JP2684057B2 - 光による劣化に対して安定化されたポリオレフィン - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、安定剤及び補助安定剤の相剰混合物を添加
して光が原因の劣化に対するポリオレフィンの安定化に
関する。この混合物中の主要な安定剤は、ポリアルキル
ピペリジンであり、補助安定剤は、亜鉛もしくはマグネ
シウムの有機塩である。更に混合物はUV吸収剤及び／ま
たは顔料を含有する。

ポリアルキルピペリジンは、有機物質、特にポリオレ
フィンのためのすぐれた光安定剤として公知である。更
にポリオレフィン中の加工助剤として、例えばステアリ
ン酸カルシウムのような脂肪酸の金属塩を使用すること
も一般に公知である。特定のポリアルキルピペリジンそ
れ自身よりも更に有効である金属化合物とポリアルキル
ピペリジンの錯体は、米国特許出願第4202816号に示さ
れている。これらの錯体中の金属化合物の例は、ニッケ
ル、コバルト、マグネシウムもしくはマンガンアセチル
アセトネート、ニッケル、コバルト、マグネシウムもし
くはマンガンベンゾイルアセトネート、ラウリン酸ニッ
ケル及びヘプタン酸ニッケル、ラウリン酸亜鉛及び酢酸
亜鉛である。重合性ポリアルキルピペリジンを有する類
似の金属錯体は、米国特許出願第4256627号に記述され
ており、金属化合物の例としては、酢酸ニッケル、ヘプ
タン酸ニッケル及びラウリン酸ニッケル、ニッケルアセ
チルアセトネート、コバルトアセチルアセトネート及び
ヘプタン酸亜鉛を列挙している。

更にポリアルキルピペリジン光安定剤は、UV吸収剤と
組み合わせられることが知られている。この型の組み合
せは、例えばスチレンポリマー（米国第4110304号）、
塗料樹脂（米国第4426472号）もしくは顔料着色されて
いないポリプロピレン（Ｇchter,Mller,Taschenbuc
h der Kunststoff−Additive（Manual of Additives fo
r Plastics），第２版,1983年,161/162頁,Carl Hanser
−Verlag）に記述されている。

更に顔料着色されたポリマーは、顔料着色されていな
いポリマーよりも光により損傷を受けにくいことが一般
に知られている。ポリアルキルピペリジンで安定化され
たポリプロピレンの光に対する安定性は、0.5％の種々
の顔料で着色することにより大幅に増加しうることがＧ
chter,Mller（loc.cit）,162頁に示されている。

公知の効果以上に、ポリアルキルピペリジン光安定剤
に加えて、亜鉛もしくはマグネシウムの有機塩並びにUV
吸収剤及び／または顔料をポリオレフィンに添加する
と、更に効果の増大が図れることが見出された。

従って本発明は、 Ａ）少なくとも１種のポリアルキルピペリジン光安定
剤、 Ｂ）亜鉛もしくはマグネシウムの有機塩、及び Ｃ）C₁）紫外線吸収剤（以下、UV吸収剤）もしくは C₂）顔料もしくは C₃）UV吸収剤及び顔料 のいずれか を含有する光による劣化に対して安定化されたポリオレ
フィン組成物に関する。

ポリオレフィンとは、α−オレフィンのホモポリマー
及びコポリマーを意味するものとして理解すべきで、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレ
ン、ポリブテ−１−エン、ポリメチルペンテ−１−エ
ン、エチレン／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブ
テ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコ
ポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチ
レン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／酢
酸ビニルコポリマー、エチレン／アクリル酸コポリマー
もしくはエチレン／プロピレン／ジエン ターポリマー
並びに更に上記オレフィンポリマー相互の混合物（ポリ
ブレンド）もしくは上記オレフィンポリマーと他のポリ
マーの混合物である。

本発明に従ってポリプロピレンの安定化は特に重要で
ある。

本発明に従って使用しうるポリアルキルピペリジン光
安定剤は、低分子（MW＜700）もしくは高分子（オリゴ
マーもしくはポリマー）でありうる。それらは、特徴と
なる基I: （式中、 Ｒは水素原子もしくはメチル基を表わす。）を含有す
る。この基は、分子中に１度もしくは数度現われること
ができる。Ｒが水素原子を表わす基Ｉを含有するピペリ
ジン誘導体が好ましい。それらは2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンの誘導体である。上記のポリアルキルピペ
リジンは４位に１もしくは２個の極性置換基を備えてい
るか、または極性スピロ環系が４位に結合しているのが
好ましい。特に以下の種類のポリアルキルピペリジンが
光安定剤として重要である。

