JP2696882B2 - Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor - Google Patents

Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法に
関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor.

従来の技術 アルミ電解コンデンサ用電極箔(以下電極箔という)
は、コンデンサの小形化、低価格化を図るためにアルミ
ニウム箔を電気化学的あるいは化学的にエッチングして
表面積を拡大したものが使用されている。この表面積を
拡大するために種々のエッチング方法が研究されてお
り、従来よりこの目的のため、エッチングを2段に分割
することが行なわれてきた。すなわち、第1段エッチン
グで塩酸に多孔質皮膜生成酸を加えた水溶液を用いてエ
ッチングピットを発生させ、続いて第2段エッチングで
Cl-を含む中性塩水溶液を用いてエッチングビットを成
長させることにより表面積拡大を図ってきた。
Conventional technology Electrode foil for aluminum electrolytic capacitors (hereinafter referred to as electrode foil)
In order to reduce the size and cost of a capacitor, an aluminum foil whose surface area is enlarged by electrochemically or chemically etching an aluminum foil is used. Various etching methods have been studied to increase the surface area, and conventionally, for this purpose, etching has been divided into two stages. That is, in the first-stage etching, an etching pit is generated using an aqueous solution obtained by adding a porous film-forming acid to hydrochloric acid, and then, in the second-stage etching,
Cl - has the aim of surface area enlarged by growing etched bits with a neutral salt solution containing.

発明が解決しようとする課題 従来の方法では、エッチングによる表面積拡大効果と
アルミ溶解減量との関係に問題点があった。すなわちエ
ッチングの進行によりアルミ溶解減量を増加させてもエ
ッチングピットが成長しないばかりか、表面溶解が進行
して表面積が比例的に拡大されず、静電容量の増大に寄
与しないだけでなく、電極箔の機械的強度も損われてし
まう欠点があった。それゆえ電極箔としてはアルミ電解
コンデンサの小形化、低コスト化を進める上で表面積拡
大効果が不足し、問題となっていた。
Problems to be Solved by the Invention In the conventional method, there was a problem in the relationship between the effect of etching to increase the surface area and the reduction in aluminum dissolution. That is, even if the aluminum dissolution weight loss is increased by the progress of etching, not only etching pits do not grow, but also the surface dissolution proceeds and the surface area is not proportionally increased, not only does not contribute to the increase of the capacitance, but also the electrode foil. However, there is a disadvantage that the mechanical strength is also impaired. Therefore, as the electrode foil, the effect of increasing the surface area is insufficient in promoting the miniaturization and cost reduction of the aluminum electrolytic capacitor, which has been a problem.

本発明は上記の問題点を解決するもので、電極箔の機
械的強度を保持しながら表面積を拡大することができる
アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
An object of the present invention is to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor, which can increase the surface area while maintaining the mechanical strength of the electrode foil. .

課題を解決するための手段 上記目的を達成するために本発明のアルミ電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法は、エッチングを第1段、第2
段の2段階に分けて行なうエッチング方法において、第
2段エッチングの前および第2段エッチングの中間に、
NH4 +またはNa+を0.01〜20%含む水溶液中で表面酸化皮
膜を電気化学的あるいは化学的に形成する中間処理を少
なくとも1回以上行なうとともに、第2段エッチング
は、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、塩化カリウム
等のCl-を含む中性塩のうち、少なくとも1種を0.1〜10
%含む水溶液中で直流エッチングを行なうようにしたも
のである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, a method for manufacturing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor according to the present invention comprises the steps of:
In an etching method performed in two stages of steps, before the second stage etching and in the middle of the second stage etching,
Intermediate treatment for electrochemically or chemically forming a surface oxide film is performed at least once in an aqueous solution containing 0.01 to 20% of NH 4 + or Na + , and the second-stage etching includes sodium chloride, ammonium chloride, Cl of potassium chloride - of neutral salts containing at least one kind of 0.1 to 10
% Is performed in an aqueous solution containing 0.1% by weight.

作用 上記製造方法によれば、エッチングの進行により表面
溶解と機械的強度を損失させることなくエッチングピッ
トを成長させ、アルミ電解減量と比例的に表面積を拡大
することができるものである。
According to the above-described manufacturing method, etching pits can be grown without losing surface and mechanical strength due to the progress of etching, and the surface area can be increased in proportion to aluminum electrolytic weight loss.

以下に各エッチング工程の作用について説明する。 The operation of each etching step will be described below.

