JP2684722B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、EPROM内蔵で、書き込み電源供給端子を、
他の入力ないしは、出力端子と、兼用している相補型MI
S集積回路に関し、特に、書き込み電源供給端子の他の
入力ないしは、出力端子との兼用端子とすることに関す
るものである。
〔従来の技術〕
従来この種の端子兼用化のためには、第6図のように
Nチャンネルトランジスタ19をスイッチし、書き込み時
これをオンさせるかまたは、第7図のように、ダイオー
ド20及びPチャンネルトランジスタ3を用いて、電源の
供給を行なっていた。(例えば特公昭61−111401) 〔発明が解決しようとする課題〕 上述した従来の端子兼用化回路のうち、第4図に示す
回路は、書き込み時Nチャンネルトランジスタ19がバッ
クゲート特性を示すため、供給電圧が、略VTN分降下
し、書き込み特性を劣化させるので、ゲート電圧を内部
昇圧するチャージポンプ回路が必要であった。また、第
5図に示す回路は、ダイオード20の順方向を利用して書
き込むため、ダイオードの立ち上り電圧及び、直列抵抗
による電圧降下を生じ、また、寄生バイポーラトランジ
スタを防止するために、ダイオード形成には、一工程追
加する必要があるという欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の端子兼用化回路は、ソースとバックゲートと
なるN型ウエルが、兼用端子に接続された第1のPチャ
ンネルエンハンスメントトランジスタと、ドレインが、
前記第1のPチャンネルトランジスタのドレインと接続
された第2のPチャンネルエンハンスメントトランジス
タと、ドレインが、前記第2のPチャンネルトランジス
タのソース及びバックゲートとなるN型ウエルと接続さ
れ、ソースが通常高電位側電源(以下、VDDと称す)と
接続された第1のNチャンネルデプレショントランジス
タと、兼用端子を入力とし、書込み電圧を検出し、前記
第1,第2のPチャンネルトランジスタ及び、第1のNチ
ャンネルトランジスタのゲートを制御する検出回路を有
している。
〔実施例〕
次に本発明について、図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の一実施例の回路図、第2図は、第
1図の3,4,5の部分の構造断面図である。兼用端子1
は、書き込み電圧検出回路2及び、第1のPチャンネル
エンハンスメントトランジスタ3のソース13−1及びバ
ックゲートとなるN型ウエル11−1にN型高濃度拡散層
12−1を介して、及び、EPROMブロック8の一部と、
入,出力回路に接続され、トランジスタ3のドレイン13
−2は、第2のPチャンネルエンハンスメントトランジ
スタ4のドレイン13−3に接続され、トランジスタ4の
ソース13−4及びバックゲートとなるN型ウエル11−2
及び、N型高濃度拡散層12−2は、第1のNチャンネル
デプレショントランジスタ5のドレイン12−3と接続さ
れ、EPROMブロック8の電源供給を行ない、トランジス
タ5のソースは、VDDに接続され、トランジスタ3,4,5の
ゲートは、書き込み電圧検出回路2の電圧検出時“L"レ
ベルとなる制御信号に接続されている。
次に、本例の動作を説明する。
通常動作時(EPROM書き込み状態では無い場合)は、
兼用端子は、接地電位とVDDとの間にあり、この場合、
トランジスタ3のドレイン13−2と、N型ウエル11−1
及び、トランジスタ4のドレイン13−3とN型ウエル11
−2により構成されるダイオードのいずれかは、逆バイ
アスとなり、端子1とVDDとの間のもれ電流は無い。EPR
OM書き込み時は、兼用端子1は、VDDより高電位にする
が、まず、書込み電圧検出回路が、VDD+2.5V程度で、
検出動作を行ない、信号が“L"レベルとなる。この時
もし、トランジスタ3が無いと、トランジスタ4のドレ
イン13−3とN型ウエル11−2は、兼用端子電圧がVDD
〜VDD+2.5Vの間順バイアスとなり、ドレイン13−3を
エミッタN型ウエル11−2をベースP型基板10をコレク
タとする寄生PNPトランジスタ21がオンし、過大電流が
生じる。本発明では、トランジスタ3があるため、これ
がオンして、初めて、トランジスタ4のドレイン13−3
に、兼用端子の電圧が供給され、その時トランジスタ4
も、オンしているため、前述の寄生PNPトランジスタの
エミッターベース間は0.1V以下にクランプされ、電荷
は、チャンネル中を流れて、寄生トランジスタをオンさ
せることはない。なおかつ、トランジスタ5もオフとな
り、過大電流を防止することができる。
第3図は、本発明の第2の実施例の回路図、第4図
は、第3図の3,6,11の部分の断面図である。
兼用端子1は、書き込み電圧検出回路2,EPROMブロッ
ク9,ダイオード3の陽極4及びダイオード3が形成され
ているN型ウエル16に接続されている。ダイオード3の
陰極5は、PチャンネルMIS型エンハンスメントトラン
ジスタ6のバックゲートとなるN型ウエル17とソースに
接続され、トランジスタ4のゲート6は、書き込み電圧
検出回路からの制御信号が、Pチャンネルエンハンス
メントトランジスタ19とNチャンネルエンハンスメント
トランジスタ21、Pチャンネルエンハンスメントトラン
ジスタ20とNチャンネルエンハンスメントトランジスタ
22によって、構成される相補型MIS論理反転回路2段を
通して接続され、ドレインは、Nチャンネルデプレショ
ントランジスタ7のドレイン、そして、EPROMブロック
に接続されている。Nチャンネルデプレショントランジ
スタ8のドレインは、トランジスタ6のバックゲートへ
