JP3252313B2 - Etching method of aluminum foil for electrolytic capacitor - Google Patents

Etching method of aluminum foil for electrolytic capacitor

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JP3252313B2
JP3252313B2 JP09319595A JP9319595A JP3252313B2 JP 3252313 B2 JP3252313 B2 JP 3252313B2 JP 09319595 A JP09319595 A JP 09319595A JP 9319595 A JP9319595 A JP 9319595A JP 3252313 B2 JP3252313 B2 JP 3252313B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電解コンデンサ用アル
ミニウム箔のエッチング方法に関する。
The present invention relates to a method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に電解コンデンサ用アルミニウム電
極箔は、その有効表面積を拡大する目的で通常電解エッ
チングと化学エッチングがおのおの単独あるいは組合せ
で行われ、特に「貫通タイプ」と呼ばれる電解コンデン
サ用アルミニウム電極箔では、アルミニウム箔を貫通す
るトンネル状のピットが箔面に垂直方向に形成されてい
る。この貫通ピットを通して陰極箔に対するイオン伝導
が行われるため2枚の箔を重ねて用いるいわゆるダブル
アノード用として使用できる。しかし貫通ピットが大多
数を占めている「貫通タイプ」では、折り曲げ強度が低
いのでコンデンサ素子としての電極箔の巻取り時に箔切
れが生ずるという問題がある。一方アルミニウム箔の厚
さの中心部近傍に、厚さの5〜20%程度のピットの存
在しない「芯」部分を残したいわゆる「芯残りタイプ」
は、貫通ピットがないため機械的強度は高いが、ダブル
アノード用としては使用し得ないという問題点がある。
また電解コンデンサの小型化のために有効表面積をより
拡大するには、エッチングによるトンネル状のピット数
を増大しなければならないが、トンネル状のピット数の
増大は腐食量を増大することになり、箔の機械的強度の
低下をまねく。特に「貫通タイプ」の箔でトンネル状の
ピット数を増大すると機械的強度の低下が著しい。他方
「芯残りタイプ」の箔は、「芯」の部分が残っているた
め、機械的強度の低下は少なく、トンネル状ピット数の
増大が容易なことから、有効表面積を大きくできる利点
を有する。また有効表面積を拡大しながら箔の機械的強
度を維持するために従来は箔の表面のエッチングされな
い線状または帯状の非腐食部分を形成するなどの方法が
提案されている。
2. Description of the Related Art Generally, aluminum electrode foils for electrolytic capacitors are usually subjected to electrolytic etching and chemical etching alone or in combination for the purpose of increasing the effective surface area. In, tunnel-shaped pits penetrating the aluminum foil are formed in a direction perpendicular to the foil surface. Since ion conduction to the cathode foil is performed through the through pits, the foil can be used for a so-called double anode in which two foils are stacked. However, in the “penetration type” in which the penetration pits occupy the majority, there is a problem that the foil strength is low and the foil is cut off when winding the electrode foil as the capacitor element. On the other hand, a so-called "core remaining type" in which a "core" portion having no pit of about 5 to 20% of the thickness is left near the center of the thickness of the aluminum foil.
However, although there is no through pit, the mechanical strength is high, but there is a problem that it cannot be used for a double anode.
In order to further increase the effective surface area for miniaturization of the electrolytic capacitor, the number of tunnel-like pits due to etching must be increased, but the increase in the number of tunnel-like pits increases the amount of corrosion, This leads to a decrease in the mechanical strength of the foil. In particular, when the number of tunnel-like pits is increased in a “penetrating type” foil, the mechanical strength is significantly reduced. On the other hand, the "core-remaining type" foil has the advantage that the effective core area can be increased because the "core" portion remains, so that the mechanical strength decreases little and the number of tunnel-like pits can be easily increased. In order to maintain the mechanical strength of the foil while increasing the effective surface area, a method of forming a non-etched linear or band-shaped non-corroded portion on the surface of the foil has been conventionally proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら線状また
は帯状の非腐食部分を設けることは、それだけ有効表面
積の拡大を妨げるという欠陥を有する。また腐食量を増
大することにより有効表面積を拡大するときは、箔の機
械的強度が低下するので化成して使用する場合もろくな
って折れやすく、そのためコンデンサ素子の巻き芯部に
巻く段階でその巻き芯部の直径を太くして巻き回す曲率
半径を大きくする必要があるが、巻き芯部の直径を太く
するときはコンデンサ素子の中心部に無駄な空間が生じ
て、静電容量に対するコンデンサの体積効率が低くなる
という不都合を有し、有効表面積の拡大と機械的強度の
保持という相反する作用を同時に解決することは極めて
困難であった。そこで本発明は、上記した従来の困難な
問題を解決することを目的としたものである。
However, the provision of linear or strip-shaped non-corroded portions has the disadvantage that the effective surface area is prevented from being increased accordingly. When the effective surface area is increased by increasing the amount of corrosion, the mechanical strength of the foil is reduced, so that the foil is brittle and fragile when used for chemical conversion. It is necessary to increase the radius of curvature for winding by increasing the diameter of the core, but when increasing the diameter of the winding core, useless space is created in the center of the capacitor element, and the volume of the capacitor relative to the capacitance is reduced. It has the disadvantage of low efficiency, and it has been extremely difficult to simultaneously resolve the conflicting effects of increasing the effective surface area and maintaining mechanical strength. Therefore, an object of the present invention is to solve the above-described conventional difficult problem.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】従来貫通タイプのアルミ
ニウム電極箔は、有効表面積を増すために形成するトン
ネルピットが箔を貫通するまで深く伸長したものである
が、貫通タイプといってもアルミニウム電極箔に形成さ
れる全てのピットが箔を貫通しているものではなく、そ
の内には、箔の厚さの中心を越えて伸長するが非貫通の
ものも存在する。またダブルアノード用として必要な貫
通の程度は、必ずしもすべてのピットが貫通している必
要はなく、貫通ピットが減らせればそれだけ機械的強度
の低下を防ぐことができる。貫通ピットを極端に減らし
た場合は、貫通の程度が悪くなることがあるが、その場
合は、貫通ピットだけ選択的に太くする工程を設ける方
法で充分な貫通の程度を保持することができる。これら
のことから貫通タイプのアルミニウム電極箔を製造する
ためのエッチング方法において、貫通ピットと非貫通ピ
ットを別々に形成することを考案した。
Means for Solving the Problems In the conventional penetration type aluminum electrode foil, a tunnel pit formed in order to increase the effective surface area is extended deeply until it penetrates the foil. Not all pits formed in the foil penetrate the foil, some of which extend beyond the center of the foil thickness but are non-penetrating. Also, the degree of penetration required for the double anode is not necessarily required to penetrate all the pits. If the number of penetration pits can be reduced, a decrease in mechanical strength can be prevented accordingly. When the number of through pits is extremely reduced, the degree of penetration may be deteriorated. In such a case, a method of providing a step of selectively increasing the thickness of only the through pits can maintain a sufficient degree of penetration. From these facts, in the etching method for manufacturing the through-type aluminum electrode foil, it has been devised to separately form the through pit and the non-through pit.

