物をエタノール/水中に取り込むこ
とによって、L−ホモアラニン−4−イル(メチル)ホ
スフィン酸イソブチルエステル 0.54g(理論値の84.3
%)が得られる。
融点:183〜84℃(分解) 31P−NMR(DC2O):61.466 ▲〔α〕21 D▼:11.8゜(H2O中c=1.06) C9H20NO4P(237.233)計算値:C 45.6 H 8.5 N 5.9 実測値:C 46.2 H 8.2 N 5.9 例 16 L−4−[イソブトキシ(メチル)ホスフィニル]−2
−[(ベンジルオキシカルボニル)−(ヒドロキシメチ
ル)アミノ]ブチリル−L−アラニル−L−アラニンメ
チルエステル L−アラニル−L−アラニンメチルエステルヒドロク
ロリド 0.53g(0.0025モル)をテトラヒドロフラン5ml
中に懸濁し、−20℃に於いてトリエチルアミン 0.23g
(0.0022モル)を加える。−20℃で20分間撹拌した後、
テトラヒドロフラン5ml中のL−3−ベンジルオキシカ
ルボニル−4−[2−〔イソブトキシ(メチル)ホスフ
ィニル〕エチル]−1,3−オキサゾリジン−5−オン0.8
6g(0.0022モル)の溶液を滴加する。この混合物を30分
間−20℃に於いて撹拌し、次に室温に加温し、引き続い
て50℃に於いて撹拌する。分離した析出物をろ別し、ろ
液を高度減圧下に完全に濃縮する。粘稠な油 1.10gが得
られ、これをトルエン中に加熱下取り込みそしてろ過す
る。高度減圧下でろ液を濃縮した後、L−4−[イソブ
トキシ(メチル)ホスフィニル]−2−[(ベンジルオ
キシカルボニル)−(ヒドロキシメチル)アミノ]ブチ
リル−L−アラニル−L−アラニンメチルエステル 0.8
5g(理論値の71.6%)が無色油として得られる。
1H−NMR(d6−DMSO):0.86(d,J=7Hz,6H)、1.28
(d,J=7Hz,3H)、1.32(d,J=7Hz,3H)、1.36(d,J=1
4Hz,3H)、1.10〜2.22(m,5H)、3.62(s,3H)、3.63
(t,J=7Hz,2H)、4.27(m,3H)、4.84(m,広幅,2H)、
5.10(s,2H)、7.35(s,5H)、8.10(s,広幅,1H)、8.3
5(d,広幅,7Hz,1H)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 I (式中 R1及びR2は互いに関係なく水素;置換されていないかあ
    るいはハロゲン又は(C6〜C10)−アリールにより1回
    又は多数回置換されている(C1〜C6)−アルキル;又は
    (C3〜C10)−シクロアルキルを意味し、 R3は水素;置換されていないかあるいは1回又は多数回
    ハロゲンにより及び/又は1回ヒドロキシにより置換さ
    れている(C1〜C6)−アルキル;又は1回又は多数回ハ
    ロゲン又は(C1〜C6)−アルキルによりあるいは1回
    (C6〜C10)−アリール、(C1〜C6)−アルコキシ、又
    は(C6〜C13)−アリールにより置換されている(C1〜C
    6)−アルコキシにより置換されていることができる(C
    1〜C10)−アシルを意味し、 R4は、水素、または置換されていないかあるいは1回又
    は多数回ハロゲンにより置換されている1−ヒドロキシ
    −(C1〜C6)−アルキルを意味し、 R5はヒドロキシ、(C1〜C6)−アルコキシ、アミノ、Al
    a−Ala−OR6又はAla−Leu−OR6を意味し、 R6は水素、(C1〜C6)−アルキル又はベンジルを意味
    し、 nは零又は1の数を意味しそして mは、R2が水素でない場合には零の数を意味し、その他
    の場合は1を意味する) で示される燐を含有するL−アミノ酸又はその塩を製造
    するに当たり、 a) 一般式 II (式中R1、R2は上記の意味を有するが、但し、nが1で
    ある場合には、R1は水素であってはならない) で示される化合物を一般式III (式中 R3′は水素以外のR3の意味を有しそして R7はH、(C1〜C5)−アルキルを意味し、該アルキルは
    1回又は多数回ハロゲンにより置換されていることがで
    きる) で示される化合物と触媒量のラジカル形成剤の存在下反
    応させそして b) 得られる一般式 IV (式中R1、R2、R3′、R7、m及びnは上記の意味を有す
    る) で示される中間生成物をHCl、アルカリ金属水酸化物、
    アルカリ金属アルコレート、NH3、H−Ala−Ala−OR6
    はH−Ala−Leu−OR6(式中R6は水素以外の上記意味を
    有する)と反応させ、得られる一般式Iの化合物を場合
    により常法で誘導体とすることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】一般式I中R1(O)がCH3又はC2H5を、R
    2(O)がOHを、R3及びR4がHを、R5がOH、Ala−Ala
    −OH又はAla−Leu−OHを意味する請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】工程a)を50℃乃至200℃の温度範囲に於
    いて実施する請求項1又は2記載の方法。
  4. 【請求項4】工程a)を70℃乃至140℃の温度範囲に於
    いて実施する請求項1、2又は3記載の方法。
  5. 【請求項5】工程a)に於いてラジカル形成剤として有
    機過酸化物、カルボン酸ペルエステル又は脂肪酸アゾ化
    合物を使用する請求項1乃至4の何れかに記載の方法。
  6. 【請求項6】ラジカル形成剤としてカルボン酸ペルエス
    テルを使用する請求項5記載の方法。
  7. 【請求項7】ラジカル形成剤を成分IIIに対し0.1乃至20
    モル%の量で使用する請求項5又は6記載の方法。
  8. 【請求項8】工程b)に於いて3N乃至12Nの水性HClを使
    用する請求項1乃至7の何れかに記載の方法。
  9. 【請求項9】HClとの反応を90℃乃至130℃に於いて実施
    する請求項1乃至8の何れかに記載の方法。
  10. 【請求項10】請求項1中に記載の式IV (式中R1、R2、R3′、R7、m及びnは請求項1記載の意
    味を有する) で示される化合物。
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