JP2697432B2 - エッチング装置 - Google Patents
エッチング装置Info
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- JP2697432B2 JP2697432B2 JP3328185A JP32818591A JP2697432B2 JP 2697432 B2 JP2697432 B2 JP 2697432B2 JP 3328185 A JP3328185 A JP 3328185A JP 32818591 A JP32818591 A JP 32818591A JP 2697432 B2 JP2697432 B2 JP 2697432B2
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- JP
- Japan
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- sample
- focus ring
- electrode
- etching
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、プラズマ中の励起活
性種を用いて試料をエッチングするエッチング装置に関
し、より具体的には、その試料を冷却する手段の改良に
関する。
性種を用いて試料をエッチングするエッチング装置に関
し、より具体的には、その試料を冷却する手段の改良に
関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のエッチング装置の従来例を図２
に示す。このエッチング装置は、いわゆる平行平板型の
ものであり、図示しない真空排気装置によって真空排気
される真空容器２内に、第１の電極（カソード）６と第
２の電極（アノード）１２とが互いに対向するように配
置されている。４は排気口であり、実際は電極６を挟ん
だ２個所に設けられている。２１は、後述するプラズマ
２０が不所望の個所へ拡がるのを防止するメッシュであ
る。
に示す。このエッチング装置は、いわゆる平行平板型の
ものであり、図示しない真空排気装置によって真空排気
される真空容器２内に、第１の電極（カソード）６と第
２の電極（アノード）１２とが互いに対向するように配
置されている。４は排気口であり、実際は電極６を挟ん
だ２個所に設けられている。２１は、後述するプラズマ
２０が不所望の個所へ拡がるのを防止するメッシュであ
る。
【０００３】電極６は、平板状の試料（例えばウェー
ハ）１０を載置する台を兼ねている。この電極６の内部
には、二重の環状の冷媒通路８が設けられており、そこ
に例えば水、フレオン（登録商標）等の冷媒を流して冷
却される。この電極６は、この例では絶縁物１６によっ
て真空容器２から絶縁されており、かつ高周波電源１８
が接続されている。またこの電極６上には、試料１０を
取り囲むセラミックス製のフォーカスリング２２が載置
されている。
ハ）１０を載置する台を兼ねている。この電極６の内部
には、二重の環状の冷媒通路８が設けられており、そこ
に例えば水、フレオン（登録商標）等の冷媒を流して冷
却される。この電極６は、この例では絶縁物１６によっ
て真空容器２から絶縁されており、かつ高周波電源１８
が接続されている。またこの電極６上には、試料１０を
取り囲むセラミックス製のフォーカスリング２２が載置
されている。
【０００４】電極１２は、この例では真空容器２を介し
て接地されている。またこの電極１２には、ガス導入口
１３につながる多数の小孔（図示省略）が設けられてお
り、ガス導入口１３に導入されたエッチングガス１４を
この小孔からシャワー状に放出することができる。
て接地されている。またこの電極１２には、ガス導入口
１３につながる多数の小孔（図示省略）が設けられてお
り、ガス導入口１３に導入されたエッチングガス１４を
この小孔からシャワー状に放出することができる。
【０００５】このエッチング装置の動作例を説明する
と、電極６上に所要の試料１０を載置し、真空容器２内
を真空排気すると共にそこに所要のエッチングガス１４
（例えばＣl2やＣＦ4 等）を導入して真空容器２内の圧
力を例えば１０-3Ｔｏｒｒ〜数十Ｔｏｒｒ程度に保ち、