【0005】即ち、本願発明による電解コンデンサ用ア
ルミニウム箔の製造方法は、少なくとも塩素イオンを含
む水溶液中において、直流電流にて電気化学的にエッチ
ングを行って、貫通ピットを形成する第1の工程と、少
なくとも塩素イオンと硫酸イオンを含む水溶液中におい
て、直流電流にて電気化学的にエッチングを行って、非
貫通ピットを形成する第2の工程と、硝酸イオンあるい
は塩素イオンを含む水溶液中において、電気化学的ある
いは化学的にエッチングして、すでに形成されたピット
を拡大する第3の工程とを経て成る電解コンデンサ用ア
ルミニウム箔のエッチング方法において、第1の工程に
おいて、エッチングの電流密度が40〜70mA/cm
,電気量が1.2〜3.6C/cm,液温度が65
〜85℃であり、または/および第2の工程において、
エッチングの電流密度が250〜350mA/cm
電気量が12〜24C/cm,液温度が65〜85℃
であり、または/および第3の工程を電気化学的に行う
場合においては、電流密度が10〜300mA/c
,電気量が6〜42C/cm,液温度が60〜8
5℃であり、第3の工程を化学的に行う場合において
は、液温度が60〜85℃,エッチング時間3〜30分
の範囲であることを特徴とするものである。
That is, the method of manufacturing an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to the present invention comprises a first step of electrochemically etching with a direct current in an aqueous solution containing at least chlorine ions to form through pits. A second step of electrochemically etching with a direct current in an aqueous solution containing at least chloride ions and sulfate ions to form non-penetrating pits; A third step of enlarging the pits already formed by chemically or chemically etching the aluminum foil for an electrolytic capacitor, the method comprising the steps of: (a) forming a current density of 40 to 70 mA in the first step; / Cm
2 , the quantity of electricity is 1.2 to 3.6 C / cm 2 , and the liquid temperature is 65
8585 ° C. or / and in the second step,
The current density of the etching is 250 to 350 mA / cm 2 ,
Amount of electricity 12~24C / cm 2, a liquid temperature of 65 to 85 ° C.
And / or when the third step is performed electrochemically, the current density is 10 to 300 mA / c
m 2 , electricity amount 6-42 C / cm 2 , liquid temperature 60-8
The temperature is 5 ° C., and when the third step is performed chemically, the liquid temperature is in the range of 60 to 85 ° C. and the etching time is in the range of 3 to 30 minutes.

【0006】また第1の工程と第2の工程の間に、少な
くとも硝酸イオンあるいは塩素イオンを含む水溶液中に
おいて、電気化学的あるいは化学的にエッチングし、第
1の工程で形成した貫通ピットを拡大する中間工程を加
えることを特徴とするものである。
[0006] Between the first step and the second step, the through pit formed in the first step is enlarged by electrochemically or chemically etching in an aqueous solution containing at least nitrate ions or chlorine ions. An additional intermediate step is provided.

【0007】[0007]

【実施例】以下本願発明の実施例について詳述すると、
第1の工程において、水溶液中の塩素イオンの濃度を1
0〜80g/1の範囲とし、アルミニウムイオンの濃度
を1〜5g/1の範囲とし、電流密度を40〜70mA
/cm2 とし、液温度を65〜85℃とし、さらに電気
量を1.2〜3.6C/cm2 とするものである。
The embodiments of the present invention will be described below in detail.
In the first step, the concentration of chlorine ions in the aqueous solution is adjusted to 1
0 to 80 g / 1, the concentration of aluminum ions in the range of 1 to 5 g / 1, and the current density of 40 to 70 mA.
/ Cm 2 , the liquid temperature is 65 to 85 ° C., and the quantity of electricity is 1.2 to 3.6 C / cm 2 .