(第1段エッチング) エッチングピットを高密度でかつ均一に生成させるた
めに適度な塩酸濃度と多孔質皮膜を生成し得る酸の適当
な添加が必要である。塩酸濃度は2%未満であるとエッ
チング効果が小さく、一方、15%を越えると表面の全面
溶解が起こる。従って2〜15%の範囲が好ましく、特に
好適なのは3〜8%の範囲である。多孔質皮膜を生成し
得る酸の添加量は硫酸、蓚酸、リン酸のいずれの場合も
0.01未満であると多孔質皮膜の生成が不充分であり、一
方、5%を越えると皮膜形成反応が強くなり、発生した
エッチングピットの長さ方向への成長が抑制されてしま
う。従って0.01〜5%の範囲が好ましく、特に好適なの
は0.05〜1%の範囲である。このような好適範囲内で
は、高密度でかつ均一な孔を持つ多孔質皮膜がアルミ表
面に生成され、その孔の部分をCl-が侵食してエッチン
グピットが形成されるが、一方、エッチングピット以外
の部分は皮膜でおおわれているため、表面溶解が抑制さ
れ、結果的に高密度でかつ均一なエッチングピットが生
成される。エッチング液温も重要な影響を及ぼし、50℃
未満ではエッチング効果が小さく、一方、100℃を越え
ると表面の全面溶解が起こる。従って、50〜100℃の範
囲が好ましく、特に好適なのは70〜90℃の範囲である。
また電流密度は3A/dm2未満ではエッチング効果が小さ
く、一方、70A/dm2を越えると表面の全面溶解が起こ
る。従って3〜70A/dm2の範囲が好ましく、特に好適な
のは10〜40A/dm2の範囲である。
(First Stage Etching) In order to form etching pits with high density and uniformity, it is necessary to have an appropriate hydrochloric acid concentration and an appropriate addition of an acid capable of forming a porous film. If the hydrochloric acid concentration is less than 2%, the etching effect is small, while if it exceeds 15%, the entire surface is dissolved. Therefore, the range of 2 to 15% is preferable, and the range of 3 to 8% is particularly preferable. The amount of the acid that can form the porous film is either sulfuric acid, oxalic acid, or phosphoric acid.
If it is less than 0.01, the formation of the porous film is insufficient, while if it exceeds 5%, the film formation reaction becomes strong, and the growth of the generated etching pits in the length direction is suppressed. Therefore, a range of 0.01 to 5% is preferable, and a particularly preferable range is 0.05 to 1%. Within such a preferred range, a porous film having high density and uniform pores is formed on the aluminum surface, and the pores are eroded by Cl to form etching pits. Since the other parts are covered with the film, surface dissolution is suppressed, and as a result, high-density and uniform etching pits are generated. Etch temperature also has an important effect, 50 ° C
Below 100 ° C., the etching effect is small, while above 100 ° C., the entire surface is dissolved. Therefore, the range of 50 to 100 ° C is preferable, and the range of 70 to 90 ° C is particularly preferable.
When the current density is less than 3 A / dm 2 , the etching effect is small. On the other hand, when the current density exceeds 70 A / dm 2 , the entire surface is dissolved. Therefore, the range of 3 to 70 A / dm 2 is preferable, and the range of 10 to 40 A / dm 2 is particularly preferable.

(中間処理) 本発明では第1段エッチングの後の第2段エッチング
の前あるいは第2段エッチングの中間において中間処理
を行なう。この処理は第1段エッチングで新しいエッチ
ングピットの発生により表面積拡大がアルミ溶解減量に
比例的に行なわれてきたものを受け継いで第2段エッチ
ングにおいても表面積拡大をアルミ溶解減量とともに飽
和させることなく、さらに比例して増加させるため、第
2段エッチングで、エッチングが集中してエッチングピ
ットが必要以上に大きくなりすぎたり、隣接するエッチ
ングピットを破壊したり、あるいは表面溶解が起きない
ようにする作用を有するものである。
(Intermediate Processing) In the present invention, intermediate processing is performed before the second-stage etching after the first-stage etching or in the middle of the second-stage etching. This process inherits the fact that the surface area expansion has been performed in proportion to the aluminum dissolution loss due to the generation of new etching pits in the first stage etching, and also in the second stage etching, the surface area expansion does not saturate together with the aluminum dissolution loss, In order to further increase the proportion, in the second stage etching, the etching is concentrated and the etching pits become excessively large, the adjacent etching pits are destroyed, or the surface is prevented from dissolving. Have