高周波電源１８から電極６と電極１２間に高周波電力を
供給すると、両電極６、１２間に放電が生じてプラズマ
２０が生成され、それに含まれるイオン、遊離原子等の
励起活性種によって試料１０の表面の各種材料（例えば
Ａl 、ＳiＯ2等）がエッチングされる。
と、電極６上に所要の試料１０を載置し、真空容器２内
を真空排気すると共にそこに所要のエッチングガス１４
（例えばＣl2やＣＦ4 等）を導入して真空容器２内の圧
力を例えば１０-3Ｔｏｒｒ〜数十Ｔｏｒｒ程度に保ち、
高周波電源１８から電極６と電極１２間に高周波電力を
供給すると、両電極６、１２間に放電が生じてプラズマ
２０が生成され、それに含まれるイオン、遊離原子等の
励起活性種によって試料１０の表面の各種材料（例えば
Ａl 、ＳiＯ2等）がエッチングされる。
【０００６】その場合、前述したフォーカスリング２２
は、エッチングガス１４の流れを整えてエッチング時の
プラズマ２０の均一性を高めて試料１０全体のエッチン
グレートの均一性を高める働きをする。このフォーカス
リング２２をセラミックス製にするのは、もし金属にす
るとそれとの間でも高周波放電が生じて試料１０のエッ
チングに悪影響が生じるのでそれを避けるためである。
は、エッチングガス１４の流れを整えてエッチング時の
プラズマ２０の均一性を高めて試料１０全体のエッチン
グレートの均一性を高める働きをする。このフォーカス
リング２２をセラミックス製にするのは、もし金属にす
るとそれとの間でも高周波放電が生じて試料１０のエッ
チングに悪影響が生じるのでそれを避けるためである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】エッチング時、試料１
０は、プラズマ２０からの熱によって加熱される。その
ため上記エッチング装置においては、電極６内に冷媒を
流して、エッチング時の試料１０の温度上昇を防ぐよう
にしているけれども、試料１０を電極６上に載置するや
り方では両者の密着性が悪いため、即ち電極６の表面を
幾ら平坦に仕上げてもミクロ的に見れば試料１０との間
には隙間が存在するため、試料１０に対する冷却性能が
悪く、そのため、エッチング時の試料１０の表面温度と
電極６の温度との間に７０℃以上の差があり、電極６の
冷媒通路８に流す冷媒温度を例えば−２０℃にしても試
料１０の表面温度が約５０℃以上にもなり、この熱によ
って試料１０の表面に設けているレジストの変形等が起
こり、所望のエッチングプロファイルが得られないとい
う問題がある。
０は、プラズマ２０からの熱によって加熱される。その
ため上記エッチング装置においては、電極６内に冷媒を
流して、エッチング時の試料１０の温度上昇を防ぐよう
にしているけれども、試料１０を電極６上に載置するや
り方では両者の密着性が悪いため、即ち電極６の表面を
幾ら平坦に仕上げてもミクロ的に見れば試料１０との間
には隙間が存在するため、試料１０に対する冷却性能が
悪く、そのため、エッチング時の試料１０の表面温度と
電極６の温度との間に７０℃以上の差があり、電極６の
冷媒通路８に流す冷媒温度を例えば−２０℃にしても試
料１０の表面温度が約５０℃以上にもなり、この熱によ
って試料１０の表面に設けているレジストの変形等が起
こり、所望のエッチングプロファイルが得られないとい
う問題がある。
【０００８】また、試料１０の面内において電極６との
間で熱伝達の良い所とそうでない所が生じて試料１０の
面内で温度むらが生じるため、エッチングプロファイル
が悪化する所とそうでない所が生じて、試料１０の面内
におけるエッチングの均一性が悪いという問題もある。
間で熱伝達の良い所とそうでない所が生じて試料１０の
面内で温度むらが生じるため、エッチングプロファイル
が悪化する所とそうでない所が生じて、試料１０の面内
におけるエッチングの均一性が悪いという問題もある。
【０００９】そこでこの発明は、エッチング時の試料の
温度を低くしかも試料の面内において一様に保つことが
できるようにしたエッチング装置を提供することを主た
る目的とする。
温度を低くしかも試料の面内において一様に保つことが
できるようにしたエッチング装置を提供することを主た
る目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のエッチング装置は、前記フォーカスリン