【0008】上記において、塩素イオン濃度として、1
0g/1に満たない場合は必要な数の貫通ピットが発生
せず、80g/1を越えるとピット発生数が過剰となる
ので、好ましい範囲として10〜80g/lが適当であ
り、またアルミニウムイオンが1g/1に満たないと溶
解するアルミニウムによって液中のアルミニウムイオン
が増加し、液成分が安定せず、5g/1を越えるとピッ
トの発生数が減少するので、好ましい範囲として1〜5
g/lが適当であり、また、液温度として、65℃未満
ではピットがトンネル状にならないため貫通せず、85
℃を越えるとピットの発生数が過剰となるので、好まし
い範囲として65〜85℃が適当であり、また電流密度
は40mA/cm2 に満たないとピットの発生数が少な
く、70mA/cm2 を越えるとピットが貫通しないの
で、好ましい範囲として40〜70mA/cm2 が適当
であり、さらにまた電気量として、1.2C/cm2
満たないとピットの発生数が少なく、かつ貫通ぜず、
3.6C/cm2 より多いと貫通するピットが過剰とな
るので、好ましい範囲として1.2〜3.6C/cm2
が適当である。
In the above, the chlorine ion concentration is 1
If it is less than 0 g / 1, the necessary number of through pits will not be generated, and if it exceeds 80 g / 1, the number of pits generated will be excessive. Therefore, a preferable range is 10 to 80 g / l. If the content is less than 1 g / 1, aluminum ions in the solution increase due to the dissolved aluminum, and the liquid component is not stable. If the content exceeds 5 g / 1, the number of pits decreases, so that the preferred range is 1 to 5
g / l is appropriate, and if the liquid temperature is lower than 65 ° C., the pits do not form a tunnel and thus do not penetrate.
If the temperature exceeds 100 ° C., the number of generated pits becomes excessive. Therefore, a preferable range is 65 to 85 ° C., and if the current density is less than 40 mA / cm 2 , the number of generated pits is small, and 70 mA / cm 2 is reduced. If it exceeds, the pits do not penetrate. Therefore, a preferable range is 40 to 70 mA / cm 2 , and if the electric quantity is less than 1.2 C / cm 2 , the number of pits generated is small and the pits do not penetrate.
If it is more than 3.6 C / cm 2 , the number of penetrating pits becomes excessive. Therefore, a preferable range is 1.2 to 3.6 C / cm 2.
Is appropriate.

【0009】次に第2の工程において、水溶液中の塩素
イオンの濃度を10〜30g/1の範囲とし、硫酸イオ
ンの濃度を350〜500g/1の範囲とし、アルミニ
ウムイオンの濃度を5〜20g/1の範囲とし、電流密
度を250〜350mA/cm2 とし、液温度を65〜
85℃とし、さらに電気量を12〜24C/cm2 とす
るものである。
Next, in the second step, the concentration of chloride ions in the aqueous solution is set in the range of 10 to 30 g / 1, the concentration of sulfate ions is set in the range of 350 to 500 g / 1, and the concentration of aluminum ions is set in the range of 5 to 20 g / 1. / 1, a current density of 250 to 350 mA / cm 2 , and a liquid temperature of 65 to
The temperature is 85 ° C., and the amount of electricity is 12 to 24 C / cm 2 .

【0010】上記において、塩素イオン濃度として、1
0g/1に満たないと、必要な数の非貫通ピットが発生
せず、30g/1を越えるとピットの形成と同時に表面
の溶解が進み、容量を減少させるので、好ましい範囲と
して、10〜30g/lが適当であり、また硫酸イオン
濃度として、350g/1に満たないとピットが貫通し
てしまい、500g/1を越えるとピットの長さが短く
なりすぎて、より大きい有効表面積を得られなくなるの
で、好ましい範囲として、350〜500g/lが適当
であり、またアルミニウムイオンは、5g/1に満たな
いと、溶解するアルミニウムによって液中のアルミニウ
ムイオンが増加し、液成分が安定せず、20g/1を越
えるとピットの発生数が減少するので、好ましい範囲と
して、5〜20g/lが適当であり、また液温度とし
て、65℃未満では、ピットがトンネル状にならず、8
5℃を越えるとピットの長さが短くなり、より大きい有
効表面積が得られないので、好ましい範囲として65〜
85℃が適当であり、また電流密度は、250mA/c
2 に満たないとピットが貫通してしまい、350mA
/cm2 を越えるとピットの形成と同時に表面の溶解が
進んで有効表面積を減少させるので、好ましい範囲とし
て、250〜350mA/cm2 が適当であり、さらに
また電気量として12c/cm2 に満たないと充分な数
のピットが得られず、24C/cm2 を越えると隣接す
るピットが重なってしまい、有効表面積の減少をまねく
ことになるので、好ましい範囲として12〜24C/c
2 が適当である。
In the above, the chlorine ion concentration is 1
If it is less than 0 g / 1, the required number of non-penetrating pits will not be generated, and if it exceeds 30 g / 1, the dissolution of the surface will proceed simultaneously with the formation of the pits and the capacity will be reduced. If the sulfate ion concentration is less than 350 g / 1, the pits penetrate, and if it exceeds 500 g / 1, the length of the pits becomes too short, and a larger effective surface area can be obtained. Therefore, the preferred range is 350 to 500 g / l. If the aluminum ion is less than 5 g / 1, the aluminum ion in the liquid increases due to the dissolved aluminum, and the liquid component is not stable. If it exceeds 20 g / 1, the number of pits decreases, so that a preferable range is 5 to 20 g / l. Pits not like a tunnel, 8
When the temperature exceeds 5 ° C., the length of the pit becomes short, and a larger effective surface area cannot be obtained.
85 ° C. is appropriate, and the current density is 250 mA / c.
If less than m 2 pits will pass through, 350mA
If it exceeds / cm 2 , formation of pits and dissolution of the surface proceed simultaneously to reduce the effective surface area. Therefore, the preferable range is 250 to 350 mA / cm 2 , and the electric charge is less than 12 c / cm 2 . If not, a sufficient number of pits cannot be obtained, and if it exceeds 24 C / cm 2 , adjacent pits overlap, leading to a decrease in the effective surface area. Therefore, a preferable range is 12 to 24 C / c.
m 2 is appropriate.