ａ）次式II: 〔式中、 ｎは１ないし４、好ましくは１もしくは２の数を表わ
し、 Ｒは水素原子もしくはメチル基を表わし、 R¹は水素原子、アミン酸化物、炭素原子数１ないし12
のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、
炭素原子数３ないし８のアルキニル基、炭素原子数７な
いし12のアルアルキル基、炭素原子数１ないし８のアル
カノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基、
グリシジル基もしくは基−CH₂CH（OH）−Ｚ（Ｚは水素
原子、メチル基もしくはフェニル基を表わす。）を表わ
し、 R¹は炭素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、
ベンジル基、アセチル基もしくはアクリロイル基を表わ
すのが好ましく、そして ｎが１を表わすとき、R²は水素原子、１もしくはそれ
以上の酸素原子により中断できる炭素原子数１ないし18
のアルキル基、シアノエチル基、ベンジル基、グリシジ
ル基、脂肪族、環状脂肪族、芳香脂肪族、不飽和もしく
は芳香族カルボン酸、カルバミド酸もしくはリン含有酸
の一価の基または一価のシリル基、好ましくは炭素原子
数２ないし18の脂肪族カルボン酸の基、炭素原子数７な
いし15の環状脂肪族のカルボン酸の基、炭素原子数３な
いし５のα，β−不飽和カルボン酸の基もしくは炭素原
子数７ないし15の芳香族カルボン酸の基を表わし、 そしてｎが２を表わすとき、R²は炭素原子数１ないし
12のアルキレン基、炭素原子数４ないし12のアルケニレ
ン基、キシリレン基、脂肪族、環状脂肪族、芳香脂肪族
もしくは芳香族ジカルボン酸、ジカルバミン酸またはリ
ン含有酸の二価の基、または二価のシリル基、好ましく
は炭素原子数２ないし36の脂肪族ジカルボン酸の基、炭
素原子数８ないし14の環状脂肪族もしくは芳香族ジカル
ボン酸、炭素原子数８ないし14の脂肪族、環状脂肪族も
しくは芳香族ジカルバミン酸の基を表わし、 そしてｎが３を表わすとき、R²は脂肪族、環状脂肪族
もしくは芳香族トリカルボン酸、芳香族トリカルバミン
酸またはリン含有酸の三価の基、または三価のシリル基
を表わし、そして ｎが４を表わすとき、R²は脂肪族、環状脂肪族もしく
は芳香族テトラカルボン酸の四価の基を表わす。〕で表
わされる化合物。

置換基が炭素原子数１ないし12のアルキル基であると
き、これらは例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、第２ブチル基、第３ブチル基、ｎ
−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチル−ヘキシル
基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基も
しくはｎ−ドデシル基を表わす。

炭素原子数１ないし18のアルキル基として、R¹もしく
はR²は、例えば上述した基であることができ、そして例
えば更にｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−
ヘキサデシル基もしくはｎ−オクタデシル基である。

炭素原子数３ないし８のアルケニル基としてR¹の例
は、１−プロペニル基、アリル基、メタアリル基、２−
ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２
−オクテニル基もしくは４−第３ブチル−２−ブテニル
基でありうる。

炭素原子数３ないし８のアルキニル基としてR¹はプロ
パルギル基であるのが好ましい、 炭素原子数７ないし12のアルアルキル基としてR¹は特
にフェネチル基及びとりわけベンジル基である。

炭素原子数１ないし８のアルカノイル基としてR¹の例
は、ホルミル基、プロピオニル基、ブチリル基もしくは
オクタノイル基であり、好ましくはアセチル基であ
る。；炭素原子数３ないし５のアルケノイル基として、
特にアクリロイル基である。

カルボン酸の一価の基としてのR²の例は、酢酸、カプ
ロン酸、ステアリン酸、アクリル酸、メタアクリル酸、
安息香酸もしくはβ−（3,5−ジ第３−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオン酸基である。

ジカルボン酸の二価の基としてR²の例は、マロン酸、
コハク酸、グルタミン酸、アジピン酸、スベリン酸、セ
バシン酸、マレイン酸、フタル酸、ジブチルマロン酸、
ジベンジルマロン酸、ブチル−（3,5−ジ第３−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−マロン酸もしくはジシク
ロヘプテン−ジカルボン酸基である。