グを、外側フォーカスリングとそれに対して着脱可能な
内側フォーカスリングとから成る二重構造にし、かつ当
該フォーカスリングを昇降可能にすると共にその内径を
試料の外径よりも幾分小さくし、このフォーカスリング
を昇降させると共に下降させたときに同フォーカスリン
グの下部で試料の周縁部を第１の電極に押さえ付けるフ
ォーカスリング昇降手段を設け、かつ前記第１の電極と
その上の試料の周縁部を除外した部分との間に隙間が形
成されるようにし、この隙間に、試料と第１の電極との
間で熱を伝達する媒体ガスを供給する媒体ガス供給手段
を設けたことを特徴とする。
め、この発明のエッチング装置は、前記フォーカスリン
グを、外側フォーカスリングとそれに対して着脱可能な
内側フォーカスリングとから成る二重構造にし、かつ当
該フォーカスリングを昇降可能にすると共にその内径を
試料の外径よりも幾分小さくし、このフォーカスリング
を昇降させると共に下降させたときに同フォーカスリン
グの下部で試料の周縁部を第１の電極に押さえ付けるフ
ォーカスリング昇降手段を設け、かつ前記第１の電極と
その上の試料の周縁部を除外した部分との間に隙間が形
成されるようにし、この隙間に、試料と第１の電極との
間で熱を伝達する媒体ガスを供給する媒体ガス供給手段
を設けたことを特徴とする。
【００１１】
【作用】フォーカスリング昇降手段によってフォーカス
リングを下降させることにより、当該フォーカスリング
によって試料の周縁部が第１の電極に押さえ付けられて
当該試料は保持される。即ちこのフォーカスリングが試
料押さえの働きもする。この状態で、試料の周縁部を除
外した部分と第１の電極との間に隙間が形成される。こ
の隙間に媒体ガス供給手段から媒体ガスを供給すること
により、エッチング時の試料の熱は、この隙間内の媒体
ガスを介して、冷媒によって冷却されている第１の電極
に効率良く伝えられる。その結果、エッチング時の試料
の温度を低く保つことができる。しかも、媒体ガスは気
体であるから試料の裏面全体に一様に接するので、試料
の面内を一様に冷却することができ、従って試料の温度
を面内において一様に保つことができる。
リングを下降させることにより、当該フォーカスリング
によって試料の周縁部が第１の電極に押さえ付けられて
当該試料は保持される。即ちこのフォーカスリングが試
料押さえの働きもする。この状態で、試料の周縁部を除
外した部分と第１の電極との間に隙間が形成される。こ
の隙間に媒体ガス供給手段から媒体ガスを供給すること
により、エッチング時の試料の熱は、この隙間内の媒体
ガスを介して、冷媒によって冷却されている第１の電極
に効率良く伝えられる。その結果、エッチング時の試料
の温度を低く保つことができる。しかも、媒体ガスは気
体であるから試料の裏面全体に一様に接するので、試料
の面内を一様に冷却することができ、従って試料の温度
を面内において一様に保つことができる。
【００１２】
【実施例】図１は、この発明の一実施例に係るエッチン
グ装置を示す断面図である。図２の従来例と同一または
相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該
従来例との相違点を主に説明する。
グ装置を示す断面図である。図２の従来例と同一または
相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該
従来例との相違点を主に説明する。
【００１３】この実施例においては、前述した従来のフ
ォーカスリング２２に相当するセラミックス製のフォー
カスリング２４を、第１の電極６上に載置する、あるい
は取り付けるのではなく、矢印Ａのように昇降可能にし
ている。また、このフォーカスリング２４の内径を、試
料１０の外径よりも幾分小さくして、試料１０を押さえ
付けることができるようにしている。更にこの例では、
フォーカスリング２４を、外側のフォーカスリング２４
ａと内側の着脱可能なフォーカスリング２４ｂから成る
二重構造にしているが、その理由は後述する。
ォーカスリング２２に相当するセラミックス製のフォー
カスリング２４を、第１の電極６上に載置する、あるい
は取り付けるのではなく、矢印Ａのように昇降可能にし
ている。また、このフォーカスリング２４の内径を、試