【0011】また第3工程において、水溶液中の硝酸イ
オンの濃度を100〜200g/lの範囲とし、アルミ
ニウムイオンの濃度を10〜30g/lの範囲とするも
のである。上記において、硝酸イオンが100g/lに
満たないとピット拡大効果が少なく、200g/lを越
えると、表面の溶解が進み容量を減少させるので好まし
い範囲として100〜200g/lが適当であり、また
アルミニウムイオンは、10g/lに満たないと溶解の
安定性が悪く、30g/lを越えるとピット拡大能力が
低下するので好ましい範囲として10〜30g/lが適
当である。また他の方法として、水溶液中の塩素イオン
の濃度を10〜30g/l,アルミニウムイオンの濃度
を5〜20g/lとするものである。上記において、塩
素イオンが10g/lに満たないとピット拡大効果が少
なく、30g/lを越えると、表面の溶解が進み有効表
面積を減少させるので、好ましい範囲として10〜30
g/lが適当であり、アルミニウムイオンは、5g/l
に満たないと溶解の安定性が悪く、20g/lを越える
とピット拡大能力が低下するので好ましい範囲として5
〜20g/lが適当である。また第3工程において、液
温度を60〜85℃で電気化学的に行う場合は電流密度
を10〜300mA/cm2 ,電気量を6〜42C/c
2 とし、化学的に行う場合はエッチング時間を3〜3
0分とするものである。上記において、液温度は60℃
未満ではピット拡大能力が低く、85℃を越えると表面
の溶解が進んでしまうもので、好ましい範囲として60
〜85℃が適当である。また電気化学的に行う場合にお
いて、電流密度が10mA/cm2 未満ではピット拡大
効果が少なく、300mA/cm2 を越えると、表面の
溶解が進んでしまうので、好ましい範囲として10〜3
00mA/cm2 が適当であり、また電気量は6C/c
2 に満たないとピット拡大効果が少なく、42C/c
2 を越えるとピットが拡大しすぎて有効表面積の増大
に効果の大きい非貫通ピットの減少をまねいてしまうの
で、好ましい範囲として6〜42C/cm2 が適当であ
る。さらに化学的に行う場合において、3分に満たない
とピット拡大効果が少なく、30分を越えるとピットが
拡大しすぎて有効表面積の増大に効果の大きい非貫通ピ
ットの減少をまねくので、好ましい範囲として3〜30
分が適当である。
In the third step, the concentration of nitrate ions in the aqueous solution is set in the range of 100 to 200 g / l, and the concentration of aluminum ions is set in the range of 10 to 30 g / l. In the above description, if the amount of nitrate ion is less than 100 g / l, the effect of expanding the pit is small, and if it exceeds 200 g / l, the dissolution of the surface proceeds and the capacity is reduced. Therefore, a preferable range is 100 to 200 g / l. If the amount of aluminum ion is less than 10 g / l, the stability of dissolution is poor, and if it exceeds 30 g / l, the pit expansion ability is reduced. Therefore, the preferred range is 10 to 30 g / l. As another method, the concentration of chlorine ions in the aqueous solution is 10 to 30 g / l, and the concentration of aluminum ions is 5 to 20 g / l. In the above, when the chlorine ion is less than 10 g / l, the pit enlargement effect is small, and when it exceeds 30 g / l, the surface dissolution proceeds and the effective surface area is reduced.
g / l is suitable, and aluminum ion is 5 g / l
If it is less than 5 g, the dissolution stability is poor, and if it exceeds 20 g / l, the pit expansion ability is reduced.
-20 g / l is suitable. In the third step, when the liquid temperature is 60 to 85 ° C. electrochemically, the current density is 10 to 300 mA / cm 2 , and the quantity of electricity is 6 to 42 C / c.
m 2 , and when chemically performed, the etching time is 3 to 3
It is assumed to be 0 minutes. In the above, the liquid temperature is 60 ° C
If it is less than 85 ° C., the pit enlargement ability is low, and if it exceeds 85 ° C., the dissolution of the surface progresses.
~ 85 ° C is suitable. Further, in the case of performing electrochemically, if the current density is less than 10 mA / cm 2 , the pit expansion effect is small, and if the current density exceeds 300 mA / cm 2 , the dissolution of the surface progresses.
00 mA / cm 2 is appropriate, and the amount of electricity is 6 C / c.
If it is less than m 2 , the pit enlargement effect is small and 42 C / c
If it exceeds m 2 , the pits become too large and the non-penetrating pits, which are effective in increasing the effective surface area, are reduced. Therefore, the preferable range is 6 to 42 C / cm 2 . Further, in the case of performing chemically, if less than 3 minutes, the pit enlargement effect is small, and if more than 30 minutes, the pits are too large, which leads to a decrease in non-penetrating pits, which is effective in increasing the effective surface area. 3 to 30
Minutes are appropriate.