トリカルボン酸の三価の基としてR²の例は、トリメリ
ット酸もしくはニトリロトリ酢酸基である。

テトラカルボン酸の四価の基としてのR²の例は、ブタ
ン−1,2,3,4−テトラカルボン酸もしくはピロメリット
酸の四価の基である。

ジカルバミン酸の二価の基としてR²の例は、ヘキサメ
チレンカルバミン酸もしくは2,4−トルイレンジカルバ
ミン酸基である。

以下の化合物は、この種類のポリアルキルピペリジン
化合物の例である。

１）４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン ２）１−アリル−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン ３）１−ベンジル−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン ４）１−（４−第３ブチル−２−ブテニル）−４−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン ５）４−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン ６）１−エチル−４−サリシロイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン ７）４−メタアクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジン ８）1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４−イルβ
−（3,5−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）
−プロピオネート ９）ジ−（１−ベンジル−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）マレエート 10）ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）スクシネート 11）ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）グルタレート 12）ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）アジペート 13）ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート 14）ジ−（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４−
イル）セバケート 15）ジ−（1,2,3,6−テトラメチル−2,6−ジエチルピペ
リジン−４−イル）セバケート 16）ジ−（１−アリル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン 18）１−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イルアセテート 19）トリ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−
イル）トリメリテート 20）１−アクロイル−４−ベンジルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン 21）ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）ジエチルマロネート 22）ジ−（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４−
イル）ジブチルマロネート 23）ジ−（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４−
イル）ブチル−（3,5−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−マロネート 24）ジ−（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４−
イル）ジベンジルマロネート 25）ジ−（1,2,3,6−テトラメチル−2,6−ジエチルピペ
リジン−４−イル）ジベンジルマロネート 26）ヘキサン−１′,6′−ビス−（４−カルバモイルオ
キシ−１−ｎ−ブチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン） 27）トルエン−２′,4′−ビス−（４−カルバモイルオ
キシ−１−ｎ−プロピル−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン） 28）ジメチル−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−オキシ）−シラン 29）フェニル−トリス−（2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−オキシ）−シラン 30）トリス−（１−プロピル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）ホスフィット 31）トリス−（１−プロピル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）ホスフェート 32）ビス−（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４
−イル）フェニルホスホネート 33）４−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジン 34）４−ヒドロキシ−Ｎ−ヒドロキシエチル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン 35）４−ヒドロキシ−Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 36）１−グリシジル−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン ｂ）次式（III）： 〔式中、 ｎは１もしくは２の数を表わし、 Ｒ及びR¹はａ）で定義した意味を表わし、 R³は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、
炭素原子数２ないし５のヒドロキシアルキル基、炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数７ない
し８のアルアルキル基、炭素原子数２ないし18のアルカ
ノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基もし
くはベンゾイル基を表わし、そして ｎが１を表わすとき、R⁴は水素原子、炭素原子数１な
いし18のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニ
ル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、また
はヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基
もしくはカルバミド基により置換された炭素原子数１な
いし４のアルキル基、グリシジル基、式−CH₂−CH（O
H）−Ｚもしくは式−CONH−Ｚ（Ｚは水素原子、メチル
基もしくはフェニル基を表わす。）で表わされる基を表
わし、； ｎが２を表わすとき、R⁴は炭素原子数２ないし12のア
ルキレン基、炭素原子数６ないし12のアリーレン基、キ
シリレン基、−CH₂−CH（OH）−CH₂−基もしくは基−CH
₂−CH（OH）−CH₂−Ｏ−Ｄ−Ｏ−（Ｄは炭素原子数２な
いし10のアルキレン基、炭素原子数６ないし15のアリー
レン基もしくは炭素原子数６ないし12のシクロアルキレ
ン基を表わすか、またはR³がアルカノイル基、アルケノ
イル基もしくはベンゾイル基を表わさないという条件
で、R⁴は脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族ジカルボン
酸またはジカルバミン酸の二価の基、または基−CO−を
表わすこともでき、あるいは ｎが１を表わすとき、R³及びR⁴は一緒になって脂肪
族、環状脂肪族もしくは芳香族1,2−ジカルボン酸また
は1,3−ジカルボン酸の二価の基を表わすことができ
る。〕で表わされる化合物。

置換基が炭素原子数１ないし12のアルキル基もしくは
炭素原子数１ないし18のアルキル基であるとき、それら
はすでにａ）で定義されているものである。

置換基が炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基で
あるとき、それらは特にシクロヘキシル基である。

炭素原子数７ないし８のアルアルキル基として、R³は
特にフェニルエチル基で、とりわけベンジル基である、
炭素原子数２ないし５のヒドロキシアルキル基としてR³
は特に２−ヒドロキシエチル基もしくは２−ヒドロキシ
プロピル基である。

炭素原子数２ないし18のアルカノイル基としてR³の例
は、プロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基、ド
デカノイル基、ヘキサデカノイル基もしくはオクタデカ
ノイル基であり、好ましくはアセチル基である。炭素原
子数３ないし５のアルケノイル基としてのR³は、特にア
クリロイル基である。

炭素原子数２ないし８のアルケニル基としてR⁴の例
は、アリル基、メタアリル基、２−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、２−ヘキセニル基もしくは２−オクテニル
基である。

ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基
もしくはカルバミド基で置換された炭素原子数１ないし
４のアルキル基としてのR⁴の例は、２−ヒドロキシエチ
ル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−シアノエチル
基、メトキシカルボニルメチル基、２−エトキシカルボ
ニルエチル基、２−アミノカルボニルプロピル基もしく
は２−（ジメチルアミノカルボニル）−エチル基であ
る。

可能な炭素原子数２ないし12のアルキレン置換基の例
は、エチレン基、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピ
レン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基、デカメチレン基もしくはドデカメチレン基
である。

可能な炭素原子数６ないし15のアリーレン置換基の例
は、ｏ−、−ｍもしくはｐ−フェニレン基、1,4−ナフ
チレン基もしくは4,4′−ジフェニレン基である。

炭素原子数６ないし12のシクロアルキレン基としてＤ
は、特にシクロヘキシレン基である。

以下の化合物は、この種類のポリアルキルピペリジン
化合物の例である。： 37）N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−ヘキサメチレン−1,6−ジアミン 38）N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−ヘキサメチレン−1,6−ジアセトアミド 39）１−アセチル−４−（Ｎ−シクロヘキシルアセトア
ミド）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 40）４−ベンゾイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン 41）N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−N,N′−ジブチルアジパミド 42）N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−N,N′−ジシクロヘキシル−２−ヒドロ
キシプロピレン−1,3−ジアミン 43）N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−ｐ−キシリレン−ジアミン 44）N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−コハク酸ジアミド 45）ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）−β−アミノジプロピオネート 46）次式： で表わされる化合物 47）４−（ビス−２−ヒドロキシエチルアミノ）−1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン 48）４−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチ
ルベンズアミノ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 49）４−メタアクリルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチ
ルピペリジン ｃ）次式（IV）： （式中、 ｎは１もしくは２の数を表わし、 Ｒ及びR¹はａ）で定義した意味を表わし、並びに ｎが１を表わすとき、R⁵は炭素原子数２ないし８のア
ルキレン基、炭素原子数２ないし８のヒドロキシアルキ
レン基もしくは炭素原子数４ないし22のアシルオキシア
ルキレン基を表わすか、または ｎが２を表わすとき、R⁵は基（−CH₂）₂C（CH₂−）_２
を表わす。）で表わされる化合物 炭素原子数２ないし８のアルキレン基もしくは炭素原
子数２ないし８のヒドロキシアルキレン基としてR⁵の例
は、エチレン基、１−メチルエチレン基、プロピンレン
基、２−エチルプロピレン基もしくは２−エチル−２−
ヒドロキシメチルプロピレン基である。