料１０の外径よりも幾分小さくして、試料１０を押さえ
付けることができるようにしている。更にこの例では、
フォーカスリング２４を、外側のフォーカスリング２４
ａと内側の着脱可能なフォーカスリング２４ｂから成る
二重構造にしているが、その理由は後述する。
【００１４】そして、フォーカスリング昇降手段を構成
するものとして、真空容器２外に設けられた昇降装置３
２、それに接続された軸２８、それに取り付けられてお
りかつフォーカスリング２４を左右から支持するアーム
２６を備えており、この昇降装置３２によってフォーカ
スリング２４を上記のように昇降させると共に下降ささ
たときにフォーカスリング２４の下部で試料１０の周縁
部を電極６に向けて押さえ付けるようにしている。軸２
８が真空容器２を貫通する部分はパッキン３０等によっ
て真空シールされている。なお、軸２８は実際上は２本
あってそれらが共通の昇降装置３２に接続されている
が、ここでは図示の都合上１本だけ示している。
するものとして、真空容器２外に設けられた昇降装置３
２、それに接続された軸２８、それに取り付けられてお
りかつフォーカスリング２４を左右から支持するアーム
２６を備えており、この昇降装置３２によってフォーカ
スリング２４を上記のように昇降させると共に下降ささ
たときにフォーカスリング２４の下部で試料１０の周縁
部を電極６に向けて押さえ付けるようにしている。軸２
８が真空容器２を貫通する部分はパッキン３０等によっ
て真空シールされている。なお、軸２８は実際上は２本
あってそれらが共通の昇降装置３２に接続されている
が、ここでは図示の都合上１本だけ示している。
【００１５】この例では、電極６の上面であって試料１
０の周縁部に対応する部分を除外した領域をわずかに窪
ませることによって、電極６とその上の試料１０の周縁
部を除外した部分との間に隙間３４が形成されるように
している。
０の周縁部に対応する部分を除外した領域をわずかに窪
ませることによって、電極６とその上の試料１０の周縁
部を除外した部分との間に隙間３４が形成されるように
している。
【００１６】そしてこの隙間３４に、この例では次のよ
うな構成の媒体ガス供給手段によって、例えばヘリウ
ム、窒素のような熱伝導性の良い媒体ガス４２を供給す
るようにしている。
うな構成の媒体ガス供給手段によって、例えばヘリウ
ム、窒素のような熱伝導性の良い媒体ガス４２を供給す
るようにしている。
【００１７】即ち、隙間３４に、この例ではガス導入口
３６、ガス導出口３８およびゲージ接続口４０を接続し
ており、ガス導入口３６には、図示しないガス源から流
量調節器４４を経由して上記媒体ガス４２が供給され
る。ガス導出口３８には、例えばロータリーポンプのよ
うな真空ポンプ５０が接続されており、またこの真空ポ
ンプ５０には流量調節弁４８を経由して窒素ガス５２が
供給されるようにしている。
３６、ガス導出口３８およびゲージ接続口４０を接続し
ており、ガス導入口３６には、図示しないガス源から流
量調節器４４を経由して上記媒体ガス４２が供給され
る。ガス導出口３８には、例えばロータリーポンプのよ
うな真空ポンプ５０が接続されており、またこの真空ポ
ンプ５０には流量調節弁４８を経由して窒素ガス５２が
供給されるようにしている。
【００１８】ゲージ接続口４０には真空ゲージ４６を接
続しており、この例ではこれによって上記流量調節弁４
８を制御して、上記隙間３４内のガス圧を一定に保つよ
うにしている。即ち、真空ポンプ５０の排気速度は一定
にしておき、隙間３４のガス圧が上がったら流量調節弁
４８を絞ることによってガス導出口３８側の排気速度を
高め、逆に隙間３４のガス圧が下がったら流量調節弁４
８を開くことによって窒素ガス５２のライン側の排気速
度を高め、それによって隙間３４のガス圧を例えば１０
〜２０Ｔｏｒｒ程度の範囲内で一定に保つようにしてい
る。隙間３４のガス圧を一定に保つことは必須ではない
けれども、そのようにする方が隙間３４内の媒体ガス４
２による熱伝導性が一定になるので好ましい。
続しており、この例ではこれによって上記流量調節弁４
８を制御して、上記隙間３４内のガス圧を一定に保つよ
うにしている。即ち、真空ポンプ５０の排気速度は一定
にしておき、隙間３４のガス圧が上がったら流量調節弁