【0012】また第1の工程と第2の工程の間に加える
中間工程において、水溶液中の硝酸イオンの濃度を10
0〜200g/1の範囲とし、アルミニウムイオンの濃
度を10〜30g/1の範囲とする。
In an intermediate step added between the first step and the second step, the concentration of nitrate ions in the aqueous solution is adjusted to 10%.
The range is 0 to 200 g / 1, and the concentration of aluminum ion is 10 to 30 g / 1.

【0013】上記において硝酸イオンが100g/1に
満たないとピット拡大効果が少なく、200g/1を越
えると、表面の溶解が進み有効表面積を減少させること
によるもので、好ましい範囲として100〜200g/
lが適当であり、またアルミニウムイオンは、10g/
1に満たないと溶解の安定性が悪く、30g/1を越え
るとピット拡大能力が悪くなるので好ましい範囲として
10〜30g/lが適当である。
When the amount of nitrate is less than 100 g / 1, the effect of expanding the pit is small, and when it exceeds 200 g / 1, the dissolution of the surface proceeds to reduce the effective surface area.
l is suitable, and aluminum ion is 10 g /
If it is less than 1, the stability of dissolution will be poor, and if it exceeds 30 g / 1, the pit expanding ability will be poor. Therefore, a preferable range is 10 to 30 g / l.

【0014】また第1の工程と第2の工程との間に加え
る中間工程における他の方法として、水溶液中の塩素イ
オンの濃度を10〜30g/1、アルミニウムイオンの
濃度を5〜20g/1とする。
As another method in the intermediate step added between the first step and the second step, the concentration of chloride ion in the aqueous solution is 10 to 30 g / 1, and the concentration of aluminum ion is 5 to 20 g / 1. And

【0015】上記において、塩素イオンが10g/1に
満たないとピット拡大効果が少なく、30g/1を越え
ると、表面の溶解が進み容量を減少させることになるも
ので、好ましい範囲として10〜30g/lが適当であ
り、またアルミニウムイオンは、5g/1に満たないと
溶解の安定性が悪く、20g/1を越えるとピット拡大
能力が低下するので、好ましい範囲として5〜20g/
lが適当である。
In the above, if the chlorine ion is less than 10 g / 1, the pit enlargement effect is small, and if it exceeds 30 g / 1, the dissolution of the surface proceeds and the capacity is reduced, and a preferable range is 10 to 30 g. / L is appropriate, and if the amount of aluminum ion is less than 5 g / 1, the stability of dissolution is poor, and if it exceeds 20 g / 1, the pit expansion ability is reduced.
l is appropriate.

【0016】また第1の工程と第2の工程の間に加える
中間工程において、液温度を60〜85℃とすると共
に、電気化学的に行う場合は、電流密度を10〜300
mA/cm2 、電気量を0.6〜6C/cm2 とし、中
間工程を化学的に行う場合は、エッチング時間を3〜1
0分とする。
In the intermediate step added between the first step and the second step, the temperature of the solution is set to 60 to 85 ° C., and when electrochemically performed, the current density is set to 10 to 300 ° C.
mA / cm 2 , the amount of electricity is 0.6 to 6 C / cm 2, and when the intermediate step is performed chemically, the etching time is 3 to 1
0 minutes.

【0017】上記において、液温度は60℃未満ではピ
ット拡大能力が低く、85℃を越えると表面の溶解が進
んでしまうもので、好ましい範囲として60〜85℃が
適当であり、また中間工程を電気化学的に行う場合にお
いて、電流密度が10mA/cm2 未満ではピット拡大
効果が少なく、300mA/cm2 を越えると表面の溶
解が進んでしまうので、好ましい範囲として10〜30
0mA/cm2 が適当である。また電気量は0.6C/
cm2 に満たないとピット拡大効果が少なく、6C/c
2 を越えるとピットが拡大しすぎて有効表面積の増大
に効果の大きい非貫通ピットの減少をまねくので、好ま
しい範囲として0.6〜6C/cm2 が適当である。
In the above description, if the liquid temperature is lower than 60 ° C., the pit expansion ability is low, and if the liquid temperature is higher than 85 ° C., the dissolution of the surface proceeds, and the preferable range is 60 to 85 ° C. In the case of performing electrochemically, if the current density is less than 10 mA / cm 2 , the pit expansion effect is small, and if the current density exceeds 300 mA / cm 2 , the dissolution of the surface progresses.
0 mA / cm 2 is appropriate. The quantity of electricity is 0.6C /
If it is less than cm 2 , the pit enlargement effect is small, and 6 C / c
If it exceeds m 2 , the pits become too large, leading to a decrease in non-penetrating pits which are effective in increasing the effective surface area. Therefore, a preferable range is 0.6 to 6 C / cm 2 .

