JPH08264391A - Etching of aluminum foil for electrolytic capacitor - Google Patents

Etching of aluminum foil for electrolytic capacitor

Info

Publication number
JPH08264391A
JPH08264391A JP7093195A JP9319595A JPH08264391A JP H08264391 A JPH08264391 A JP H08264391A JP 7093195 A JP7093195 A JP 7093195A JP 9319595 A JP9319595 A JP 9319595A JP H08264391 A JPH08264391 A JP H08264391A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
aluminum foil
ions
range
aluminum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7093195A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3252313B2 (en
Inventor
Kou Kakisakai
香 柿堺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON CHIKUDENKI KOGYO KK
Original Assignee
NIPPON CHIKUDENKI KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON CHIKUDENKI KOGYO KK filed Critical NIPPON CHIKUDENKI KOGYO KK
Priority to JP09319595A priority Critical patent/JP3252313B2/en
Publication of JPH08264391A publication Critical patent/JPH08264391A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3252313B2 publication Critical patent/JP3252313B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/13Energy storage using capacitors

Abstract

PURPOSE: To increase the mechanical strength of aluminum foil for an electrolytic capacitor. CONSTITUTION: A method for etching aluminum foil for an electrolytic capacitor includes three processes; a first process wherein electrochemical etching is conducted with DC current being applied in an aqueous solution including chlorine ions, a second process wherein electrochemical etching is conducted in an aqueous solution including chlorine ions and solphate ions, and a third process wherein electrochemical or chemical etching is conducted in an aqueous solution including nitrate ions or chlorine ions. In the first process, a through pit is formed. And, a non-through pit is formed in the second process. In the third process, the pits formed in the first and the second process are enlarged.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電解コンデンサ用アル
ミニウム箔のエッチング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for etching aluminum foil for electrolytic capacitors.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に電解コンデンサ用アルミニウム電
極箔は、その有効表面積を拡大する目的で通常電解エッ
チングと化学エッチングがおのおの単独あるいは組合せ
で行われ、特に「貫通タイプ」と呼ばれる電解コンデン
サ用アルミニウム電極箔では、アルミニウム箔を貫通す
るトンネル状のピットが箔面に垂直方向に形成されてい
る。この貫通ピットを通して陰極箔に対するイオン伝導
が行われるため2枚の箔を重ねて用いるいわゆるダブル
アノード用として使用できる。しかし貫通ピットが大多
数を占めている「貫通タイプ」では、折り曲げ強度が低
いのでコンデンサ素子としての電極箔の巻取り時に箔切
れが生ずるという問題がある。一方アルミニウム箔の厚
さの中心部近傍に、厚さの5〜20%程度のピットの存
在しない「芯」部分を残したいわゆる「芯残りタイプ」
は、貫通ピットがないため機械的強度は高いが、ダブル
アノード用としては使用し得ないという問題点がある。
また電解コンデンサの小型化のために有効表面積をより
拡大するには、エッチングによるトンネル状のピット数
を増大しなければならないが、トンネル状のピット数の
増大は腐食量を増大することになり、箔の機械的強度の
低下をまねく。特に「貫通タイプ」の箔でトンネル状の
ピット数を増大すると機械的強度の低下が著しい。他方
「芯残りタイプ」の箔は、「芯」の部分が残っているた
め、機械的強度の低下は少なく、トンネル状ピット数の
増大が容易なことから、有効表面積を大きくできる利点
を有する。また有効表面積を拡大しながら箔の機械的強
度を維持するために従来は箔の表面のエッチングされな
い線状または帯状の非腐食部分を形成するなどの方法が
提案されている。
2. Description of the Related Art Generally, an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor is generally subjected to electrolytic etching and chemical etching individually or in combination for the purpose of expanding the effective surface area thereof. In, a tunnel-shaped pit that penetrates the aluminum foil is formed in a direction perpendicular to the foil surface. Ion conduction is carried out to the cathode foil through the through pits, so that it can be used as a so-called double anode in which two foils are stacked. However, in the "penetration type" in which the majority of the penetration pits occupy, the bending strength is low, and there is a problem that foil breakage occurs when the electrode foil as a capacitor element is wound. On the other hand, a so-called "core-remaining type" in which a "core" portion having no pits in the thickness of 5 to 20% of the thickness is left near the center of the thickness of the aluminum foil.
Has a high mechanical strength because it has no through pit, but has a problem that it cannot be used as a double anode.
Further, in order to further increase the effective surface area for downsizing of the electrolytic capacitor, the number of tunnel-shaped pits must be increased by etching, but an increase in the number of tunnel-shaped pits increases the amount of corrosion, This leads to a decrease in the mechanical strength of the foil. In particular, when the number of pits in a tunnel shape is increased in the "penetrating type" foil, the mechanical strength is significantly reduced. On the other hand, the "core-remaining type" foil has an advantage that the effective surface area can be increased because the mechanical strength is small and the number of tunnel pits can be easily increased because the "core" portion remains. Further, in order to maintain the mechanical strength of the foil while expanding the effective surface area, conventionally, there has been proposed a method of forming non-etched linear or strip-shaped non-corroded portions on the surface of the foil.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら線状また
は帯状の非腐食部分を設けることは、それだけ有効表面
積の拡大を妨げるという欠陥を有する。また腐食量を増
大することにより有効表面積を拡大するときは、箔の機
械的強度が低下するので化成して使用する場合もろくな
って折れやすく、そのためコンデンサ素子の巻き芯部に
巻く段階でその巻き芯部の直径を太くして巻き回す曲率
半径を大きくする必要があるが、巻き芯部の直径を太く
するときはコンデンサ素子の中心部に無駄な空間が生じ
て、静電容量に対するコンデンサの体積効率が低くなる
という不都合を有し、有効表面積の拡大と機械的強度の
保持という相反する作用を同時に解決することは極めて
困難であった。そこで本発明は、上記した従来の困難な
問題を解決することを目的としたものである。
However, the provision of non-corroding parts in the form of lines or strips has the disadvantage that the expansion of the effective surface area is prevented accordingly. Also, when the effective surface area is increased by increasing the amount of corrosion, the mechanical strength of the foil decreases, so it becomes brittle and breaks easily when it is used in the chemical conversion process. It is necessary to increase the diameter of the core to increase the radius of curvature for winding, but when increasing the diameter of the winding core, there is a wasted space in the center of the capacitor element, and the volume of the capacitor relative to the capacitance It has the disadvantage of low efficiency, and it has been extremely difficult to solve the contradictory effects of increasing the effective surface area and maintaining mechanical strength at the same time. Then, this invention aims at solving the above-mentioned conventional difficult problems.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】従来貫通タイプのアルミ
ニウム電極箔は、有効表面積を増すために形成するトン
ネルピットが箔を貫通するまで深く伸長したものである
が、貫通タイプといってもアルミニウム電極箔に形成さ
れる全てのピットが箔を貫通しているものではなく、そ
の内には、箔の厚さの中心を越えて伸長するが非貫通の
ものも存在する。またダブルアノード用として必要な貫
通の程度は、必ずしもすべてのピットが貫通している必
要はなく、貫通ピットが減らせればそれだけ機械的強度
の低下を防ぐことができる。貫通ピットを極端に減らし
た場合は、貫通の程度が悪くなることがあるが、その場
合は、貫通ピットだけ選択的に太くする工程を設ける方
法で充分な貫通の程度を保持することができる。これら
のことから貫通タイプのアルミニウム電極箔を製造する
ためのエッチング方法において、貫通ピットと非貫通ピ
ットを別々に形成することを考案した。
In the conventional penetration type aluminum electrode foil, tunnel pits formed to increase the effective surface area are deeply extended to penetrate the foil. Not all pits formed in the foil penetrate the foil, some of which extend beyond the center of the foil thickness but are non-penetrating. Regarding the degree of penetration required for the double anode, it is not always necessary that all the pits penetrate, and if the number of penetration pits is reduced, the reduction in mechanical strength can be prevented to that extent. When the number of penetration pits is extremely reduced, the degree of penetration may deteriorate. In that case, a sufficient degree of penetration can be maintained by providing a step of selectively thickening only the penetration pits. From these things, in the etching method for manufacturing the through type aluminum electrode foil, it was devised to form the through pit and the non-through pit separately.