炭素原子数４ないし22のアシルオキシアルキレン基と
してR⁵の例は、２−エチル−２−アセトキシメチルプロ
ピレン基である。

以下の化合物は、この種類のポリアルキルピペリジン
化合物の例である。

50）９−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキ
サスピロ〔5.5〕ウンデカン 51）９−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−３−エチル
−1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン 52）８−アザ−2,7,7,8,9,9−ヘキサメチル−1,4−ジオ
キサスピロ〔4.5〕デカン 53）９−アザ−３−ヒドロキシメチル−３−エチル−8,
8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオキサスピロ〔5.
5〕ウンデカン 54）９−アザ−３−エチル−３−アセトキシメチル−９
−アセチル−8,8,10,10−テトラメチル−1.5−ジオキサ
スピロ〔5.5〕ウンデカン 55）2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−スピロ−
２′−（１′,3′−ジオキサン）−５′−スピロ−５″
−（１″,3″−ジオキサン）−２″−スピロ−−（２
,2,6,6−テトラメチルピペリジン） ｄ）次式VA,VB及びVC: 〔式中、 ｎは１もしくは２の数を表わし、 Ｒ及びR¹はａ）で定義した意味を表わし、 R⁶は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、
アリル基、ベンジル基、グリシジル基もしくは炭素原子
数２ないし６のアルコキシアルキル基を表わし、そして ｎが１を表わすとき、R⁷は水素原子、炭素原子１ない
し12のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル
基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基、炭素原子
数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし
４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし６のア
ルコキシアルキル基、炭素原子数６ないし10のアリール
基、グリシジル基または式−（−CH₂）_ｐ−COO−Ｑもし
くは式−（CH₂）_ｐ−Ｏ−CO−Ｑ（ｐは１もしくは２を
表わし、並びにＱは炭素原子数１ないし４のアルキル基
もしくはフェニル基を表わす。）で表わされる基を表わ
すか、または ｎが２を表わすとき、R⁷は炭素原子数２ないし12のア
ルキレン基、炭素原子数４ないし12のアルケニレン基、
炭素原子数６ないし12のアリーレン基、基−CH₂−CH（O
H）−CH₂−Ｏ−Ｄ−Ｏ−CH₂−CH（OH）−CH₂−（Ｄは炭
素原子数２ないし10のアルキレン基、炭素原子数６ない
し15のアリーレン基もしくは炭素原子数６ないし12のシ
クロアルキレン基を表わす。）を表わすか、またはR⁷は
基−CH₂CH（OZ′）CH₂−（OCH₂−CH（OZ′）CH₂）_２−
（Ｚ′は水素原子、炭素原子数１ないし18のアルキル
基、アリル基、ベンジル基、炭素原子数２ないし12のア
ルカノイル基もしくはベンゾイル基を表わす。）を表わ
し、並びに T₁及びT₂は互いに独立して水素原子、炭素原子数１な
いし18のアルキル基もしくは炭素原子数６ないし10のア
リール基、または各々未置換もしくはハロゲン原子また
は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素
原子数７ないし９のアルアルキル基を表わすか、または T₁及びT₂はそれらが結合している炭素原子と一緒にな
って炭素原子数５ないし12のシクロアルカン環を形成す
る。〕で表わされる化合物 可能な炭素原子数１ないし12のアルキル置換基の例
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、第２ブチル基、第３ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ
−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、
ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基もしくはｎ−ドデシル
基基である。

可能な炭素原子数１ないし18のアルキル置換基の例
は、上述した基であることができ、更に例えばｎ−トリ
デシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、
もしくはｎ−オクタデシル基でありうる。

可能な炭素原子数２ないし６のアルコキシアルキル置
換基の例は、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プ
ロポキシメチル基、第３ブトキシメチル基、エトキシエ
チル基、エトキシプロピル基、ｎ−ブトキシエチル基、
第３ブトキシエチル基、イソプロポキシエチル基もしく
はプロポキシプロピル基である。

炭素原子数３ないし５のアルケニル基としてのR⁷の例
は、１−プロペニル基、アリル基、メタアリル基、２−
デテニル基もしくは２−ペンテニル基である、 炭素原子数７ないし９のアルアルキル基として、R⁷、
T¹及びT²は特にフェネチル基もしくはとりわけベンジル
基である。T¹及びT²が炭素原子と一緒になってシクロア
ルカン環を形成するとき、これは例えばシクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロオクタンもしくはシクロド
デカン環でありうる。

炭素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル基として
のR⁷の例は、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシ
プロピル基、２−ヒドロキシブチル基もしくは４−ヒド
ロキシブチル基である。

炭素原子数６ないし10のアリール基として、R⁷、T¹及
びT²は特に各々未置換またはハロンゲン原子もしくは炭
素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェ
ニル基、α−ナフチル基もしくはβ−ナフチル基であ
る。

炭素原子数２ないし12のアルキレン基としてR⁷の例
は、エチレン基、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピ
レン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基、デカメチレン基もしくはドデカメチレン基
である。

炭素原子数４ないし12のアルケニレン基としてR⁷は特
に２−ブテニレン基、２−ペテニレン基もしくは３−ヘ
キセニレン基である。

炭素原子数６ないし12のアリーレン基としてR⁷の例
は、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、1,4−ナフ
チレン基もしくは4,4′−ジフェニレン基である。