すなわち第2段エッチングにおいても新しくエッチン
グピットを均一に発生させて成長できるように本発明で
は、エッチングの中間においてアルミニウム表面に電気
化学的、あるいは化学的に表面酸化皮膜を形成させ、そ
の酸化皮膜によりすでに形成されたエッチングピットを
保護しながら、再度エッチングを行なうことにより新た
にエッチングピットを形成し、表面積を拡大するもので
ある。そして本発明では、アルミニウム表面上へ表面酸
化皮膜を形成するために、NH4 +、Na+を含む水溶液中で
の電気化学的あるいは化学的処理を行なっているもの
で、その濃度は0.01%未満では表面酸化皮膜形成効果が
小さく、一方、20%を越えると表面酸化皮膜が形成され
すぎて、エッチングした時エッチングピットの発生が少
なくて集中しやすくなってしまうものである。従って濃
度は0.01〜20%の範囲が好ましく、特に好適なのは0.1
〜10%の範囲である。
That is, in the present invention, a surface oxide film is electrochemically or chemically formed on the aluminum surface in the middle of the etching so that a new etching pit can be uniformly generated and grown even in the second stage etching, and the oxide film is By etching again while protecting the already formed etching pits, new etching pits are formed to increase the surface area. In the present invention, in order to form a surface oxide film on the aluminum surface, electrochemical or chemical treatment is performed in an aqueous solution containing NH 4 + and Na + , and the concentration is less than 0.01%. In this case, the effect of forming a surface oxide film is small. On the other hand, if it exceeds 20%, the surface oxide film is formed too much, so that etching pits are less likely to occur when etching and concentration tends to occur. Therefore, the concentration is preferably in the range of 0.01 to 20%, particularly preferably 0.1 to 20%.
It is in the range of ~ 10%.

また液温は、40℃以下では表面酸化皮膜の形成効果が
小さく、一方、90℃を越えると表面酸化皮膜が形成され
すぎて、エッチングピット発生効果が小さくなる。従っ
て液温は40〜90℃の範囲が好ましく、特に好適なのは60
〜80℃の範囲である。ここで本発明による中間処理は第
2段エッチングの前あるいは第2段エッチングの中間に
おいて何回も実施することが可能であり、処理を繰り返
し実施することにより処理回路に比例して表面積拡大効
果は増大する。
When the liquid temperature is 40 ° C. or lower, the effect of forming a surface oxide film is small, while when the temperature exceeds 90 ° C., the surface oxide film is formed too much, and the effect of generating etching pits is reduced. Therefore, the liquid temperature is preferably in the range of 40 to 90 ° C., particularly preferably 60 to 90 ° C.
It is in the range of ~ 80 ° C. Here, the intermediate treatment according to the present invention can be carried out many times before the second stage etching or in the middle of the second stage etching, and by repeating the treatment, the surface area increasing effect is proportional to the processing circuit. Increase.

(第2段エッチング) 第2段エッチングは第1段エッチングの後を受けて、
中間処理と組み合わせて表面溶解を抑制しながら、さら
にエッチングピットを発生させ、同時に第1段エッチン
グで生成されたエッチングピットを成長させるために塩
化ナトリウム、塩化アンモニウム、塩化カリウム等のCl
-を含む中性塩の水溶液中でのエッチングが必要であ
る。これらのいずれの中性塩の水溶液の場合でも、その
濃度が0.1%未満ではエッチング効果が小さく、一方、1
0%を越えると表面の全面溶解が起こる。
(Second-stage etching) The second-stage etching is performed after the first-stage etching.
In order to further generate etching pits while suppressing surface dissolution in combination with the intermediate treatment and simultaneously grow the etching pits generated in the first-stage etching, Cl such as sodium chloride, ammonium chloride, potassium chloride or the like is used.
- it is necessary to etching in an aqueous solution of neutral salt containing. In any of these neutral salt aqueous solutions, if the concentration is less than 0.1%, the etching effect is small.
If it exceeds 0%, the entire surface is dissolved.