【0005】即ち、本願発明による電解コンデンサ用ア
ルミニウム箔の製造方法は、少なくとも塩素イオンを含
む水溶液中において、第1の工程にて直流電流で電気化
学的にエッチングを行い、さらに第2の工程にて少なく
とも塩素イオンと硫酸イオンを含む水溶液中で直流電流
にて電気化学的にエッチングを行い、その後第3工程と
して少なくとも硝酸イオンあるいは塩素イオンを含む水
溶液中で電気化学的あるいは化学的にエッチングし、前
2段の工程で形成したピットを拡大する第3の工程を経
てなる電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方
法において、第1の工程で貫通ピットを設け、第2の工
程で非貫通ピットを設けることを特徴とするものであ
る。
That is, in the method for producing an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to the present invention, electrochemical etching is performed with a direct current in the first step in an aqueous solution containing at least chlorine ions, and then in the second step. Electrochemically at a direct current in an aqueous solution containing at least chlorine ions and sulfate ions, and then as a third step, electrochemically or chemically etching in an aqueous solution containing at least nitrate ions or chlorine ions, In the method for etching an aluminum foil for electrolytic capacitors, which includes a third step of enlarging the pits formed in the previous two steps, a through pit is provided in the first step, and a non-through pit is provided in the second step. It is characterized by.

【0006】また第1の工程と第2の工程の間に、少な
くとも硝酸イオンあるいは塩素イオンを含む水溶液中に
おいて、電気化学的あるいは化学的にエッチングし、第
1の工程で形成した貫通ピットを拡大する中間工程を加
えることを特徴とするものである。
Further, between the first step and the second step, the through pits formed in the first step are enlarged by electrochemically or chemically etching in an aqueous solution containing at least nitrate ions or chlorine ions. It is characterized by adding an intermediate step to

【0007】[0007]

【実施例】以下本願発明の実施例について詳述すると、
第1の工程において、水溶液中の塩素イオンの濃度を1
0〜80g/1の範囲とし、アルミニウムイオンの濃度
を1〜5g/1の範囲とし、電流密度を40〜70mA
/cm2 とし、液温度を65〜85℃とし、さらに電気
量を1.2〜3.6C/cm2 とするものである。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below.
In the first step, the concentration of chlorine ions in the aqueous solution was adjusted to 1
The range is 0 to 80 g / 1, the concentration of aluminum ions is 1 to 5 g / 1, and the current density is 40 to 70 mA.
/ Cm 2 , the liquid temperature is 65 to 85 ° C., and the quantity of electricity is 1.2 to 3.6 C / cm 2 .

【0008】上記において、塩素イオン濃度として、1
0g/1に満たない場合は必要な数の貫通ピットが発生
せず、80g/1を越えるとピット発生数が過剰となる
ので、好ましい範囲として10〜80g/lが適当であ
り、またアルミニウムイオンが1g/1に満たないと溶
解するアルミニウムによって液中のアルミニウムイオン
が増加し、液成分が安定せず、5g/1を越えるとピッ
トの発生数が減少するので、好ましい範囲として1〜5
g/lが適当であり、また、液温度として、65℃未満
ではピットがトンネル状にならないため貫通せず、85
℃を越えるとピットの発生数が過剰となるので、好まし
い範囲として65〜85℃が適当であり、また電流密度
は40mA/cm2 に満たないとピットの発生数が少な
く、70mA/cm2 を越えるとピットが貫通しないの
で、好ましい範囲として40〜70mA/cm2 が適当
であり、さらにまた電気量として、1.2C/cm2
満たないとピットの発生数が少なく、かつ貫通ぜず、
3.6C/cm2 より多いと貫通するピットが過剰とな
るので、好ましい範囲として1.2〜3.6C/cm2
が適当である。
In the above, the chlorine ion concentration is 1
If it is less than 0 g / 1, the required number of through pits will not be generated, and if it exceeds 80 g / 1, the number of pits generated will be excessive. Therefore, a preferable range is 10 to 80 g / l. Is less than 1 g / 1, aluminum ions in the liquid are increased by the dissolved aluminum, and the liquid components are not stable, and when it exceeds 5 g / 1, the number of pits is reduced.
g / l is suitable, and if the liquid temperature is less than 65 ° C, the pits do not form tunnels and will not penetrate.
If the temperature exceeds ℃, the number of pits will be excessive. Therefore, 65 to 85 ° C is suitable as a preferable range. If the current density is less than 40 mA / cm 2 , the number of pits is small and 70 mA / cm 2 If it exceeds, the pit does not penetrate. Therefore, a preferable range is 40 to 70 mA / cm 2 , and if the electric quantity is less than 1.2 C / cm 2 , the number of pits generated is small and the pit does not penetrate.
If it is more than 3.6 C / cm 2 , the number of pits penetrating becomes excessive, so the preferable range is 1.2 to 3.6 C / cm 2.
Is appropriate.