【0018】また中間工程を化学的に行う場合におい
て、エッチング時間が、3分に満たないとピット拡大効
果が少なく、10分を越えるとピットが拡大しすぎて有
効表面積の増大に効果の大きい非貫通ピットの減少をま
ねくので、好ましい範囲として3〜10分が適当であ
る。
In the case where the intermediate step is performed chemically, if the etching time is less than 3 minutes, the pit enlargement effect is small, and if the etching time is more than 10 minutes, the pits are too large and the effective surface area is not greatly increased. A range of 3 to 10 minutes is appropriate as a preferable range because it leads to a decrease in penetration pits.

【0019】次に本発明の電解コンデンサ用アルミニウ
ム箔のエッチング方法を従来例と比較して説明する。
Next, the method of etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor of the present invention will be described in comparison with a conventional example.

【0020】(実施例1)厚さ104μm、O材,4
N,(100)面占有率90%のアルミニウム箔を塩素
イオン65.0g/1,アルミニウムイオン2.4g/
1を含む水溶液中で、電流密度60mA/cm2 ,電気
量3.6C/cm2 ,液温度75℃で直流エッチングし
た第1の工程の後、第2の工程として塩素イオン22g
/1,硫酸イオン435g/1,アルミニウムイオン1
4g/1を含む水溶液中で電流密度300mA/c
2 ,電気量18C/cm2 ,液温度72℃で直流エッ
チングし、さらに第3の工程として硝酸イオン135g
/1,アルミニウムイオン18g/1を含む水溶液中で
液温度75℃で10分間化学エッチングする。
(Embodiment 1) A thickness of 104 μm, O material, 4
An aluminum foil having an N, (100) plane occupation ratio of 90% was coated with chlorine ions at 65.0 g / 1 and aluminum ions at 2.4 g /.
After the first step of DC etching at a current density of 60 mA / cm 2 , an amount of electricity of 3.6 C / cm 2 , and a liquid temperature of 75 ° C. in an aqueous solution containing 1, 22 g of chlorine ions as a second step
/ 1, sulfate ion 435g / 1, aluminum ion 1
Current density 300mA / c in aqueous solution containing 4g / 1
DC etching at m 2 , electricity 18 C / cm 2 , liquid temperature 72 ° C., and as a third step 135 g of nitrate ions
/ 1, in an aqueous solution containing 18 g / 1 of aluminum ions at a liquid temperature of 75 ° C. for 10 minutes.

【0021】(実施例2)厚さ104μm,O材,4N
(100)面占有率90%のアルミニウム箔を実施例1
の第1工程と同じ水溶液中で電流密度60mA/c
2 ,電気量1.4C/cm2 ,液温度75℃で直流エ
ッチングした第1の工程の後、中間工程として硝酸イオ
ン135g/1,アルミニウムイオン18g/1を含む
水溶液中で液温度75℃で5分間化学エッチングする。
次いで第2工程として塩素イオン22g/1,硫酸イオ
ン435g/1,アルミニウムイオン14g/1を含む
水溶液中で電流密度300mA/cm2 ,電気量18C
/cm2 ,液温度72℃で直流エッチングした後、第3
の工程として硝酸イオン135g/1,アルミニウムイ
オン18g/1を含む水溶液中で液温度75℃で10分
間化学エッチングする。
(Embodiment 2) 104 μm thick, O material, 4N
Example 1 Aluminum foil having 90% (100) plane occupancy
Current density 60 mA / c in the same aqueous solution as in the first step
After the first step of DC etching at m 2 , an amount of electricity of 1.4 C / cm 2 and a liquid temperature of 75 ° C., a liquid temperature of 75 ° C. in an aqueous solution containing 135 g / 1 of nitrate ions and 18 g / 1 of aluminum ions as an intermediate step. Chemical etching for 5 minutes.
Then, as a second step, a current density of 300 mA / cm 2 and an electric quantity of 18 C in an aqueous solution containing 22 g of chlorine ion / 1, 435 g / 1 of sulfate ion, and 14 g / 1 of aluminum ion.
/ Cm 2 and a DC temperature of 72 ° C.
Is chemically etched at a liquid temperature of 75 ° C. for 10 minutes in an aqueous solution containing 135 g / 1 of nitrate ions and 18 g / 1 of aluminum ions.