従って濃度は0.1〜10%の範囲が好ましく、特に好適
なのは1〜3%の範囲である。このような好適範囲内で
は表面溶解をほとんど起こすことなくエッチングピット
を新たに発生させることができ、同時に第1段エッチン
グで生成したエッチングピットを成長させることが可能
である。第2段エッチングでは、第1段エッチングと同
様に液温は50〜100℃の範囲が好ましく、特に好適なの
は70〜90℃の範囲であり、電流密度は3〜70A/dm2の範
囲が好ましく、特に好適なのは4〜20A/dm2の範囲であ
る。
Therefore, the concentration is preferably in the range of 0.1 to 10%, and particularly preferably in the range of 1 to 3%. Within such a preferred range, etching pits can be newly generated with almost no surface melting, and at the same time, etching pits generated by the first-stage etching can be grown. In the second stage etching, the liquid temperature is preferably in the range of 50 to 100 ° C., particularly preferably in the range of 70 to 90 ° C., and the current density is preferably in the range of 3 to 70 A / dm 2 , as in the first stage etching. Particularly preferred is a range of 4 to 20 A / dm 2 .

この発明のエッチングによれば、アルミ溶解減量に比
例して、高密度で適度なエッチングピット径を有した均
一なエッチングピットを生成させた表面積拡大効果の非
常に大きいアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造が可能
である。
According to the etching of the present invention, an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor having a very large surface area enlarging effect, in which uniform etching pits having a high density and an appropriate etching pit diameter are generated in proportion to the aluminum dissolution loss, is produced. Is possible.

実施例 以下本発明の実施例を比較例とともに示す。Examples Examples of the present invention will be described below together with comparative examples.

なお試料として、純度99,99%、厚さ100μmの高純度
焼鈍アルミニウムを用いた。
As a sample, high-purity annealed aluminum having a purity of 99,99% and a thickness of 100 μm was used.

<比較例> 第1段エッチングを塩酸7%と硫酸0.1%を添加した
液温80℃の水溶液で電流密度20A/dm2の直流を90秒印加
して行なった後、第2段エッチングを塩化ナトリウム5
%を添加した液温80℃の水溶液で電流密度10A/dm2の直
流を320秒印加して行なった。
<Comparative Example> The first-stage etching was performed by applying a direct current having a current density of 20 A / dm 2 for 90 seconds with an aqueous solution at a liquid temperature of 80 ° C. to which 7% of hydrochloric acid and 0.1% of sulfuric acid were added. Sodium 5
% Was added and a direct current having a current density of 10 A / dm 2 was applied for 320 seconds with an aqueous solution at a liquid temperature of 80 ° C.

<実施例> 第1段エッチングを比較例と同様に行なった後、液温
90℃のギ酸アンモニウム0.1%水溶液中に40秒間浸漬処
理を行ない、さらに第2段エッチングを比較例と同様に
行なう。
<Example> After the first stage etching was performed in the same manner as in the comparative example,
The immersion treatment is performed for 40 seconds in a 0.1% aqueous solution of ammonium formate at 90 ° C., and the second stage etching is performed in the same manner as in the comparative example.

上記2例のエッチング箔を硼酸水溶液中で370V化成し
た後、各試料について静電容量と折曲げ強度(1.0R,200
g荷重、折曲げ角90゜により1往復で1回とする)を測
定した結果を第1表に示す。
After forming the etching foils of the above two examples in an aqueous boric acid solution at 370 V, the capacitance and bending strength (1.0R, 200
Table 1 shows the results of measurement of g load and bending angle of 90 °.

発明の効果 以上のように本発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔
の製造方法は、エッチングを第1段、第2段の2段階に
分けて行なうエッチング方法において、第2段エッチン
グの前および第2段エッチングの中間に、NH4 +またはNa
+を0.01〜20%含む水溶液中で表面酸化皮膜を電気化学
的あるいは化学的に形成する中間処理を少なくとも1回
以上行なうとともに、第2段エッチングは、塩化ナトリ
ウム、塩化アンモニウム、塩化カリウム等のCl-を含む
中性塩のうち、少なくとも1種を0.1〜10%含む水溶液
中で直流エッチングを行なうようにしたもので、中間処
理はNH4 +またはNa+を0.01〜20%含む水溶液中で表面酸
化皮膜を電気化学的あるいは化学的に形成するようにし
ているため、表面酸化皮膜の形成効果もすぐれたものが
得られ、その結果、エッチング時におけるエッチングピ
ットの発生も効率よく行なわせることができるものであ
る。また第2段エッチングの水溶液は中性塩を含んでい
るため、この中性塩で表面溶解を抑制しながらエッチン
グピットを発生させ、かつ成長させることができ、これ
により、表面積を拡大することができるものである。
Effect of the Invention As described above, the method for manufacturing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor according to the present invention includes an etching method in which etching is performed in two stages, a first stage and a second stage, wherein the etching is performed before the second stage etching and in the second stage. NH 4 + or Na in the middle of the step etching
In an aqueous solution containing 0.01 to 20% + , an intermediate treatment for electrochemically or chemically forming a surface oxide film is performed at least once or more, and the second-stage etching is performed by using a chloride such as sodium chloride, ammonium chloride, potassium chloride or the like. - among the neutral salts containing, which was to perform the direct current etching in an aqueous solution comprising at least one of 0.1% to 10%, the intermediate processing surface NH 4 + or Na + and in an aqueous solution containing 0.01% to 20% Since the oxide film is formed electrochemically or chemically, an excellent effect of forming a surface oxide film is obtained, and as a result, etching pits can be efficiently generated during etching. Things. Further, since the aqueous solution of the second-stage etching contains a neutral salt, it is possible to generate and grow etching pits while suppressing surface dissolution with the neutral salt, thereby increasing the surface area. You can do it.