炭素原子数２ないし12のアルカノイル基としてＺ′の
例は、プロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基も
しくはドデカノイル基で、アセチル基が好ましい。

炭素原子数２ないし10のアルキレン基、炭素原子数６
ないし15のアリーレン基もしくは炭素原子数６ないし12
のシクロアルキレン基として、Ｄはｂ）で定義した意味
を表わす。

以下の化合物は、この種類のポリアルキルピペリジン
化合物の例である。： 56）３−ベンジル−1,3,8−トリアザ−7,7,9,9−テトラ
メチルスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン 57）３−ｎ−オクチル−1,3,8−トリアザ−7,7,9,9−テ
トラメチルスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン 58）３−アリル−1,3,8−トリアザ−1,7,7,9,9−ペンタ
メチルスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン 59）３−グリシジル−1,3,8−トリアザ−7,7,8,9,9−ペ
ンタメチルスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン 60）1,3,7,7,8,9,9−ヘプタメチル−1,3,8−トリアザス
ピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン 61）２−イソプロピル−7,7,9,9−テトラメチル−１−
オキサ−3,8−ジアザ−４−オキソ−スピロ〔4.5〕デカ
ン 62）2,2−ジブチル−7,7,9,9−テトラメチル−１−オキ
サ−3,8−ジアザ−４−オキソ−スピロ〔4.5〕デカン 63）2,2,4,4−テトラメチル−７−オキサ−3,20−ジア
ザ−21−オキソ−ジスピロ〔5.1.11.2〕−ヘンエイコサ
ン 64）２−ブチル−7,7,9,9−テトラメチル−１−オキサ
−4,8−ジアザ−３−オキソ−スピロ〔4.5〕デカン 65）８−アセチル−３−ドデシル−1,3,8−トリアザ−
7,7,9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジ
オン または以下の式で表わされる化合物。： ｅ）次式VI: 〔式中、 ｎは１もしくは２の数を表わし、 R⁸は次式： （式中、 Ｒ及びR¹はａ）で定義した意味を表わし、 Ｅは−Ｏ−もしくは−NR¹¹−を表わし、 Ａは炭素原子数２ないし６のアルキレン基もしくは−
（CH₂）_３−Ｏ−を表わしに、並びに Ｘは０もしくは１の数を表わす。）で表わされる基を
表わし、 R⁹はR⁸と同じ意味を表わすか、または基−NR¹¹R¹²、
−OR¹³、−NHCH₂OR¹³もしくは−Ｎ（CH₂OR¹³）_２のうち
のひとつを表わし、そして ｎが１を表わすとき、R¹⁰はR⁸及びR⁹と同じ意味を表
わし、 ｎが２を表わすとき、R¹⁰は基−Ｅ−Ｂ−Ｅ−（式
中、Ｂは−Ｎ（R¹¹）−で中断しうる炭素原子数２ない
し６のアルキレン基を表わす。）を表わし、 R¹¹は炭素原子数１ないし12のアルキル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基もしくは炭素原子数１ないし４の
ヒドロキシアルキル基または で表わされる基を表わし、 R¹²は炭素原子数１ないし12のアルキル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基もしくは炭素原子数１ないし４の
ヒドロキシアルキル基を表わし、並びに R¹³は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基
もしくはフェニル基を表わすか、あるいは R¹¹及びR¹²は一緒になって炭素原子数４ないし５のア
ルキレン基もしくは炭素原子数４ないし５のオキサアル
キレン基、例えば もしくは式 で表わされる基を表わすか、またはR¹¹及びR¹²は各々次
式： で表わされる基を表わす。〕で表わされる化合物。

可能な炭素原子数１ないし12のアルキル置換基の例
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、第２ブチル基、第３ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ
−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、
ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基もしくはｎ−ドデシル
基である。

可能な炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル置
換基の例は、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシ
プロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキ
シブチル基もしくは４−ヒドロキシブチル基である。

炭素原子数２ないし６のアルキレン基としてＡの例
は、エチレン基、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピ
レン基、テトラメチレン基もしくはヘキサメチレン基で
ある。

炭素原子数４ないし５のアルキレン基もしくは炭素原
子数４ないし５のオキサアルキレン基として、R¹¹及びR
¹²は共に、例えばテトラメチレン基、ペンタメチレン基
もしくは３−オキサペンタメチレン基である。

以下の式で表わされる化合物は、この種類のポリアル
キルピペリジン化合物の例である。： 式中Ｒは 式中Ｒは 式中Ｒは （ｆ）反復構造単位が、式（Ｉ）で表わされる2,2,6,6
−テトラアルキルピペリジン基を含有するオリゴマーま
たはポリマー化合物、特にこのタイプの基を含有するポ
リエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリアミン、
ポリウレタン、ポリ尿素、ポリアミノトリアジン、ポリ
（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリルアミド及
びこのタイプの基を含有するそれらのコポリマー。

ｍが２ないし約200の数を表わす下記式で表わされる
化合物は、例えばこの種類の2,2,6,6−ポリアルキルピ
ペリジン光安定剤である。

上記の種類の化合物のうち、種類ａ）、ｄ）、ｅ）及
びｆ）が特に適当で、とりわけ化合物No.10,12,13,14,2
1,63,75,77,81,84,92及び93が適当である。