【0009】次に第2の工程において、水溶液中の塩素
イオンの濃度を10〜30g/1の範囲とし、硫酸イオ
ンの濃度を350〜500g/1の範囲とし、アルミニ
ウムイオンの濃度を5〜20g/1の範囲とし、電流密
度を250〜350mA/cm2 とし、液温度を65〜
85℃とし、さらに電気量を12〜24C/cm2 とす
るものである。
Next, in the second step, the concentration of chloride ions in the aqueous solution is set to 10 to 30 g / 1, the concentration of sulfate ions is set to 350 to 500 g / 1, and the concentration of aluminum ions is set to 5 to 20 g. / 1, the current density is 250 to 350 mA / cm 2 , and the liquid temperature is 65 to
The temperature is 85 ° C., and the amount of electricity is 12 to 24 C / cm 2 .

【0010】上記において、塩素イオン濃度として、1
0g/1に満たないと、必要な数の非貫通ピットが発生
せず、30g/1を越えるとピットの形成と同時に表面
の溶解が進み、容量を減少させるので、好ましい範囲と
して、10〜30g/lが適当であり、また硫酸イオン
濃度として、350g/1に満たないとピットが貫通し
てしまい、500g/1を越えるとピットの長さが短く
なりすぎて、より大きい有効表面積を得られなくなるの
で、好ましい範囲として、350〜500g/lが適当
であり、またアルミニウムイオンは、5g/1に満たな
いと、溶解するアルミニウムによって液中のアルミニウ
ムイオンが増加し、液成分が安定せず、20g/1を越
えるとピットの発生数が減少するので、好ましい範囲と
して、5〜20g/lが適当であり、また液温度とし
て、65℃未満では、ピットがトンネル状にならず、8
5℃を越えるとピットの長さが短くなり、より大きい有
効表面積が得られないので、好ましい範囲として65〜
85℃が適当であり、また電流密度は、250mA/c
2 に満たないとピットが貫通してしまい、350mA
/cm2 を越えるとピットの形成と同時に表面の溶解が
進んで有効表面積を減少させるので、好ましい範囲とし
て、250〜350mA/cm2 が適当であり、さらに
また電気量として12c/cm2 に満たないと充分な数
のピットが得られず、24C/cm2 を越えると隣接す
るピットが重なってしまい、有効表面積の減少をまねく
ことになるので、好ましい範囲として12〜24C/c
2 が適当である。
In the above, the chlorine ion concentration is 1
If it is less than 0 g / 1, the required number of non-penetrating pits will not be generated, and if it exceeds 30 g / 1, the dissolution of the surface will proceed at the same time as the formation of pits and the capacity will be reduced, so the preferred range is 10-30 g. / L is appropriate, and if the sulfate ion concentration is less than 350 g / 1, the pits penetrate, and if it exceeds 500 g / 1, the pit length becomes too short and a larger effective surface area is obtained. Therefore, the preferable range is 350 to 500 g / l, and if the aluminum ion is less than 5 g / 1, the dissolved aluminum increases the aluminum ion in the liquid and the liquid component is not stable, When it exceeds 20 g / 1, the number of pits is reduced, so a preferable range is 5 to 20 g / l, and when the liquid temperature is less than 65 ° C. Pits not like a tunnel, 8
If the temperature exceeds 5 ° C, the pit length becomes short and a larger effective surface area cannot be obtained.
85 ℃ is suitable, and the current density is 250mA / c
If it is less than m 2 , the pit will penetrate, resulting in 350 mA.
If it exceeds / cm 2 , the surface will be dissolved simultaneously with the formation of pits and the effective surface area will be reduced. Therefore, the preferable range is 250 to 350 mA / cm 2 , and the electric quantity is 12 c / cm 2 . If not, a sufficient number of pits cannot be obtained, and if it exceeds 24 C / cm 2 , adjacent pits will overlap, leading to a decrease in effective surface area. Therefore, the preferable range is 12 to 24 C / c.
m 2 is suitable.