【0022】(実施例3)厚さ104μm,0材,4N
(100)面占有率90%のアルミニウム箔を実施例1
の第1の工程と同じ液で電流密度60mA/cm2 ,電
気量1.8C/cm2 ,液温度75℃で直流エッチング
した後、中間工程として塩素イオン15g/l,アルミ
ニウムイオン18g/lを含む水溶液中で電流密度15
mA/cm2 ,電気量1.8C/cm2 ,液温度65℃
で直流エッチングする。次いで第2工程として塩素イオ
ン22g/l,硫酸イオン435g/l,アルミニウム
14g/lを含む水溶液中で電流密度300mA/cm
2 ,電気量18C/cm2 ,液温度72℃で直流エッチ
ングした後、第3工程として塩素イオン15g/l,ア
ルミニウムイオン18g/lを含む水溶液中で電流密度
100mA/cm2 ,電気量30C/cm2 ,液温度6
5℃で直流エッチングする。 (従来例)厚さ104 m,O材,4N,(100)面
占有率90%のアルミニウム箔を実施例1の第2の工程
と同じ液で電流密度100mA/cm2 ,電気量21.
6C/cm2 ,液温度68℃で直流エッチングし、実施
例1の第3の工程と同じ化学エッチングを行った。上記
実施例及び従来例でエッチングしたアルミニウム箔のそ
れぞれを、ホウ酸水溶液中で350V化成し、その静電
容量と機械的強度として折曲強度及び貫通の程度として
一定量の空気が化成箔の一定の面積を透過するのに要す
る時間を透気度(透気度は値が小さいほど貫通の程度が
良いことを示す)測定したところ、表1に示すような結
果を得た。
(Embodiment 3) 104 μm thick, 0 material, 4N
Example 1 Aluminum foil having 90% (100) plane occupancy
After DC etching at a current density of 60 mA / cm 2 , an amount of electricity of 1.8 C / cm 2 and a liquid temperature of 75 ° C. in the same liquid as in the first step, 15 g / l of chlorine ions and 18 g / l of aluminum ions were used as an intermediate step. Current density 15 in aqueous solution containing
mA / cm 2 , electric quantity 1.8C / cm 2 , liquid temperature 65 ° C
DC etching. Next, as a second step, a current density of 300 mA / cm is set in an aqueous solution containing 22 g / l of chloride ions, 435 g / l of sulfate ions, and 14 g / l of aluminum.
2. After DC etching at an electric quantity of 18 C / cm 2 and a liquid temperature of 72 ° C., as a third step, an aqueous solution containing 15 g / l of chlorine ions and 18 g / l of aluminum ions has a current density of 100 mA / cm 2 and an electric quantity of 30 C / cm 2 . cm 2 , liquid temperature 6
DC etching at 5 ° C. (Conventional example) An aluminum foil having a thickness of 104 m, an O material, 4N, and a (100) plane occupation ratio of 90% was prepared by using the same liquid as in the second step of the first embodiment at a current density of 100 mA / cm 2 and an electric quantity of 21.
DC etching was performed at 6 C / cm 2 at a liquid temperature of 68 ° C., and the same chemical etching as in the third step of Example 1 was performed. Each of the aluminum foils etched in the above embodiment and the conventional example was formed into 350 V in a boric acid aqueous solution, and a certain amount of air was formed as a bending strength and a certain amount of air as a capacitance and a mechanical strength. The time required to pass through the area was measured by air permeability (the smaller the value, the better the degree of penetration). The results shown in Table 1 were obtained.

【表1】 [Table 1]

【0023】表1から明らかなように、実施例1のもの
は従来例によるものと比較して、静電容量、透気度が同
程度ながら、折曲強度において優れており、また実施例
2及び3では、実施例1ほどの折曲強度はないものの、
従来例と比較して折曲強度と透気度において優れてお
り、本発明の効果を実証している。
As is clear from Table 1, Example 1 is superior to the conventional example in terms of bending strength, while having approximately the same capacitance and air permeability. In Examples 3 and 3, although there is no bending strength as in Example 1,
It is superior in bending strength and air permeability as compared with the conventional example, and demonstrates the effect of the present invention.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、貫通ピットと非貫通ピ
ット、換言すれば、電極箔に貫通性を持たせるに必要な
ピットと有効表面積の増大に大きな効果をもたらすピッ
トとを別々に形成することが可能で、過剰な貫通ピット
を形成せしめないために、箔強度の低下を防ぐことがで
きて、機械的強度の高い電解コンデンサ用アルミニウム
箔を製造する電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチ
ング方法を提供することができる。
According to the present invention, penetrating pits and non-penetrating pits, in other words, pits necessary for imparting penetrability to the electrode foil and pits having a large effect on increasing the effective surface area are separately formed. In order to prevent the formation of excessive through pits, it is possible to prevent a decrease in foil strength and to manufacture an aluminum foil for an electrolytic capacitor having a high mechanical strength. Can be provided.