添加される成分Ａの量は、基体及び所望の安定化の程
度に依存する。一般にポリオレフィンに対して0.01ない
し５重量％、好ましくは0.025ないし２重量％を添加す
る。

成分Ｂとして使用される亜鉛及びマグネシウム塩は、
式MeL₂（式中、Ｍは亜鉛もしくはマグネシウムを表わ
し、並びにＬは有機酸もしくはエノールのアニオンを表
わす。）で表わされる化合物が好ましい。有機酸は、例
えばスルホン酸、硫酸、ホスホン酸、リン酸であること
ができ、カルボン酸であるのが好ましい。酸は脂肪族、
芳香族、芳香脂肪族もしくは環状脂肪族であることがで
き、それは線状もしくは枝分れ鎖でありうるし、ヒドロ
キシル基もしくはアルコキシ基で置換でき、飽和もしく
は不飽和であることができ、更に24個までの炭素原子を
含むのが好ましい。

このタイプのカルボン酸の例は、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、イソ酪酸、カプロイン酸、２−エチルカ
プロイン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、ペヘン酸、オレイン酸、乳
酸、リシノール酸、２−メトキシプロピオン酸、安息香
酸、サリチル酸、４−ブチル安息香酸、トルイル酸、４
−ドデシル安息香酸、フェニル酢酸、ナフチル酢酸、シ
クロヘキサンカルボン酸、４−ブチルシクロヘキサンカ
ルボン酸もしくはシクロヘキシル酢酸である。カルボン
酸は更にカルボン酸の工業用混合物であることができ、
例えば脂肪酸の工業用混合物またはアルキル化安息香酸
の混合物である。

イオウもしくはリン含有の有機酸の例は、メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸、α，α−ジメチルエタンス
ルホン酸、ｎ−ブタンスルホン酸、ｎ−ドデカンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、４−
ノニルベンゼンスルホン酸、４−ドデシルベンゼンスル
ホン酸もしくはシクロヘキサンスルホン酸、ドデカンス
ルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸もしくはナフタレン
スルフィン酸、ブチルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、モノメチルもしくはモノエチルフェニルスルホネー
ト、モノブチルベンジルスルホネート、ジブチルホスフ
ィン酸もしくはジフェニルホスフィン酸である。

Ｌがエノレートアニオンであるとき、β−ジカルボニ
ル化合物もしくはｏ−アシルフェノールのアニオンであ
るのが好ましい。β−ジカルボニル化合物の例は、アセ
チルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタ
ン、エチルアセトアセテート、ブチルアセトアセテー
ト、ラウリルアセトアセテートもしくはα−アセチルシ
クロヘキサノンである。ｏ−アシルフェノールの例は、
２−アセチルフェノール、２−ブチロイルフェノール、
２−アセチル−１−ナフトール、２−ベンゾイルフェノ
ールもしくはサリチルアルデヒドである。エノレートは
炭素原子数５ないし20のβ−ジカルボニル化合物のアニ
オンであるのが好ましい。

以下のものは、成分Ｂとして作用されるのが好まし
い。：マグネシウム酢酸塩、ラウリン酸塩及びステアリ
ン酸塩並びに亜鉛ギ酸塩、酢酸塩、ヘプタン酸塩、ラウ
リン酸塩及びステアリン酸塩、並びに亜鉛アセチルアセ
トネートもしくはマグネシウムアセチルアセテート。

更に多数のマグネシウム塩もしくは多数の亜鉛塩の混
合物または亜鉛塩及びマグネシウム塩の混合物を使用す
ることが可能である。

成分Ｂの金属塩は、ポリオレフィンに対して0.005な
いし１％、特に0.05ないし0.5％の量でポリオレフィン
に添加するのが好ましい。

成分ＣのUV吸収剤は、例えば２−（２−ヒドロキシフ
ェニル）−ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾ
フェノン、オキサアニリド、ヒドロキシル化アリールベ
ンゾエート、ヒドロキシフェニルトリアジンもしくは桂
皮酸誘導体からなるタイプのUV吸収剤でありうる。

以下はベンゾトリアゾールUV吸収剤の例である。:2−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−ベンゾトリ
アゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第３ブチルフェ
ニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
3,5−ジ第３ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、
５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−
５−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、５−クロ
ロ−２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−第３ブチル−５
−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−３−第３フェニル−５−メチル）−ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−第３アミ
ル）−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３
−第２ブチル−５−第３ブチル）−ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ）−ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第３オ
クチル）−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ
−3,5−ジ（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕−
ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−〔２−ヒドロキ
シ−３−第３ブチル−５−（２−オクチルオキシカルボ
ニル）エチルフェニル〕−ベンゾトリアゾール。

以下はベンゾフェノンUV吸収剤の例である。:2,4−ジ
ヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチル
オキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−デシルオ
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオ
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオ
キシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジ
メトキシベンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロ
ベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシ−４′−第３ブチ
ル−ベンゾフェノン。

以下はオキサアニリドUV吸収剤の例である。:2−エチ
ル−２′−エトキシ−オキサアニリド、２−エチル−
２′−エトキシ−５′−第３ブチルオキサアニリド、４
−ドデシル−２′−エトキシオキサアニリド、4,4′−
ジオクチルオキシオキサアニリド、2,2′−ジオクチル
オキシ−5,5′−ジ第３−ブチルオキサアニリド、2,2′
−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ第３ブチルオキサアニ
リド。