【0011】また第3工程において、水溶液中の硝酸イ
オンの濃度を100〜200g/lの範囲とし、アルミ
ニウムイオンの濃度を10〜30g/lの範囲とするも
のである。上記において、硝酸イオンが100g/lに
満たないとピット拡大効果が少なく、200g/lを越
えると、表面の溶解が進み容量を減少させるので好まし
い範囲として100〜200g/lが適当であり、また
アルミニウムイオンは、10g/lに満たないと溶解の
安定性が悪く、30g/lを越えるとピット拡大能力が
低下するので好ましい範囲として10〜30g/lが適
当である。また他の方法として、水溶液中の塩素イオン
の濃度を10〜30g/l,アルミニウムイオンの濃度
を5〜20g/lとするものである。上記において、塩
素イオンが10g/lに満たないとピット拡大効果が少
なく、30g/lを越えると、表面の溶解が進み有効表
面積を減少させるので、好ましい範囲として10〜30
g/lが適当であり、アルミニウムイオンは、5g/l
に満たないと溶解の安定性が悪く、20g/lを越える
とピット拡大能力が低下するので好ましい範囲として5
〜20g/lが適当である。また第3工程において、液
温度を60〜85℃で電気化学的に行う場合は電流密度
を10〜300mA/cm2 ,電気量を6〜42C/c
2 とし、化学的に行う場合はエッチング時間を3〜3
0分とするものである。上記において、液温度は60℃
未満ではピット拡大能力が低く、85℃を越えると表面
の溶解が進んでしまうもので、好ましい範囲として60
〜85℃が適当である。また電気化学的に行う場合にお
いて、電流密度が10mA/cm2 未満ではピット拡大
効果が少なく、300mA/cm2 を越えると、表面の
溶解が進んでしまうので、好ましい範囲として10〜3
00mA/cm2 が適当であり、また電気量は6C/c
2 に満たないとピット拡大効果が少なく、42C/c
2 を越えるとピットが拡大しすぎて有効表面積の増大
に効果の大きい非貫通ピットの減少をまねいてしまうの
で、好ましい範囲として6〜42C/cm2 が適当であ
る。さらに化学的に行う場合において、3分に満たない
とピット拡大効果が少なく、30分を越えるとピットが
拡大しすぎて有効表面積の増大に効果の大きい非貫通ピ
ットの減少をまねくので、好ましい範囲として3〜30
分が適当である。
In the third step, the concentration of nitrate ions in the aqueous solution is set to 100 to 200 g / l and the concentration of aluminum ions is set to 10 to 30 g / l. In the above, if the nitrate ion is less than 100 g / l, the pit expansion effect is small, and if it exceeds 200 g / l, the dissolution of the surface proceeds and the capacity is reduced, so a preferable range is 100 to 200 g / l. If the amount of aluminum ion is less than 10 g / l, the dissolution stability is poor, and if it exceeds 30 g / l, the pit expansion capability is reduced, so a preferable range is 10 to 30 g / l. As another method, the chlorine ion concentration in the aqueous solution is 10 to 30 g / l and the aluminum ion concentration is 5 to 20 g / l. In the above, if the chloride ion is less than 10 g / l, the pit expansion effect is small, and if it exceeds 30 g / l, the dissolution of the surface progresses and the effective surface area is reduced.
g / l is suitable, aluminum ion is 5 g / l
If the amount is less than 10 g, the stability of dissolution is poor, and if it exceeds 20 g / l, the pit expansion capability decreases, so the preferable range is 5
-20 g / l is suitable. Further, in the third step, when electrochemically performed at a liquid temperature of 60 to 85 ° C., a current density is 10 to 300 mA / cm 2 , and an electric quantity is 6 to 42 C / c.
m 2 and the etching time is 3 to 3 when chemically performed.
It is set to 0 minutes. In the above, the liquid temperature is 60 ° C
If it is less than 80%, the pit expansion ability is low, and if it exceeds 85 ° C., the dissolution of the surface will proceed.
A temperature of ~ 85 ° C is suitable. Further, in the case of performing electrochemically, if the current density is less than 10 mA / cm 2 , the pit expansion effect is small, and if it exceeds 300 mA / cm 2 , dissolution of the surface will proceed, so the preferred range is 10 to 3
00mA / cm 2 is suitable, and the amount of electricity is 6C / c
If it is less than m 2 , the pit expansion effect is small and 42 C / c
Because if it exceeds m 2 pits which leads to decrease in the large blind pits increase the effect of the effective surface area is too enlarged, it is appropriate 6~42C / cm 2 as a preferred range. Further, in the case of chemical treatment, if the time is less than 3 minutes, the pit expansion effect is small, and if it exceeds 30 minutes, the pits are excessively expanded and the non-penetrating pits, which have a large effect on increasing the effective surface area, are reduced. As 3 to 30
Minutes are appropriate.

【0012】また第1の工程と第2の工程の間に加える
中間工程において、水溶液中の硝酸イオンの濃度を10
0〜200g/1の範囲とし、アルミニウムイオンの濃
度を10〜30g/1の範囲とする。
In addition, in the intermediate step added between the first step and the second step, the concentration of nitrate ion in the aqueous solution is adjusted to 10%.
The range is 0 to 200 g / 1, and the concentration of aluminum ions is 10 to 30 g / 1.

【0013】上記において硝酸イオンが100g/1に
満たないとピット拡大効果が少なく、200g/1を越
えると、表面の溶解が進み有効表面積を減少させること
によるもので、好ましい範囲として100〜200g/
lが適当であり、またアルミニウムイオンは、10g/
1に満たないと溶解の安定性が悪く、30g/1を越え
るとピット拡大能力が悪くなるので好ましい範囲として
10〜30g/lが適当である。
In the above, when the nitrate ion is less than 100 g / 1, the pit expansion effect is small, and when it exceeds 200 g / 1, the dissolution of the surface progresses to reduce the effective surface area, and the preferable range is 100 to 200 g /
1 is suitable, and aluminum ion is 10 g /
If it is less than 1, the dissolution stability is poor, and if it exceeds 30 g / 1, the pit expansion capability is poor, so a preferable range is 10 to 30 g / l.

【0014】また第1の工程と第2の工程との間に加え
る中間工程における他の方法として、水溶液中の塩素イ
オンの濃度を10〜30g/1、アルミニウムイオンの
濃度を5〜20g/1とする。
As another method in the intermediate step added between the first step and the second step, the concentration of chloride ion in the aqueous solution is 10 to 30 g / 1, and the concentration of aluminum ion is 5 to 20 g / 1. And

【0015】上記において、塩素イオンが10g/1に
満たないとピット拡大効果が少なく、30g/1を越え
ると、表面の溶解が進み容量を減少させることになるも
ので、好ましい範囲として10〜30g/lが適当であ
り、またアルミニウムイオンは、5g/1に満たないと
溶解の安定性が悪く、20g/1を越えるとピット拡大
能力が低下するので、好ましい範囲として5〜20g/
lが適当である。
In the above, if the chlorine ion is less than 10 g / 1, the pit expansion effect is small, and if it exceeds 30 g / 1, the dissolution of the surface proceeds and the capacity is reduced, and the preferable range is 10 to 30 g. / L is suitable, and if the aluminum ion content is less than 5 g / 1, the dissolution stability is poor, and if it exceeds 20 g / 1, the pit expansion capability decreases, so the preferred range is 5-20 g / l.
l is suitable.