４８を絞ることによってガス導出口３８側の排気速度を
高め、逆に隙間３４のガス圧が下がったら流量調節弁４
８を開くことによって窒素ガス５２のライン側の排気速
度を高め、それによって隙間３４のガス圧を例えば１０
〜２０Ｔｏｒｒ程度の範囲内で一定に保つようにしてい
る。隙間３４のガス圧を一定に保つことは必須ではない
けれども、そのようにする方が隙間３４内の媒体ガス４
２による熱伝導性が一定になるので好ましい。
【００１９】なお、上記隙間３４から真空容器２内へ媒
体ガス４２が漏れるのを防止するためは、図示例のよう
に、電極６上に、隙間３４を取り囲むパッキン３５を設
けても良いが、このようなパッキン３５を敢えて設けな
くても、試料１０の周縁部はフォーカスリング２４によ
って電極６に押さえ付けられるので、媒体ガス４２の漏
れは小さく、特に問題はない。
体ガス４２が漏れるのを防止するためは、図示例のよう
に、電極６上に、隙間３４を取り囲むパッキン３５を設
けても良いが、このようなパッキン３５を敢えて設けな
くても、試料１０の周縁部はフォーカスリング２４によ
って電極６に押さえ付けられるので、媒体ガス４２の漏
れは小さく、特に問題はない。
【００２０】また、例えばこのようなパッキン３５を設
けてそれによって試料１０を電極６の上面から幾分浮き
上がらせるようにすれば、電極６の上面に敢えて窪みを
設けなくても上記隙間３４を形成することができる。
けてそれによって試料１０を電極６の上面から幾分浮き
上がらせるようにすれば、電極６の上面に敢えて窪みを
設けなくても上記隙間３４を形成することができる。
【００２１】電極６上への試料１０の搬出入は図示しな
い搬送手段、例えば搬送アームによって行われるが、そ
の際、昇降装置３２等によってフォーカスリング２４を
昇降させる。試料１０を搬入後フォーカスリング２４を
下降させることにより、当該フォーカスリング２４によ
って試料１０の周縁部が電極６に押さえ付けられて、当
該試料１０は保持される。即ちこのフォーカスリング２
４は、エッチングガス１４の流れを整えてエッチング時
のプラズマ２０の均一性を高めて試料１０全体のエッチ
ングレートの均一性を高める本来の働きの他に、試料押
さえの働きもする。このようにすることにより、構造が
非常に簡素化される。
い搬送手段、例えば搬送アームによって行われるが、そ
の際、昇降装置３２等によってフォーカスリング２４を
昇降させる。試料１０を搬入後フォーカスリング２４を
下降させることにより、当該フォーカスリング２４によ
って試料１０の周縁部が電極６に押さえ付けられて、当
該試料１０は保持される。即ちこのフォーカスリング２
４は、エッチングガス１４の流れを整えてエッチング時
のプラズマ２０の均一性を高めて試料１０全体のエッチ
ングレートの均一性を高める本来の働きの他に、試料押
さえの働きもする。このようにすることにより、構造が
非常に簡素化される。
【００２２】上記状態で、前述したように試料１０の周
縁部を除外した部分と電極６との間に隙間３４が形成さ
れ、この隙間３４に前述したようにして媒体ガス４２を
供給することにより、エッチング時の試料１０の熱は、
この隙間３４内の媒体ガス４２を介して、電極６に効率
良く伝えられる。この電極６自身は、従来例と同様に、
その冷媒通路８に流される冷媒によって冷却されてい
る。
縁部を除外した部分と電極６との間に隙間３４が形成さ
れ、この隙間３４に前述したようにして媒体ガス４２を
供給することにより、エッチング時の試料１０の熱は、
この隙間３４内の媒体ガス４２を介して、電極６に効率
良く伝えられる。この電極６自身は、従来例と同様に、
その冷媒通路８に流される冷媒によって冷却されてい
る。
【００２３】このようにすることにより、電極６の温度
と試料１０の表面温度との温度差を小さく、例えば２０
℃以下に抑えることができる。その結果、エッチング時
の試料１０の表面温度を低く、例えば室温付近に保つこ
とができる。
と試料１０の表面温度との温度差を小さく、例えば２０
℃以下に抑えることができる。その結果、エッチング時
の試料１０の表面温度を低く、例えば室温付近に保つこ
とができる。
【００２４】しかも、隙間３４内に供給される媒体ガス
４２は気体であるから試料１０の裏面全体に一様に接す
るので、試料１０の面内を一様に冷却することができ、