以下はヒドロキシル化アリールベンゾエートの例であ
る。：フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチ
レート、2,4−ジ第３ブチルフェニル3,5−ジ第３ブチル
−４−ヒドロキシベンゾエート、レゾルシノールモノベ
ンゾエート、ジ−（４−第３ブチルベンゾイル）−レゾ
ルシノール。

以下はヒドロキシフェニルトリアジンの例である。:
2,4,6−トリス（2,4−ジヒドロキシフェニル）−1,3,5
−トリアジン、2,4−ビス（2,4−ジヒドロキシフェニ
ル）−６−（ｐ−クロロフェニル）−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス（２−ヒドロキシフェニル）−６−エチ
ル−1,3,5−トリアジン。

以下は桂皮酸誘導体の例である。：エチルα−シアノ
−β−フェニルシンナメート、メチルα−カルボケトキ
シシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−
メトキシシンナメート、イソオクチルα−シアノ−β−
フェニルシンナメート。

ベンゾトリアゾール及びベンゾフェノン型のUV吸収剤
が特に好ましい。

UV吸収剤は、慣用の濃度で、特にポリオレフィンに対
して0.01ないし１重量％の量で使用する。

無機もしくは有機顔料は成分C₂の顔料として使用でき
る。白色、黒色もしくは着色した顔料でありうる。それ
は各々の顔料もしくは顔料の混合物でありうる。

無機顔料の例は、二酸化チタン、酸化亜鉛、バリウム
カーボネート、カーボンブラック、カドミウムスルフィ
ド、カドミウムセレニド、クロメート、酸化クロム、酸
化鉄もしくは酸化鉛である。

有機の種類の顔料は、例えばアゾ顔料、アントラキノ
ン、フタルシアニン、ピロ−ロピロール、キナクリド
ン、イソインドリンもしくはペリレン顔料である。

顔料の量は、広い範囲内で変化でき、特にポリオレフ
ィンに対して0.01ないし10重量％を添加できる。

添加剤Ａ、Ｂ及びＣは、各々ポリオレフィンに、ある
いは混合物として添加できる。例えば粉状ポリマーと混
合して、あるいは溶融ポリマーに添加して、ポリマーの
成形前もしくは成形中に添加を行なう。

本発明による安定剤Ａ、Ｂ及びＣに加えて、ポリマー
に他の安定剤、例えばフェノール型の酸化防止剤、金属
奪活剤、ホスフィット及びホスホニットもしくは有機チ
オ化合物型の過酸化物分解化合物を添加することも可能
である。

以下にこれらの例を列挙する。

1.酸化防止剤 1.1. アルキル化モノフェノール 例えば、2,6−ジ−
第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三−ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４
−エチルフェノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−ｎ
−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−イ
ソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−４−メ
チルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−
4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−４−
メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノ
ール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−メトキシメチルフ
ェノール及び2,6−ジノニル−４−メチルフェノール。

1.2. アルキル化ヒドロキノン誘導体 例えば、2,6−
ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、2,5−ジ−
第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第三アミルヒドロ
キノン及び2,6−ジフェニル−４−オクタデシルオキシ
フェノール。

1.3. ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例え
ば、2,2′チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、2,2′−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチル
フェノール）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル２−
メチルフェノール）。

1.4. アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2′−
メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エ
チルフェノール）、2,2′−メチレンビス〔４−メチル
−６（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,
2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシル
フェノール）、2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４
−メチルフェノール）、2,2′−メチレンビス（4,6−ジ
−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデンビス
（4,6−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデ
ンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、2,2′−メチレンビス
〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール〕、4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチル
フェノール）、4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル
−２−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、2,
6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキ
シベンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−トリス
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス
（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン及びビス〔２
−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕
テレフタレート。

1.5. ベンジル化合物 例えば1,3,5−トリス（3,5−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−ト
リメチルベンゼン、ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトア
セテート、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,
6−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、1,
3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス（４−第三
ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ートのカルシウム塩及び1,3,5−トリス−（3,5−ジシク
ロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト。

1.6. アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキ
シラウリル酸のアニリド、４−ヒドロキシステアリン酸
のアニリド、2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
ｓ−トリアジン及びオクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。

1.7. 以下の様な一価または多価アルコールとβ−（3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
ピオン酸とのエステル 例えば、メタノール、オクタデ
カノール、1,6−ヘキサジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリスー（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びN,
N′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。

1.8. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）−プロピオン酸とのエステル 例えば、メタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサジオール、ネオペ
ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリ
トリトール、トリス−（ヒドロキシ）エチルイソシアネ
ヌレート及びN,N′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ
酸ジアミド。

1.9. 以下のような一価もしくは多価アルコールとβ−
（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロピオン酸 例えばメタノール、オクタデカノー
ル、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシ）エチルイソシアヌレート及びN,
N′−ビス−（ヒドロキシエチル）−シュウ酸アミド 2. 金属奪活剤 例えば、N,N′−ジフェニル蓚酸アミ
ド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリシロイルヒドラジン、
N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−1,2,
4−トリアゾール及びビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒド
ラジド。

3. ホスフィット及びオスホニット 例えば、トリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトージルホスフィット、トリス（2,4−ジ−第三ブチ
ルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリト
リトールジホスフィット、ビス（2,4−ジ−第三ブチル
フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリ
ステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビフェニレン
ジホスホニット及び3,9−ビス（2,4−ジ−第三ブチルフ
ェノキシ）−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスフ
ァスピロ〔5.5〕ウンデカン 4. 過酸化物脱除化合物 例えば、ラウリル、ステアリ
ル、ミリスチルもしくはトリデシルエステルのようなβ
−チオジプロピオン酸エステル、メルカプトベンズイミ
ダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、ジブチルチオカルバメート亜鉛、ジオクタデシル
ジスルフィド及びペンタエリトリトールテトラキス（β
−ドデシルメルカプト）プロピオネート。

この中でフェノール型の酸化防止剤を添加することが
特に重要である。

更にポリオレフィンのための慣用であるような他の添
加剤、例えば充填剤、潤滑剤、難燃剤もしくは帯電防止
剤を添加することも可能である。

この方法で安定化されたポリオレフィンは、例えばフ
ィルム、繊維、テープ、シート、ボトル、チューブもし
くは他の形材として、多様な形状で使用できる。

以下の実施例で本発明を更に詳細に説明する。この実
施例中、特記しない限り部及び％は重量部を表わす。

実施例1:小型の射出成形ポリプロピレンシートの安定化 ポリプロピレン粉末〔メルトフローインデックス2.4g
/10分（230℃/2160g）〕100部をドラムミキサー中でペ
ンタエリトリチルテトラキス〔β−（3,5−ジ第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート0.05
部、トリス−（2,4−ジ第３ブチルフェニル）ホスフィ
ット0.05部、カルシウムステアレート0.1部並びに表１
及び２で示した添加剤を混合し、その後押出機中で200
ないし220℃の温度で造粒する。

得られた粒状体を250℃の温度で、かつ射出成形機中6
0℃の成形温度で射出成形して厚さ2mmの小型シートを得
る。

この方法で製造した小型ポリプロピレンシートをフロ
リダで屋外暴露する。サンプルの衝撃強さを定期的に測
定する。残りの衝撃強さが50％になるまでの照射エネル
ギー（キロラングレイ,Klys）を安定系の保護作用の基
準とする。

以下の光安定剤を使用する。： LS−１ 次式： で表わされるポリエステル。

UV−１ 次式： で表わされるベンゾトリアゾールUV吸収剤。

UV−２ 次式： で表わされるベンゾフェノンUV吸収剤。

表１は成分Ｂとしてマグネシウムステアレートの作用
を示し、そして表２は亜鉛ステアレートの作用を示す。

データの数値（％）は、ポリプロピレンに対するもの
である。

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】Ａ）少なくとも１種のポリアルキルピペリ
   ジン光安定剤、 Ｂ）亜鉛もしくはマグネシウムの有機塩、及び Ｃ）C₁）紫外線吸収剤もしくは C₂）顔料もしくは C₃）紫外線吸収剤及び顔料 のいずれか を含有する光による劣化に対して安定化されたポリオレ
   フィン組成物。
2. 【請求項２】ポリオレフィンがポリプロピレンである請
   求項１記載の安定化されたポリオレフィン組成物。
3. 【請求項３】成分Ａとして次式I: （式中、Ｒは水素原子もしくはメチル基を表す）で表さ
   れる基を少なくとも１個その分子内に有する光安定剤を
   含有する請求項１記載の安定化されたポリオレフィン組
   成物。
4. 【請求項４】式Ｉ中、Ｒが水素原子を表す請求項３記載
   の安定化されたポリオレフィン組成物。
5. 【請求項５】成分Ｂが式MeL₂（式中、Meは亜鉛もしくは
   マグネシウムを表し、そしてＬは有機酸もしくはエノー
   ルのアニオを表す）で表される塩である請求項１記載の
   安定化されたポリオレフィン組成物。
6. 【請求項６】式MeL₂中、Ｌが24個までの炭素原子を有す
   る有機カルボン酸のアニオンを表す請求項５記載の安定
   化されたポリオレフィン組成物。
7. 【請求項７】式MeL₂中、Ｌが５ないし20個の炭素原子を
   有するβ−ジカルボニル化合物のエノラートアニオンで
   ある請求項５記載の安定化されたポリオレフィン組成
   物。
8. 【請求項８】式MeL₂中、Ｌが酢酸、ヘプタン酸、ラウリ
   ン酸、ステアリン酸もしくはアセチルアセトンのアニオ
   ンを表す請求項５記載の安定化されたポリオレフィン組
   成物。
9. 【請求項９】成分Ｃが２−（２−ヒドロキシフェニル）
   −ベンゾトリアゾールもしくは２−ヒドロキシベンゾフ
   ェノン型の紫外線吸収剤である請求項１記載の安定化さ
   れたポリオレフィン組成物。
10. 【請求項１０】成分Ｃが顔料である請求項１記載の安定
    化されたポリオレフィン組成物。
11. 【請求項１１】成分ＣがTiO₂顔料である請求項10記載の
    安定化されたポリオレフィン組成物。
12. 【請求項１２】各々ポリオレフィンに対して成分Ａを0.
    01〜５重量％、成分Ｂを0.05〜１重量％、及び成分C₁を
    0.01〜１重量％もしくは成分C₂を0.01〜10重量％含有す
    る請求項１記載の安定化されたポリオレフィン組成物。
13. 【請求項１３】Ａ）少なくとも１種のポリアルキルピペ
    リジン光安定剤、 Ｂ）亜鉛もしくはマグネシウムの有機塩、及び Ｃ）C₁）紫外線吸収剤もしくは C₂）顔料もしくは C₃）紫外線吸収剤及び顔料 のいずれか からなる安定剤の混合物をポリオレフィンに添加するこ
    とからなる、光による劣化に対して安定化されたポリオ
    レフィン組成物の製造方法。