【0016】また第1の工程と第2の工程の間に加える
中間工程において、液温度を60〜85℃とすると共
に、電気化学的に行う場合は、電流密度を10〜300
mA/cm2 、電気量を0.6〜6C/cm2 とし、中
間工程を化学的に行う場合は、エッチング時間を3〜1
0分とする。
In addition, in the intermediate step added between the first step and the second step, the liquid temperature is set to 60 to 85 ° C., and when electrochemically performed, the current density is set to 10 to 300.
When the intermediate step is chemically performed, the etching time is 3 to 1 when mA / cm 2 and the amount of electricity are 0.6 to 6 C / cm 2.
0 minutes.

【0017】上記において、液温度は60℃未満ではピ
ット拡大能力が低く、85℃を越えると表面の溶解が進
んでしまうもので、好ましい範囲として60〜85℃が
適当であり、また中間工程を電気化学的に行う場合にお
いて、電流密度が10mA/cm2 未満ではピット拡大
効果が少なく、300mA/cm2 を越えると表面の溶
解が進んでしまうので、好ましい範囲として10〜30
0mA/cm2 が適当である。また電気量は0.6C/
cm2 に満たないとピット拡大効果が少なく、6C/c
2 を越えるとピットが拡大しすぎて有効表面積の増大
に効果の大きい非貫通ピットの減少をまねくので、好ま
しい範囲として0.6〜6C/cm2 が適当である。
In the above, if the liquid temperature is lower than 60 ° C., the pit expansion ability is low, and if it exceeds 85 ° C., the dissolution of the surface is promoted. A preferable range is 60 to 85 ° C. When electrochemically performed, if the current density is less than 10 mA / cm 2 , the pit-expansion effect is small, and if it exceeds 300 mA / cm 2 , dissolution of the surface proceeds, so the preferred range is 10 to 30.
0 mA / cm 2 is suitable. The amount of electricity is 0.6C /
If it is less than cm 2 , the pit expansion effect is small and 6C / c
Since exceeds m 2 too enlarged pits leads to an increase decrease in the large blind pits effect on the effective surface area is suitably 0.6~6C / cm 2 as a preferred range.

【0018】また中間工程を化学的に行う場合におい
て、エッチング時間が、3分に満たないとピット拡大効
果が少なく、10分を越えるとピットが拡大しすぎて有
効表面積の増大に効果の大きい非貫通ピットの減少をま
ねくので、好ましい範囲として3〜10分が適当であ
る。
In the case where the intermediate step is chemically performed, if the etching time is less than 3 minutes, the pit expansion effect is small, and if it exceeds 10 minutes, the pits are excessively expanded and the effective surface area is greatly increased. 3 to 10 minutes is suitable as a preferable range because it leads to a reduction in through pits.

【0019】次に本発明の電解コンデンサ用アルミニウ
ム箔のエッチング方法を従来例と比較して説明する。
Next, the etching method of the aluminum foil for electrolytic capacitors of the present invention will be described in comparison with a conventional example.

【0020】(実施例1)厚さ104μm、O材,4
N,(100)面占有率90%のアルミニウム箔を塩素
イオン65.0g/1,アルミニウムイオン2.4g/
1を含む水溶液中で、電流密度60mA/cm2 ,電気
量3.6C/cm2 ,液温度75℃で直流エッチングし
た第1の工程の後、第2の工程として塩素イオン22g
/1,硫酸イオン435g/1,アルミニウムイオン1
4g/1を含む水溶液中で電流密度300mA/c
2 ,電気量18C/cm2 ,液温度72℃で直流エッ
チングし、さらに第3の工程として硝酸イオン135g
/1,アルミニウムイオン18g/1を含む水溶液中で
液温度75℃で10分間化学エッチングする。
Example 1 Thickness 104 μm, O material, 4
Aluminum foil with N, (100) plane occupancy 90% is filled with chlorine ions 65.0 g / 1, aluminum ions 2.4 g /
In an aqueous solution containing 1, current density of 60 mA / cm 2, amount of electricity 3.6C / cm 2, after the first step of the DC etched at a liquid temperature of 75 ° C., chlorine ions 22g as the second step
/ 1, sulfate ion 435g / 1, aluminum ion 1
Current density 300 mA / c in aqueous solution containing 4 g / 1
m 2 , electric quantity 18 C / cm 2 , direct current etching at a liquid temperature of 72 ° C., and as a third step, nitrate ion 135 g
Chemical etching is performed for 10 minutes at a liquid temperature of 75 ° C. in an aqueous solution containing 1/1 of aluminum ion 18 g / 1.

【0021】(実施例2)厚さ104μm,O材,4N
(100)面占有率90%のアルミニウム箔を実施例1
の第1工程と同じ水溶液中で電流密度60mA/c
2 ,電気量1.4C/cm2 ,液温度75℃で直流エ
ッチングした第1の工程の後、中間工程として硝酸イオ
ン135g/1,アルミニウムイオン18g/1を含む
水溶液中で液温度75℃で5分間化学エッチングする。
次いで第2工程として塩素イオン22g/1,硫酸イオ
ン435g/1,アルミニウムイオン14g/1を含む
水溶液中で電流密度300mA/cm2 ,電気量18C
/cm2 ,液温度72℃で直流エッチングした後、第3
の工程として硝酸イオン135g/1,アルミニウムイ
オン18g/1を含む水溶液中で液温度75℃で10分
間化学エッチングする。
Example 2 Thickness 104 μm, O material, 4N
Example 1 An aluminum foil having a (100) plane occupancy of 90% was used.
Current density of 60 mA / c in the same aqueous solution as the first step
After the first step in which direct current etching was performed at m 2 , an electric quantity of 1.4 C / cm 2 , and a liquid temperature of 75 ° C., a liquid temperature of 75 ° C. was used as an intermediate step in an aqueous solution containing 135 g / 1 of nitrate ions and 18 g / 1 of aluminum ions. Chemically etch for 5 minutes.
Then, as a second step, in a solution containing chlorine ions 22 g / 1, sulfate ions 435 g / 1, aluminum ions 14 g / 1, a current density of 300 mA / cm 2 and an electric quantity of 18 C
/ DC 2 , liquid temperature 72 ℃, after DC etching,
In this step, chemical etching is performed for 10 minutes at a liquid temperature of 75 ° C. in an aqueous solution containing nitrate ions of 135 g / 1 and aluminum ions of 18 g / 1.