接続されている。トランジスタ11,8のソースは、通常の
高電位側電源7に接続され、ゲートは、書き込み電圧検
出回路の制御信号に接続されている。
本回路の動作について説明する。
兼用端子1に書き込み電源電圧、たとえば21Vが印加
されている状態の時この電圧を書き込み電圧検出回路が
検出して、その制御信号=“L"となる。この状態では
トランジスタ11,8はカットオフし、トランジスタ6はオ
ン状態になる。この時、トランジスタ6のソース及びバ
ックゲートは、ダイオード3を介してバイアスされてい
る。この時、EPROMブロックに接続される接点10の電位V
10は、ダイオード3のVFをVF3、ダイオード3のシリー
ズ抵抗をR3、トランジスタ6のオン抵抗をRON6、電流を
IDとすると V10=21−{VF3+ID(R3+RON6)} となる。R3,RON6は、ダイオードの面積、トランジスタ
6のW/Lの比により決定できるため、ID=2〜3mA,V10
20Vとすることが容易にできる。
上記状態以外の時は、書き込み電圧検出回路の制御信
号=“H"となり、トランジスタ11,8はオンし、トラン
ジスタ6はカットオフする。
このとき、トランジスタ6のバックゲートは、トラン
ジスタ8を通して、通常の高電位側電源と同電位とな
り、接点10も、トランジスタ7を通して通常の高電位側
電源と同電位になる。ダイオード3の陰極側は、通常の
高電位側電源と同電位になっているため、兼用端子1の
電位が、通常の相補型論理回路の論理振幅で変化してい
る限りは、ダイオード3は、逆バイアスとなり、端子1
と、通常高電位側電源との間に電流が流れることはな
い。
第5図は、本発明の第3の実施例の回路図である。前
述の第1の実施例に対し、トランジスタ4,5とトランジ
スタ3のゲート信号の間に遅延回路17を入れている。こ
の実施例では、遅延回路17により、トランジスタ3のオ
ンするタイミングを、トランジスタ4のオンするタイミ
ングに対し、数μsec遅らせているため、第2図中の寄
生PNPトランジスタ21がよりオンしにくいという利点が
ある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、トランジスタ3,4をオ
ン、トランジスタ5をオフの状態で、書き込み電圧を供
給するために、寄生バイポーラランジスタ動作を防止
し、かつ、供給電圧の電圧降下を非常に少くでき、しか
も、従来例と比較して工程及び、占有面積を少なくでき
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例の回路図、第2図は第1図
の3,4,5部の構造断面図、第3図は本発明の第2の実施
例の回路図、第4図は第3図の回路の部分断面図、第5
図は、本発明の第3の実施例の回路図、第6図及び第7
図は、従来の端子兼用化回路の回路図。 1……兼用端子、2……書き込み電圧検出回路、3,4…
…Pチャンネルエンハンスメントトランジスタ、5……
Nチャンネルデプレショントランジスタ、7……通常高
電位側電源(VDD)、8……EPROMブロック、10……P型
基板、11−1,11−2……N型ウエル、12−1,12−2,12−
3,12−4……N型高濃度拡散層、13−1,13−2,13−3,13
−4……P型高濃度拡散層、14……熱酸化膜、15……層
間絶縁膜、16……金属電極、17……遅延回路、18……チ
ャージポンプ、19……Nチャンネルエンハンスメントト
ランジスタ、20……ダイオード、21……寄生PNPトラン
ジスタ、22……ポリシリコン。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】紫外線消去型EPROMを内蔵し、かつ、書き
    込み電源供給端子と他の入力ないしは出力端子を兼用す
    る兼用端子を有する相補型MIS集積回路において、第1,
    第2のPチャンネルエンハンスメントトランジスタと、
    第1のNチャンネルデプレショントランジスタ及び書き
    込み電圧検出回路を有し、第1のPチャンネルエンハン
    スメントトランジスタのソース及びそのバックゲートと
    なるN型ウエルは、兼用端子に接続し、ドレインは、第
    2のPチャンネルエンハンスメントトランジスタのドレ
    インと接続し、第2のPチャンネルエンハンスメントト
    ランジスタのソース及びバックゲートとなるN型ウエル
    は、第1のNチャンネルデプレショントランジスタのド
    レインに接続され、第1のNチャンネルデプレショント
    ランジスタのソースは、集積回路のEPROM部以外の高電
    位側電源に接続され、第1,第2のPチャンネルエンハン
    スメントトランジスタのゲート及び、第1のNチャンネ
    ルデプレショントランジスタのゲートは、書き込み電圧
    検出回路の、検出時低レベルになる端子に接続され、EP
    ROM書き込み用電源を前記第2のPチャンネルトランジ
    スタのソース及びバックゲートから取り出すことを特徴
    とする相補型MIS集積回路。
  2. 【請求項2】第1のPチャンネルトランジスタのゲート
    と、第2のPチャンネルトランジスタ及び、第1のNチ
    ャンネルトランジスタのゲートとの間に、数μsecのデ
    ィレー回路を挿入し、第1のPチャンネルトランジスタ
    のゲート信号が、第2のPチャンネルトランジスタ及び
    第1のPチャンネルトランジスタのゲート信号より、遅
    延していることを特徴とした特許請求の範囲第(1)項
    記載の相補型MIS集積回路。
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