従って試料１０の表面温度を面内において一様に保つこ
とができる。
４２は気体であるから試料１０の裏面全体に一様に接す
るので、試料１０の面内を一様に冷却することができ、
従って試料１０の表面温度を面内において一様に保つこ
とができる。
【００２５】これらの結果、優れたエッチングプロファ
イルおよびエッチング均一性を得ることができる。
イルおよびエッチング均一性を得ることができる。
【００２６】しかも、この例のようにフォーカスリング
２４を二重構造にしておけば、その内側のフォーカスリ
ング２４ｂを交換することによって、フォーカスリング
２４全体の高さを簡単に調整することができ、それによ
ってエッチングガス１４の流れを整える働きを調整し
て、試料１０に対するエッチングの均一性等の調整を簡
単に行うことができる。
２４を二重構造にしておけば、その内側のフォーカスリ
ング２４ｂを交換することによって、フォーカスリング
２４全体の高さを簡単に調整することができ、それによ
ってエッチングガス１４の流れを整える働きを調整し
て、試料１０に対するエッチングの均一性等の調整を簡
単に行うことができる。
【００２７】また、上記例では外側のフォーカスリング
２４ａと試料１０を押さえる部分とが一つの部材で構成
されたものを例示したが、試料１０を押さえる部分を必
要に応じて別部材で構成しても良い。
２４ａと試料１０を押さえる部分とが一つの部材で構成
されたものを例示したが、試料１０を押さえる部分を必
要に応じて別部材で構成しても良い。
【００２８】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、エッチ
ング時の試料の熱は、その裏面に形成した隙間に供給さ
れる媒体ガスによって、冷媒によって冷却される第１の
電極に効率良く伝えられるので、エッチング時の試料の
温度を低く保つことができる。しかも、媒体ガスは気体
であるから試料の裏面全体に一様に接するので、試料の
温度を面内において一様に保つことができる。その結
果、優れたエッチングプロファイルおよびエッチング均
一性を得ることができる。勿論、試料を堤状に取り囲み
エッチングガスの流れを整えるフォーカスリングを備え
ているので、当該フォーカスリングによって、エッチン
グガスの流れを整えてエッチング時のプラズマの均一性
を高めて試料全体のエッチングレートの均一性を高める
ことができる。しかもフォーカスリングはセラミックス
製であるので、金属製の場合と違って、電極とフォーカ
スリングとの間に不所望な放電が生じて試料のエッチン
グに悪影響が及ぶのを避けることができる。また、フォ
ーカスリングを昇降手段で昇降させることによってフォ
ーカスリングの下部で試料の周縁部を押さえ付ける構造
を採用していて、フォーカスリングが試料押さえの働き
もするので、フォーカスリングと試料押さえとを別に設
ける場合に比べて、構造を非常に簡素化することができ
る。更に、フォーカスリングを二重構造にしてその内側
フォーカスリングを着脱可能にしたので、内側フォーカ
スリングを交換することによって、フォーカスリング全
体の高さを簡単に調整することができ、それによってエ
ッチングガスの流れを整える働きを調整して、試料に対
するエッチングの均一性等の調整を簡単に行うことがで
きる。
ング時の試料の熱は、その裏面に形成した隙間に供給さ
れる媒体ガスによって、冷媒によって冷却される第１の
電極に効率良く伝えられるので、エッチング時の試料の
温度を低く保つことができる。しかも、媒体ガスは気体
であるから試料の裏面全体に一様に接するので、試料の
温度を面内において一様に保つことができる。その結
果、優れたエッチングプロファイルおよびエッチング均
一性を得ることができる。勿論、試料を堤状に取り囲み
エッチングガスの流れを整えるフォーカスリングを備え
ているので、当該フォーカスリングによって、エッチン
グガスの流れを整えてエッチング時のプラズマの均一性
を高めて試料全体のエッチングレートの均一性を高める
ことができる。しかもフォーカスリングはセラミックス
製であるので、金属製の場合と違って、電極とフォーカ
スリングとの間に不所望な放電が生じて試料のエッチン
グに悪影響が及ぶのを避けることができる。また、フォ
ーカスリングを昇降手段で昇降させることによってフォ