【0022】(実施例3)厚さ104μm,0材,4N
(100)面占有率90%のアルミニウム箔を実施例1
の第1の工程と同じ液で電流密度60mA/cm2 ,電
気量1.8C/cm2 ,液温度75℃で直流エッチング
した後、中間工程として塩素イオン15g/l,アルミ
ニウムイオン18g/lを含む水溶液中で電流密度15
mA/cm2 ,電気量1.8C/cm2 ,液温度65℃
で直流エッチングする。次いで第2工程として塩素イオ
ン22g/l,硫酸イオン435g/l,アルミニウム
14g/lを含む水溶液中で電流密度300mA/cm
2 ,電気量18C/cm2 ,液温度72℃で直流エッチ
ングした後、第3工程として塩素イオン15g/l,ア
ルミニウムイオン18g/lを含む水溶液中で電流密度
100mA/cm2 ,電気量30C/cm2 ,液温度6
5℃で直流エッチングする。 (従来例)厚さ104 m,O材,4N,(100)面
占有率90%のアルミニウム箔を実施例1の第2の工程
と同じ液で電流密度100mA/cm2 ,電気量21.
6C/cm2 ,液温度68℃で直流エッチングし、実施
例1の第3の工程と同じ化学エッチングを行った。上記
実施例及び従来例でエッチングしたアルミニウム箔のそ
れぞれを、ホウ酸水溶液中で350V化成し、その静電
容量と機械的強度として折曲強度及び貫通の程度として
一定量の空気が化成箔の一定の面積を透過するのに要す
る時間を透気度(透気度は値が小さいほど貫通の程度が
良いことを示す)測定したところ、表1に示すような結
果を得た。
(Embodiment 3) Thickness 104 μm, 0 material, 4N
Example 1 An aluminum foil having a (100) plane occupancy of 90% was used.
Current density 60 mA / cm 2 in the same liquid as the first step of the quantity of electricity 1.8C / cm 2, after DC etched at a liquid temperature of 75 ° C., chlorine ions 15 g / l as an intermediate step, an aluminum ion 18 g / l Current density 15 in aqueous solution containing
mA / cm 2 , electricity amount 1.8 C / cm 2 , liquid temperature 65 ° C.
DC etching with. Then, in a second step, a current density of 300 mA / cm 2 in an aqueous solution containing chlorine ion 22 g / l, sulfate ion 435 g / l, and aluminum 14 g / l.
2 , direct current etching at a charge of 18 C / cm 2 and a liquid temperature of 72 ° C., and then as a third step, in a solution containing chlorine ions of 15 g / l and aluminum ions of 18 g / l, a current density of 100 mA / cm 2 and a charge of 30 C / l. cm 2 , liquid temperature 6
DC etching is performed at 5 ° C. (Conventional example) An aluminum foil having a thickness of 104 m, O material, 4N, and (100) plane occupancy rate of 90% was formed with the same liquid as in the second step of Example 1 with a current density of 100 mA / cm 2 , and an electric charge of 21.
Direct current etching was performed at 6 C / cm 2 and a liquid temperature of 68 ° C., and the same chemical etching as in the third step of Example 1 was performed. Each of the aluminum foils etched in the above-mentioned examples and conventional examples was subjected to 350 V formation in a boric acid aqueous solution, and its capacitance and mechanical strength were bending strength, and a certain amount of air was used as the degree of penetration to form a constant amount of the formation foil. The air permeability (the smaller the value of the air permeability, the better the degree of penetration) was measured, and the results shown in Table 1 were obtained.

【表1】 [Table 1]

【0023】表1から明らかなように、実施例1のもの
は従来例によるものと比較して、静電容量、透気度が同
程度ながら、折曲強度において優れており、また実施例
2及び3では、実施例Iほどの折曲強度はないものの、
従来例と比較して折曲強度と通気度において優れてお
り、本発明の効果を実証している。
As is clear from Table 1, the example 1 is superior in bending strength to the conventional example, while having the same capacitance and air permeability, and is also excellent in the bending strength. In Examples 3 and 4, although not as strong as Example I,
It is superior in bending strength and air permeability as compared with the conventional example, demonstrating the effect of the present invention.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、貫通ピットと非貫通ピ
ット、換言すれば、電極箔に貫通性を持たせるに必要な
ピットと有効表面積の増大に大きな効果をもたらすピッ
トとを別々に形成することが可能で、過剰な貫通ピット
を形成せしめないために、箔強度の低下を防ぐことがで
きて、機械的強度の高い電解コンデンサ用アルミニウム
箔を製造する電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチ
ング方法を提供することができる。
According to the present invention, penetrating pits and non-penetrating pits, in other words, pits necessary for imparting penetrability to the electrode foil and pits having a great effect on increasing the effective surface area are separately formed. In order to prevent the formation of excessive through pits, it is possible to prevent the decrease in foil strength and to produce an aluminum foil for electrolytic capacitors with high mechanical strength. Can be provided.