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも塩素イオンを含む水溶液中に
おいて、直流電流にて電気化学的にエッチングを行っ
て、貫通ピットを形成する第1の工程と、少なくとも塩
素イオンと硫酸イオンを含む水溶液中において、直流電
流にて電気化学的にエッチングを行って、非貫通ピット
を形成する第2の工程と、硝酸イオンあるいは塩素イオ
ンを含む水溶液中において、電気化学的あるいは化学的
にエッチングして、すでに形成されたピットを拡大する
第3の工程とを経て成る電解コンデンサ用アルミニウム
箔のエッチング方法において、第1の工程において、エ
ッチングの電流密度が40〜70mA/cm,電気量
が1.2〜3.6C/cm,液温度が65〜85℃で
あり、または/および第2の工程において、エッチング
の電流密度が250〜350mA/cm,電気量が1
2〜24C/cm,液温度が65〜85℃であり、ま
たは/および第3の工程を電気化学的に行う場合におい
ては、電流密度が10〜300mA/cm,電気量が
6〜42C/cm,液温度が60〜85℃であり、第
3の工程を化学的に行う場合においては、液温度が60
〜85℃,エッチング時間3〜30分の範囲であること
を特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチ
ング方法。
A first step of electrochemically etching with a direct current in an aqueous solution containing at least chloride ions to form through pits; and an aqueous solution containing at least chloride ions and sulfate ions. A second step of electrochemically etching with a direct current to form a non-penetrating pit; and electrochemically or chemically etching in an aqueous solution containing nitrate ions or chlorine ions to form already formed pits. In the method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor, which includes a third step of enlarging the formed pits, in the first step, the etching current density is 40 to 70 mA / cm 2 , and the amount of electricity is 1.2 to 3. 6C / cm 2, a liquid temperature of 65 to 85 ° C., or / and in the second step, the current density of the etching 25 ~350mA / cm 2, amount of electricity 1
2 to 24 C / cm 2 , the liquid temperature is 65 to 85 ° C., and / or when the third step is performed electrochemically, the current density is 10 to 300 mA / cm 2 , and the quantity of electricity is 6 to 42 C / Cm 2 , the liquid temperature is 60 to 85 ° C., and when the third step is performed chemically, the liquid temperature is 60 to 85 ° C.
An etching method for an aluminum foil for an electrolytic capacitor, wherein the etching time is in a range of from about 85 ° C to an etching time of from 3 to 30 minutes.
【請求項2】 第1の工程と、第2の工程の間に、少な
くとも硝酸イオンあるいは塩素イオンを含む水溶液中に
て、電気化学的あるいは化学的にエッチングを行い、貫
通ピットを拡大する中間工程を加えることを特徴とする
請求項1記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッ
チング方法。
2. An intermediate step of electrochemically or chemically etching in an aqueous solution containing at least nitrate ions or chloride ions to enlarge a through pit between the first step and the second step. 2. The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, further comprising the step of:
【請求項3】 中間工程を電気化学的に行う場合におい
て、液温度を60〜85℃、電流密度を10〜300m
A/cm,電気量を0.6〜6C/cmの範囲とす
る請求項2記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエ
ッチング方法。
3. When the intermediate step is performed electrochemically, the liquid temperature is 60 to 85 ° C. and the current density is 10 to 300 m.
A / cm 2, claim 2 electrolytic etching method of an aluminum foil for capacitor according to an electric amount in the range of 0.6~6C / cm 2.
【請求項4】 中間工程を化学的に行う場合において、
液温度を60〜85℃、エッチング時間を3〜10分の
範囲とする請求項2記載の電解コンデンサ用アルミニウ
ム箔のエッチング方法。
4. When the intermediate step is performed chemically,
3. The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 2, wherein the liquid temperature is 60 to 85 [deg.] C. and the etching time is 3 to 10 minutes.
【請求項5】 第1の工程で使用する電解液が、少なく
とも塩素イオン10〜80g/l,アルミニウムイオン
1〜5g/lの範囲を含む請求項1乃至4のいづれか1
記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方
法。
5. The method according to claim 1, wherein the electrolyte used in the first step contains at least 10 to 80 g / l of chloride ions and 1 to 5 g / l of aluminum ions.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to the above.
【請求項6】 第2の工程で使用する電解液が、少なく
とも塩素イオン10〜30g/l,硫酸イオン350〜
500g/l,アルミニウムイオン5〜20g/lの範
囲を含む請求項1乃至5のいづれか1記載の電解コンデ
ンサ用アルミニウム箔のエッチング方法。
6. The electrolytic solution used in the second step is at least 10 to 30 g / l of chloride ions and 350 to 350 g of sulfate ions.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 5, comprising a range of 500 g / l and aluminum ions of 5 to 20 g / l.
【請求項7】 第3の工程において、水溶液が、少なく
とも硝酸イオン100〜200g/l、アルミニウムイ
オン10〜30g/lの範囲を含むか、或いは少なくと
も塩素イオン10〜30g/l、アルミニウムイオン5
〜20g/lの範囲を含む請求項1乃至6のいづれか1
記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方
法。
7. In the third step, the aqueous solution contains at least 100 to 200 g / l of nitrate ions and 10 to 30 g / l of aluminum ions, or at least 10 to 30 g / l of chloride ions and 5 to 50 g of aluminum ions.
7. A method as claimed in claim 1, comprising a range of from 20 to 20 g / l.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to the above.
【請求項8】 中間工程で使用する水溶液が、少なくと
も硝酸イオン100〜200g/l,アルミニウムイオ
ン10〜30g/lの範囲を含むか、或いは少なくとも
塩素イオン10〜30g/l,アルミニウムイオン5〜
20g/lの範囲を含む水溶液のいずれかである請求項
2乃至7のいづれか1記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム箔のエッチング方法。
8. The aqueous solution used in the intermediate step contains at least 100 to 200 g / l of nitrate ions and 10 to 30 g / l of aluminum ions, or at least 10 to 30 g / l of chloride ions and 5 to 5 aluminum ions.
The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to any one of claims 2 to 7, wherein the method is any one of an aqueous solution containing 20 g / l.
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