ーカスリングの下部で試料の周縁部を押さえ付ける構造
を採用していて、フォーカスリングが試料押さえの働き
もするので、フォーカスリングと試料押さえとを別に設
ける場合に比べて、構造を非常に簡素化することができ
る。更に、フォーカスリングを二重構造にしてその内側
フォーカスリングを着脱可能にしたので、内側フォーカ
スリングを交換することによって、フォーカスリング全
体の高さを簡単に調整することができ、それによってエ
ッチングガスの流れを整える働きを調整して、試料に対
するエッチングの均一性等の調整を簡単に行うことがで
きる。
【図１】 この発明の一実施例に係るエッチング装置を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】 従来のエッチング装置の一例を示す断面図で
ある。
ある。
２ 真空容器 ６ 第１の電極 ８ 冷媒通路 １０ 試料 １２ 第２の電極 １４ エッチングガス １８ 高周波電源 ２４ フォーカスリング ３２ 昇降装置 ３４ 隙間 ４２ 媒体ガス
Claims (1)
- 【請求項１】 エッチングガスが導入される真空容器
と、この真空容器内に設けられた第１の電極であって平
板状の試料を支持すると共に冷媒によって冷却されるも
のと、前記真空容器内にこの第１の電極と対向するよう
に設けられた第２の電極と、前記第１の電極上の試料を
堤状に取り囲みエッチングガスの流れを整えるセラミッ
クス製のフォーカスリングとを備えるエッチング装置に
おいて、前記フォーカスリングを、外側フォーカスリン
グとそれに対して着脱可能な内側フォーカスリングとか
ら成る二重構造にし、かつ当該フォーカスリングを昇降
可能にすると共にその内径を試料の外径よりも幾分小さ
くし、このフォーカスリングを昇降させると共に下降さ
せたときに同フォーカスリングの下部で試料の周縁部を
第１の電極に押さえ付けるフォーカスリング昇降手段を
設け、かつ前記第１の電極とその上の試料の周縁部を除
外した部分との間に隙間が形成されるようにし、この隙
間に、試料と第１の電極との間で熱を伝達する媒体ガス
を供給する媒体ガス供給手段を設けたことを特徴とする
エッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3328185A JP2697432B2 (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | エッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3328185A JP2697432B2 (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | エッチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05140771A JPH05140771A (ja) | 1993-06-08 |
| JP2697432B2 true JP2697432B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=18207420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3328185A Expired - Lifetime JP2697432B2 (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | エッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2697432B2 (ja) |
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-
1991
- 1991-11-15 JP JP3328185A patent/JP2697432B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05140771A (ja) | 1993-06-08 |
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