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成7年5月11日[Submission date] May 11, 1995

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0023[Name of item to be corrected] 0023

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0023】表1から明らかなように、実施例1のもの
は従来例によるものと比較して、静電容量、透気度が同
程度ながら、折曲強度において優れており、また実施例
2及び3では、実施例1ほどの折曲強度はないものの、
従来例と比較して折曲強度と透気度において優れてお
り、本発明の効果を実証している。
As is clear from Table 1, the example 1 is superior in bending strength to the conventional example, while having the same capacitance and air permeability, and is also excellent in the bending strength. In Examples 3 and 4, although the bending strength is not as high as in Example 1,
It is superior in bending strength and air permeability as compared with the conventional example, demonstrating the effect of the present invention.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも塩素イオンを含む水溶液中に
て、直流電流にて電気化学的にエッチングを行う第1の
工程と、少なくとも塩素イオンと硫酸イオンを含む水溶
液中において、直流電流にて電気化学的にエッチングを
行う第2の工程と、硝酸イオンあるいは塩素イオンを含
む水溶液中にて電気化学的あるいは化学的にエッチング
する第3の工程とを経てなる電解コンデンサ用アルミニ
ウム箔のエッチング方法において、第1の工程で、貫通
ピットを形成し、第2の工程で、非貫通ピットを形成
し、第3の工程で、すでに形成されたピットを拡大する
ことを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム箔のエ
ッチング方法。
1. A first step of electrochemically etching at a direct current in an aqueous solution containing at least chlorine ions, and electrochemically at a direct current in an aqueous solution containing at least chlorine ions and sulfate ions. In a method for etching an aluminum foil for electrolytic capacitors, which comprises a second step of selectively etching and a third step of electrochemically or chemically etching in an aqueous solution containing nitrate ions or chlorine ions. Etching of aluminum foil for electrolytic capacitors, characterized in that through-pits are formed in the first step, non-through-pits are formed in the second step, and the pits already formed are enlarged in the third step. Method.
【請求項2】 第1の工程と、第2の工程の間に、少な
くとも硝酸イオンあるいは塩素イオンを含む水溶液中に
て、電気化学的あるいは化学的にエッチングを行い、貫
通ピットを拡大する中間工程を加えることを特徴とする
請求項1記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッ
チング方法。
2. An intermediate step of enlarging the through pits by electrochemically or chemically etching in an aqueous solution containing at least nitrate ions or chlorine ions between the first step and the second step. The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, further comprising:
【請求項3】 第1の工程においてエッチングの電流密
度が40〜70mA/cm2 ,電気量が1.2〜3.6
C/cm2 ,液温度が65〜85℃である請求項1また
は2記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチン
グ方法。
3. In the first step, the etching current density is 40 to 70 mA / cm 2 , and the quantity of electricity is 1.2 to 3.6.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein C / cm 2 and a liquid temperature are 65 to 85 ° C.
【請求項4】 第2の工程において、エッチングの電流
密度が250〜350mA/cm2 ,電気量が12〜2
4C/cm2 ,液温度が65〜85℃である請求項1,
2または3記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエ
ッチング方法。
4. In the second step, the etching current density is 250 to 350 mA / cm 2 , and the electric quantity is 12 to 2
4. The temperature is 4 C / cm 2 , and the liquid temperature is 65 to 85 ° C.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor as described in 2 or 3.
【請求項5】 第3の工程を電気化学的に行う場合にお
いて、液温度60〜85℃、電流密度10〜300mA
/cm2 、電気量6〜42C/cm2 の範囲とする請求
項1,2,3または4記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム箔のエッチング方法。
5. When performing the third step electrochemically, the liquid temperature is 60 to 85 ° C. and the current density is 10 to 300 mA.
/ Cm < 2 >, and the amount of electricity is 6 to 42 C / cm < 2 >, The etching method of the aluminum foil for electrolytic capacitors of Claim 1, 2, 3 or 4.
【請求項6】 第3工程を化学的に行う場合において、
液温度60〜85℃、エンチング時間3〜30分の範囲
とする請求項1,2,3,または4記載の電解コンデン
サ用アルミニウム箔のエッチング方法。
6. When the third step is chemically performed,
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the liquid temperature is in the range of 60 to 85 ° C and the enching time is in the range of 3 to 30 minutes.
【請求項7】 中間工程を電気化学的に行う場合におい
て、液温度を60〜85℃、電流密度を10〜300m
A/cm2 ,電気量を0.6〜6C/cm2の範囲とす
る請求項2,3,4,5または6記載の電解コンデンサ
用アルミニウム箔のエッチング方法。
7. When performing the intermediate step electrochemically, the liquid temperature is 60 to 85 ° C. and the current density is 10 to 300 m.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 2, 3, 4, 5 or 6, wherein A / cm 2 and an amount of electricity are in the range of 0.6 to 6 C / cm 2 .
【請求項8】 中間工程を化学的に行う場合において、
液温度を60〜85℃、エッチング時間を3〜10分の
範囲とする請求項2,3,4,5,6または7記載の電
解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法。
8. When the intermediate step is chemically carried out,
The method for etching an aluminum foil for electrolytic capacitors according to claim 2, 3, 4, 5, 6 or 7, wherein the liquid temperature is 60 to 85 ° C and the etching time is 3 to 10 minutes.
【請求項9】 第1の工程で使用する電解液が少なくと
も塩素イオン10〜80g/1,アルミニウムイオン1
〜5g/1の範囲を含む請求項1乃至8のいづれか1記
載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方
法。
9. The electrolytic solution used in the first step is at least 10 to 80 g / 1 of chlorine ions and 1 of aluminum ions.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 8, wherein the etching range is from 5 to 5 g / 1.
【請求項10】 第2の工程で使用する電解液が少なく
とも塩素イオン10〜30g/1,硫酸イオン350〜
500g/1,アルミニウムイオン5〜20g/1の範
囲を含む請求項1乃至9のいづれか1記載の電解コンデ
ンサ用アルミニウム箔のエッチング方法。
10. The electrolytic solution used in the second step is at least 10 to 30 g of chloride ions / 1, 350 to sulfate ions 350.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 9, comprising a range of 500 g / 1 and aluminum ions 5 to 20 g / 1.
【請求項11】 第3の工程において、水溶液が、少な
くとも硝酸イオン100〜200g/l、アルミニウム
イオン10〜30g/lの範囲を含むか、或いは少なく
とも塩素イオン10〜30g/l、アルミニウムイオン
5〜20g/lの範囲を含むいづれか1項記載の電解コ
ンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法。
11. In the third step, the aqueous solution contains at least nitrate ion in the range of 100 to 200 g / l and aluminum ion in the range of 10 to 30 g / l, or at least chloride ion in the range of 10 to 30 g / l and aluminum ion 5 to 5. 2. The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the aluminum foil contains a range of 20 g / l.
【請求項12】 中間工程で使用する水溶液が、少なく
とも硝酸イオン100〜200g/1,アルミニウムイ
オン10〜30g/1の範囲を含むか、或いは少なくと
も塩素イオン10〜30g/1,アルミニウムイオン5
〜20g/1の範囲を含む水溶液のいずれかである請求
項2乃至11のいづれか1記載の電解コンデンサ用アル
ミニウム箔のエッチング方法。
12. The aqueous solution used in the intermediate step contains at least nitrate ion in the range of 100 to 200 g / 1 and aluminum ion in the range of 10 to 30 g / 1, or at least chloride ion in the range of 10 to 30 g / 1 and aluminum ion 5.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to any one of claims 2 to 11, wherein the etching method is an aqueous solution containing a range of -20g / 1.
JP09319595A 1995-03-28 1995-03-28 Etching method of aluminum foil for electrolytic capacitor Expired - Fee Related JP3252313B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09319595A JP3252313B2 (en) 1995-03-28 1995-03-28 Etching method of aluminum foil for electrolytic capacitor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09319595A JP3252313B2 (en) 1995-03-28 1995-03-28 Etching method of aluminum foil for electrolytic capacitor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08264391A true JPH08264391A (en) 1996-10-11
JP3252313B2 JP3252313B2 (en) 2002-02-04