そしてまたNH4 +またはNa+を0.01〜20%含む水溶液中
での中間処理は第2段エッチングの中間だけでなく、第
2段エッチングの前にも行なうようにしているもので、
この第2段エッチングの前は、第1段エッチングが終わ
った後であるため、アルミニウム箔の表面は皮膜のない
活性な状態となっており、この状態でNH4 +またはNa+
0.01〜20%含む水溶液中での中間処理を行なって表面酸
化皮膜を形成することにより、後に続く第2段エッチン
グでの表面積拡大効果がさらに高められて、機械的強度
を保持しながら静電容量の大きいアルミ電解コンデンサ
用電極箔を得ることができるものである。
The intermediate treatment in an aqueous solution containing 0.01 to 20% of NH 4 + or Na + is performed not only in the middle of the second etching but also before the second etching.
Before the second-stage etching, after the first-stage etching is completed, the surface of the aluminum foil is in an active state without a film. In this state, NH 4 + or Na + is added.
By performing an intermediate treatment in an aqueous solution containing 0.01 to 20% to form a surface oxide film, the effect of enlarging the surface area in the subsequent second stage etching is further enhanced, and the capacitance is maintained while maintaining the mechanical strength. It is possible to obtain an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor having a large value.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 直美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 島谷 涼一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 神崎 信義 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−169131(JP,A) 特開 昭57−131399(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Naomi Endo 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. In-company (72) Inventor Nobuyoshi Kanzaki 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-60-169131 (JP, A) JP-A-57-131399 (JP, A )

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】エッチングを第1段、第2段の2段階に分
けて行なうエッチング方法において、第2段エッチング
の前および第2段エッチングの中間に、NH4 +またはNa+
を0.01〜20%含む水溶液中で表面酸化皮膜を電気化学的
あるいは化学的に形成する中間処理を少なくとも1回以
上行なうとともに、第2段エッチングは、塩化ナトリウ
ム、塩化アンモニウム、塩化カリウム等のCl-を含む中
性塩のうち、少なくとも1種を0.1〜10%含む水溶液中
で直流エッチングを行なうことを特徴とするアルミ電解
コンデンサ用電極箔の製造方法。
In an etching method in which etching is performed in two stages, a first stage and a second stage, NH 4 + or Na + is added before the second stage etching and in the middle of the second stage etching.
Is carried out at least once in an aqueous solution containing 0.01 to 20% of the surface oxide film electrochemically or chemically, and the second-stage etching is performed by using Cl such as sodium chloride, ammonium chloride or potassium chloride. A method for producing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor, comprising performing DC etching in an aqueous solution containing 0.1 to 10% of at least one of neutral salts containing
【請求項2】第1段エッチングは、塩酸2〜15%と硫
酸、蓚酸、リン酸からなる多孔質皮膜生成酸のうち少な
くとも1種を0.01〜5%含む水溶液中で直流エッチング
を行なうことを特徴とする請求項1記載のアルミ電解コ
ンデンサ用電極箔の製造方法。
2. The first stage etching includes performing direct current etching in an aqueous solution containing 0.01% to 5% of at least one of a porous film-forming acid composed of 2 to 15% of hydrochloric acid, sulfuric acid, oxalic acid and phosphoric acid. The method for producing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor according to claim 1, wherein
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