Family

ID=14075807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP09319595A Expired - Fee Related JP3252313B2 (en) 1995-03-28 1995-03-28 Etching method of aluminum foil for electrolytic capacitor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3252313B2 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001102271A (en) * 1999-09-29 2001-04-13 Nippon Light Metal Co Ltd Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor
WO2001043150A1 (en) * 1999-12-08 2001-06-14 Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha Aluminum alloy clad foil for intermediate- and high-voltage anode of electrolytic capacitor
JP2005203531A (en) * 2004-01-15 2005-07-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production method of electrode foil for aluminium electrolytic capacitor
JP2007142060A (en) * 2005-11-17 2007-06-07 Nichicon Corp Method of manufacturing aluminum electrode foil for electrolytic capacitor
JP2007258288A (en) * 2006-03-22 2007-10-04 Nichicon Corp Manufacturing method of electrode foil for electrolytic capacitor
JP2008192647A (en) * 2007-01-31 2008-08-21 Nichicon Corp Production method of aluminum foil for electrolytic capacitor
US8125767B2 (en) 2006-12-27 2012-02-28 Jm Energy Corporation Coated electrode and organic electrolyte capacitor
CN110257893A (en) * 2019-05-29 2019-09-20 安徽省临泉县康悦电子科技有限公司 A kind of aluminum foil corrosion technique

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001040536A1 (en) 1999-11-29 2001-06-07 Fujikura Ltd. Polycrystalline thin film and method for preparation thereof, and superconducting oxide and method for preparation thereof

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001102271A (en) * 1999-09-29 2001-04-13 Nippon Light Metal Co Ltd Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor
WO2001043150A1 (en) * 1999-12-08 2001-06-14 Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha Aluminum alloy clad foil for intermediate- and high-voltage anode of electrolytic capacitor
JP2005203531A (en) * 2004-01-15 2005-07-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production method of electrode foil for aluminium electrolytic capacitor
JP4547919B2 (en) * 2004-01-15 2010-09-22 パナソニック株式会社 Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP2007142060A (en) * 2005-11-17 2007-06-07 Nichicon Corp Method of manufacturing aluminum electrode foil for electrolytic capacitor
JP4695966B2 (en) * 2005-11-17 2011-06-08 ニチコン株式会社 Method for producing aluminum electrode foil for electrolytic capacitor
JP2007258288A (en) * 2006-03-22 2007-10-04 Nichicon Corp Manufacturing method of electrode foil for electrolytic capacitor
US8125767B2 (en) 2006-12-27 2012-02-28 Jm Energy Corporation Coated electrode and organic electrolyte capacitor
JP2008192647A (en) * 2007-01-31 2008-08-21 Nichicon Corp Production method of aluminum foil for electrolytic capacitor
CN110257893A (en) * 2019-05-29 2019-09-20 安徽省临泉县康悦电子科技有限公司 A kind of aluminum foil corrosion technique

Also Published As

Publication number Publication date
JP3252313B2 (en) 2002-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4420367A (en) Method for etching a recrystallized aluminum foil for electrolytic capacitors
JPS6134187A (en) Etching of aluminum anode foil to high voltage electrolytic condenser
US5503718A (en) Method of etching aluminum foil for electrolytic capacitors
JPH08264391A (en) Etching of aluminum foil for electrolytic capacitor
JPS61210191A (en) Method for etching aluminium electrolytic condenser
JPS60163423A (en) Method of etching aluminum foil for electrolytic condenser electrode
JP3498349B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JPH06275475A (en) Production of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP4690171B2 (en) Method for producing aluminum electrode foil for electrolytic capacitor
JP2696882B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP4428037B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP2758040B2 (en) Electrode etching method for electrolytic capacitor
JP2692107B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP2745575B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP4089333B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP2002246274A (en) Electrode foil for aluminum electrolytic capacitor and its producing method
JP2692108B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP2745520B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
RU2559815C1 (en) Method of manufacturing of high developed surface on recrystallized aluminium electrode foil for electrolytic capacitor
JP4695966B2 (en) Method for producing aluminum electrode foil for electrolytic capacitor
JP2638038B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JPH1187186A (en) Etching method for electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JP3480164B2 (en) Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
JPS6225248B2 (en)
JP3722466B2 (en) Aluminum foil for electrolytic capacitors

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081122

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081122

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091122

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101122

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101122

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111122

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111122

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121122

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees