JP2671651B2 - ウエ−ハ−搬送機構 - Google Patents
ウエ−ハ−搬送機構Info
- Publication number
- JP2671651B2 JP2671651B2 JP3173153A JP17315391A JP2671651B2 JP 2671651 B2 JP2671651 B2 JP 2671651B2 JP 3173153 A JP3173153 A JP 3173153A JP 17315391 A JP17315391 A JP 17315391A JP 2671651 B2 JP2671651 B2 JP 2671651B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- sample table
- center
- circular stopper
- processing device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はＭＢＥ装置（分子線結
晶成長装置）、ＭＯＣＶＤ装置（有機金属熱分解法）、
真空蒸着装置など真空容器の中で半導体ウエ−ハ−に対
して薄膜形成、エッチング、熱処理などを行う装置の内
部でウエ−ハ−を搬送する機構に関する。
晶成長装置）、ＭＯＣＶＤ装置（有機金属熱分解法）、
真空蒸着装置など真空容器の中で半導体ウエ−ハ−に対
して薄膜形成、エッチング、熱処理などを行う装置の内
部でウエ−ハ−を搬送する機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空中に於いてウエ−ハ−を搬送する機
構は真空容器を開くことなくウエ−ハ−を交換できるよ
うにするため重要である。従来のウエ−ハ−搬送機構
は、細長い搬送棒の先にＣ型のフォ−クを取り付けたも
のが多く、フォ−クの上に段をつけておきここにウエ−
ハ−を置くことができるようになっている。Ｃ型にする
と、下方から円形のサセプタを相対的に上昇させること
により、サセプタの上へウエ−ハ−を移し、サセプタに
対して水平にフォ−クを動かしてフォ−クを抜きとるこ
とができる。
構は真空容器を開くことなくウエ−ハ−を交換できるよ
うにするため重要である。従来のウエ−ハ−搬送機構
は、細長い搬送棒の先にＣ型のフォ−クを取り付けたも
のが多く、フォ−クの上に段をつけておきここにウエ−
ハ−を置くことができるようになっている。Ｃ型にする
と、下方から円形のサセプタを相対的に上昇させること
により、サセプタの上へウエ−ハ−を移し、サセプタに
対して水平にフォ−クを動かしてフォ−クを抜きとるこ
とができる。
【０００３】これは円形のサセプタの上にウエ−ハ−を
載せる場合である。この場合はサセプタが抜けるよう
に、Ｃ型のフォ−クを要するわけである。ところが、サ
セプタのようなものでなく、両側からウエ−ハ−を保持
することのできる保持台を有する処理装置に対してウエ
−ハ−のやりとりをしたいという要求もある。このよう
な場合はウエ−ハ−の外周を支持するＣ型のフォ−クで
ある必要はなく、むしろウエ−ハ−の中間部を支持する
台を用いた方がよい。このようなウエ−ハ−支持台を搬
送棒にとりつけて水平方向に移動させる。
載せる場合である。この場合はサセプタが抜けるよう
に、Ｃ型のフォ−クを要するわけである。ところが、サ
セプタのようなものでなく、両側からウエ−ハ−を保持
することのできる保持台を有する処理装置に対してウエ
−ハ−のやりとりをしたいという要求もある。このよう
な場合はウエ−ハ−の外周を支持するＣ型のフォ−クで
ある必要はなく、むしろウエ−ハ−の中間部を支持する
台を用いた方がよい。このようなウエ−ハ−支持台を搬
送棒にとりつけて水平方向に移動させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】搬送棒によってウエ−
ハ−を搬送するのであるから、目的の処理装置に対して
精確に位置合わせをしておかなくてはならない。このた
め各部品に対して厳しい加工精度の要求が課せられる。
加工精度だけでなく、搬送機構の組み立て調整が困難で
ある。たとえ組み立て調整しても、対象となる処理装置
の位置がズレるということもある。この場合、ウエ−ハ
−を正確に処理装置のウエ−ハ−保持位置に置くことが
できない。さらに、搬送装置を修理したり部品交換した
りすると再び組み立てなければならないが、この時に再
び困難な位置合わせをしなくてはならない。
ハ−を搬送するのであるから、目的の処理装置に対して
精確に位置合わせをしておかなくてはならない。このた
め各部品に対して厳しい加工精度の要求が課せられる。
加工精度だけでなく、搬送機構の組み立て調整が困難で
ある。たとえ組み立て調整しても、対象となる処理装置
の位置がズレるということもある。この場合、ウエ−ハ
−を正確に処理装置のウエ−ハ−保持位置に置くことが
できない。さらに、搬送装置を修理したり部品交換した
りすると再び組み立てなければならないが、この時に再
び困難な位置合わせをしなくてはならない。
【０００５】このように従来のウエ−ハ−搬送機構は位
置関係が固定されているので、予め厳格な位置合わせを
しなければならず、製作コストが高くなる。また組み立
ての際の調整が煩雑で時間がかかる。メンテナンスする
たびに再調整が必要であるなど無駄が多い。高い加工精
度や組み立て精度を要求することなく安価に製造でき再
調整の必要のないウエ−ハ−搬送機構を提供することが
本発明の目的である。
置関係が固定されているので、予め厳格な位置合わせを
しなければならず、製作コストが高くなる。また組み立
ての際の調整が煩雑で時間がかかる。メンテナンスする
たびに再調整が必要であるなど無駄が多い。高い加工精
度や組み立て精度を要求することなく安価に製造でき再
調整の必要のないウエ−ハ−搬送機構を提供することが
本発明の目的である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のウエ−ハ−搬送
機構は、円形のストッパとこれと軸合わせにされたウエ
−ハ−保持台を有する処理装置へウエ−ハ−をを搬送し
又は処理装置からウエ−ハ−を搬送するための機構であ
って、ウエ−ハ−を戴置できる形状の切欠きを有する試
料台と、試料台を水平方向揺動可能に支持する台支持部
と、台支持部を水平に支持し長手方向に平行移動させる
搬送棒と、試料台の上面又は下面の前記処理装置の円形
ストッパと接触しうる高さに於いて試料台の長手方向中
心線に関して対称の位置に設けられた複数の位置決めピ
ンと、試料台を台支持部に対して弾性的に支持する一対
以上のバネとを含むことを特徴とする。
機構は、円形のストッパとこれと軸合わせにされたウエ
−ハ−保持台を有する処理装置へウエ−ハ−をを搬送し
又は処理装置からウエ−ハ−を搬送するための機構であ
って、ウエ−ハ−を戴置できる形状の切欠きを有する試
料台と、試料台を水平方向揺動可能に支持する台支持部
と、台支持部を水平に支持し長手方向に平行移動させる
搬送棒と、試料台の上面又は下面の前記処理装置の円形
ストッパと接触しうる高さに於いて試料台の長手方向中
心線に関して対称の位置に設けられた複数の位置決めピ
ンと、試料台を台支持部に対して弾性的に支持する一対
以上のバネとを含むことを特徴とする。
【０００７】
【作用】処理装置は円形のストッパを有する。これとウ
エ−ハ−保持台とは位置合わせされている。つまりスト
ッパの円弧の中心とウエ−ハ−保持台の中心とが上下方
向に於いて一致している。本発明の搬送機構を前進させ
て位置決めピンを円形ストッパに当てる。もしも円形ス
トッパの中心が搬送機構の前進後退の運動方向とずれて
いないとすれば、位置決めピンは同時に円形ストッパに
接触し試料台は左右に動かない。
エ−ハ−保持台とは位置合わせされている。つまりスト
ッパの円弧の中心とウエ−ハ−保持台の中心とが上下方
向に於いて一致している。本発明の搬送機構を前進させ
て位置決めピンを円形ストッパに当てる。もしも円形ス
トッパの中心が搬送機構の前進後退の運動方向とずれて
いないとすれば、位置決めピンは同時に円形ストッパに
接触し試料台は左右に動かない。
【０００８】もしも円形ストッパの中心が搬送機構の運
動方向とずれている場合は、いずれかの位置決めピンが
先に円形ストッパに接触する。すると試料台がこの位置
決めピンの方向へ回転し他の位置決めピンも円形ストッ
パに接触した時にこの回転が止まることになる。すると
結局、搬送機構の試料台の中心と処理装置のウエ−ハ−
保持台の中心とが常に合致することになる。この調整は
自動的に行われる。
動方向とずれている場合は、いずれかの位置決めピンが
先に円形ストッパに接触する。すると試料台がこの位置
決めピンの方向へ回転し他の位置決めピンも円形ストッ
パに接触した時にこの回転が止まることになる。すると
結局、搬送機構の試料台の中心と処理装置のウエ−ハ−
保持台の中心とが常に合致することになる。この調整は
自動的に行われる。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の実施例に係るウエ−ハ−搬送
機構と処理装置の斜視図である。ただし図面寸法の制約
のため処理装置は上方に描いてあるが実際には搬送機構
の前進後退運動の線上にあって上下変位することができ
るものである。搬送機構はウエ−ハ−を戴置するための
試料台１を有する。試料台１は３つの部分を有する。後
方の左右両側に伸び、位置決めピン２、２を有する分岐
腕部３、３と、中央部の少し低くなったウエ−ハ−戴置
部４と、前方のウエ−ハ−押え部５である。これら３部
分はもちろん一体となっているのである。ウエ−ハ−押
え部５の内端面段部はウエ−ハ−の輪郭に合わせた円弧
切欠き６となっている。分岐腕部３の中央の内端面段部
も同様にウエ−ハ−の輪郭に合致する円弧切欠き７とな
っている。
機構と処理装置の斜視図である。ただし図面寸法の制約
のため処理装置は上方に描いてあるが実際には搬送機構
の前進後退運動の線上にあって上下変位することができ
るものである。搬送機構はウエ−ハ−を戴置するための
試料台１を有する。試料台１は３つの部分を有する。後
方の左右両側に伸び、位置決めピン２、２を有する分岐
腕部３、３と、中央部の少し低くなったウエ−ハ−戴置
部４と、前方のウエ−ハ−押え部５である。これら３部
分はもちろん一体となっているのである。ウエ−ハ−押
え部５の内端面段部はウエ−ハ−の輪郭に合わせた円弧
切欠き６となっている。分岐腕部３の中央の内端面段部
も同様にウエ−ハ−の輪郭に合致する円弧切欠き７とな
っている。
【００１０】試料台１は後方に於いて試料台回転軸８に
よって台支持部９に対し揺動可能に支持されている。台
支持部９は搬送棒１０の先端に固着されている。搬送棒
１０は直線導入機（図示せず）などによって軸方向に進
退できるようになっている。試料台１を台支持部９の上
に試料台回転軸８により揺動可能に支持しただけでは自
由状態に於ける試料台１の方向が決まらない。そこでバ
ランスのとれたバネの作用により自由状態での方向を正
しく規定するようにする。
よって台支持部９に対し揺動可能に支持されている。台
支持部９は搬送棒１０の先端に固着されている。搬送棒
１０は直線導入機（図示せず）などによって軸方向に進
退できるようになっている。試料台１を台支持部９の上
に試料台回転軸８により揺動可能に支持しただけでは自
由状態に於ける試料台１の方向が決まらない。そこでバ
ランスのとれたバネの作用により自由状態での方向を正
しく規定するようにする。
【００１１】台支持部９の両側の分岐部１１、１１と、
試料台１の分岐腕部３、３の両側に、中心から等距離に
ある対になった止穴１３、１３と止穴１２、１２を設け
る。これらの止穴１２、１３の間に同一の張力を有する
バネ１４、１４をとりつける。ここで止穴１２、１３の
かわりにねじによってバネの両端を固定するようにして
もよい。またバネは２本でなくてもよくて４本、６本な
ど複数本あってもよい。左右両側でバランスがとれてい
ればよいのである。自由状態では左右の張力が等しくな
ったところで試料台が止まるので、搬送棒１０の延長線
上に試料台の中心が位置する。
試料台１の分岐腕部３、３の両側に、中心から等距離に
ある対になった止穴１３、１３と止穴１２、１２を設け
る。これらの止穴１２、１３の間に同一の張力を有する
バネ１４、１４をとりつける。ここで止穴１２、１３の
かわりにねじによってバネの両端を固定するようにして
もよい。またバネは２本でなくてもよくて４本、６本な
ど複数本あってもよい。左右両側でバランスがとれてい
ればよいのである。自由状態では左右の張力が等しくな
ったところで試料台が止まるので、搬送棒１０の延長線
上に試料台の中心が位置する。
【００１２】また試料台回転軸８に於いてはかなりの摩
擦抵抗があるので、バネ１４、１４によって懸架すると
いっても、試料台１の重みで左右に振動するということ
はない。しかし、位置決めピン２、２に力が加わると試
料台１の方向が変わる。試料台１のウエ−ハ−戴置部４
にはウエ−ハ−１８を置くことができる。円弧切欠き
６、７によって正しく位置決めすることができる。
擦抵抗があるので、バネ１４、１４によって懸架すると
いっても、試料台１の重みで左右に振動するということ
はない。しかし、位置決めピン２、２に力が加わると試
料台１の方向が変わる。試料台１のウエ−ハ−戴置部４
にはウエ−ハ−１８を置くことができる。円弧切欠き
６、７によって正しく位置決めすることができる。
【００１３】円形ストッパ２０を持つ処理装置１９は、
薄膜形成のためのサセプタ、エッチングのための試料支
持台等を含む装置である。通常は円形ストッパのような
ものがないが、ここでは円形ストッパを有するものとす
る。円形ストッパ２０は、この装置が持つウエ−ハ−保
持台２２などの中心と軸合わせしてある。搬送機構によ
って運ばれるウエ−ハ−の中心と、ウエ−ハ−保持台２
２の中心が常に一致しなければならない。ウエ−ハ−保
持台２２は自由に昇降することができる。左右方向には
動かない。もともとは、搬送機構と処理装置とは軸合わ
せしてあるのであるが、なんらかの原因で両者の中心が
狂うということもありうる。これについて説明する。図
２は処理装置や搬送機構の平面図である。搬送機構の運
動する作用線をｍとする。試料回転軸８の中心Ｏや搬送
棒１０の中心Ｇは、作用線ｍの上に必ず存在する。試料
台の中心点をＸとする。ＯＸ＝ｎとする。左右バランス
のとれた状態での試料台の中心点の位置（作用線ｍ上に
ある）をＹとする。ＯＹ＝ｎである。
薄膜形成のためのサセプタ、エッチングのための試料支
持台等を含む装置である。通常は円形ストッパのような
ものがないが、ここでは円形ストッパを有するものとす
る。円形ストッパ２０は、この装置が持つウエ−ハ−保
持台２２などの中心と軸合わせしてある。搬送機構によ
って運ばれるウエ−ハ−の中心と、ウエ−ハ−保持台２
２の中心が常に一致しなければならない。ウエ−ハ−保
持台２２は自由に昇降することができる。左右方向には
動かない。もともとは、搬送機構と処理装置とは軸合わ
せしてあるのであるが、なんらかの原因で両者の中心が
狂うということもありうる。これについて説明する。図
２は処理装置や搬送機構の平面図である。搬送機構の運
動する作用線をｍとする。試料回転軸８の中心Ｏや搬送
棒１０の中心Ｇは、作用線ｍの上に必ず存在する。試料
台の中心点をＸとする。ＯＸ＝ｎとする。左右バランス
のとれた状態での試料台の中心点の位置（作用線ｍ上に
ある）をＹとする。ＯＹ＝ｎである。
【００１４】点Ｘは中心Ｏを中心として半径ｎの円周上
に必ず存在する。円形ストッパ２０の中心をＺとし、円
形ストッパの半径をｒとする。処理装置の中心Ｚが作用
線ｍ上から外れていたとする。図２のように右側に外れ
ていれば、位置決めピン２、２のうち右側のものが先に
円形ストッパの外周に衝突する。そして搬送棒１０がな
おも前進すると、試料台１が試料台回転軸８を中心とし
て右方向へ旋回する。やがて左側の位置決めピン２も円
形ストッパ２０の外周に当たる。ここで搬送棒１０の前
進が禁止される。この状態で処理装置１９の中心Ｚと、
試料台の中心Ｘとが上下方向に合致するようにしてあ
る。このようにするためには、位置決めピンの位置Ａ、
Ｂ、回転軸中心Ｏの位置と、ｎ＝ＯＸ、円形ストッパ半
径ｒとの間に一定の幾何学的関係が存在しなくてはなら
ない。
に必ず存在する。円形ストッパ２０の中心をＺとし、円
形ストッパの半径をｒとする。処理装置の中心Ｚが作用
線ｍ上から外れていたとする。図２のように右側に外れ
ていれば、位置決めピン２、２のうち右側のものが先に
円形ストッパの外周に衝突する。そして搬送棒１０がな
おも前進すると、試料台１が試料台回転軸８を中心とし
て右方向へ旋回する。やがて左側の位置決めピン２も円
形ストッパ２０の外周に当たる。ここで搬送棒１０の前
進が禁止される。この状態で処理装置１９の中心Ｚと、
試料台の中心Ｘとが上下方向に合致するようにしてあ
る。このようにするためには、位置決めピンの位置Ａ、
Ｂ、回転軸中心Ｏの位置と、ｎ＝ＯＸ、円形ストッパ半
径ｒとの間に一定の幾何学的関係が存在しなくてはなら
ない。
【００１５】位置決めピンＡ、Ｂの接触部の距離を２ｈ
とする。これは設計のためのパラメ−タとなりまた実測
できる値である．Ａ、Ｂの接触部を結ぶ直線に対して点
Ｏから下ろした垂線の足をＭとする。ＯＭの延長上に試
料台の中心点Ｘが存在する。ＯＭ＝Ｓとすると、これも
設計のためのパラメ−タとなり、実測できる量である。
円形ストッパ２０に位置決めピン２、２が接触した状態
では、三角形ＺＭＢ、ＺＭＡに対して三平方の定理か
ら、 ｒ2 ＝ｈ2 ＋（ｎ−ｓ）2 （１） が成立する。ｎ、ｓ、ｈは搬送機構の側のパラメ−タで
あり、ｒは円形ストッパのパラメ−タである。これらの
間に（１）の関係があるようにすれば、常に円形ストッ
パの中心Ｚと、試料台の中心Ｘとを自動的に合致させる
ことができる。ウエ−ハ−の受授がなされた後、搬送棒
１０を後退させると、試料台１は元の位置に復帰する。
とする。これは設計のためのパラメ−タとなりまた実測
できる値である．Ａ、Ｂの接触部を結ぶ直線に対して点
Ｏから下ろした垂線の足をＭとする。ＯＭの延長上に試
料台の中心点Ｘが存在する。ＯＭ＝Ｓとすると、これも
設計のためのパラメ−タとなり、実測できる量である。
円形ストッパ２０に位置決めピン２、２が接触した状態
では、三角形ＺＭＢ、ＺＭＡに対して三平方の定理か
ら、 ｒ2 ＝ｈ2 ＋（ｎ−ｓ）2 （１） が成立する。ｎ、ｓ、ｈは搬送機構の側のパラメ−タで
あり、ｒは円形ストッパのパラメ−タである。これらの
間に（１）の関係があるようにすれば、常に円形ストッ
パの中心Ｚと、試料台の中心Ｘとを自動的に合致させる
ことができる。ウエ−ハ−の受授がなされた後、搬送棒
１０を後退させると、試料台１は元の位置に復帰する。
【００１６】
【発明の効果】搬送機構の試料台が相手の装置の位置に
対応して自動的に変位するから、搬送機構を予め厳格に
位置合わせしておかなくても良い。したがって組み立て
作業がより簡便になる。さらに部品の加工精度もそれ程
強く要求されない。製作コスト、組み立てコストともに
低減させることができる。
対応して自動的に変位するから、搬送機構を予め厳格に
位置合わせしておかなくても良い。したがって組み立て
作業がより簡便になる。さらに部品の加工精度もそれ程
強く要求されない。製作コスト、組み立てコストともに
低減させることができる。
【図１】本発明の実施例に係る搬送機構と処理装置との
概略の斜視図。
概略の斜視図。
【図２】搬送機構の試料台が処理装置の円形ストッパに
接触し位置決めされた状態の平面図。
接触し位置決めされた状態の平面図。
１ 試料台 ２ 位置決めピン ３ 分岐腕部 ４ ウエ−ハ−戴置部 ５ ウエ−ハ−押え部 ６ 円弧切欠き ７ 円弧切欠き ８ 試料台回転軸 ９ 台支持部 １０ 搬送棒 １１ 分岐部 １２ 止穴 １３ 止穴 １４ バネ １９ 処理装置 ２０ 円形ストッパ ２１ ウエ−ハ−昇降棒 ２２ ウエ−ハ−保持台
Claims (1)
- 【請求項１】 円形のストッパとこれと軸合わせされた
ウエーハーの両側を保持するウエーハー保持台を有する
処理装置へウエーハーを搬送し又は処理装置からウエー
ハーを搬送するための機構であって、ウエーハーを戴置
できる形状の切り欠きを有する試料台と、試料台を水平
方向揺動可能に支持する台支持部と、台支持部を水平に
支持し長手方向に平行移動させる搬送棒と、試料台の上
面又は下面の前記処理装置の円形ストッパと接触しうる
高さに於いて試料台の長手方向中心線に関して対称の位
置に設けられた複数の位置決めピンと、試料台を台支持
部に対して弾性的に支持する一対以上のバネとを含み、
円形ストッパに位置決めピンが接触するとウエーハー保
持台の中心と搬送機構の中心が合致するように試料台が
揺動するようにしたことを特徴とするウエーハー搬送機
構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3173153A JP2671651B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | ウエ−ハ−搬送機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3173153A JP2671651B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | ウエ−ハ−搬送機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04369243A JPH04369243A (ja) | 1992-12-22 |
| JP2671651B2 true JP2671651B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=15955089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3173153A Expired - Fee Related JP2671651B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | ウエ−ハ−搬送機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2671651B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61263533A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-21 | Denkoo:Kk | 半導体移換え装置 |
| JPS6425549A (en) * | 1987-07-22 | 1989-01-27 | Hitachi Ltd | Transfer apparatus |
| JPH01173940U (ja) * | 1988-05-25 | 1989-12-11 | ||
| JP2691158B2 (ja) * | 1988-09-06 | 1997-12-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板移載装置 |
-
1991
- 1991-06-17 JP JP3173153A patent/JP2671651B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04369243A (ja) | 1992-12-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5340359B2 (ja) | ウェハ移送用高速交換ステーション | |
| JP2856816B2 (ja) | 要素搬送アライメント装置及び方法 | |
| US6468022B1 (en) | Edge-gripping pre-aligner | |
| US20050118010A1 (en) | Transfer robot | |
| US5028195A (en) | Horizontal/vertical conversion transporting apparatus | |
| US6435807B1 (en) | Integrated edge gripper | |
| US6623235B2 (en) | Robot arm edge gripping device for handling substrates using two four-bar linkages | |
| JP2004535681A (ja) | 統合マッピングセンサを備えた中心位置決め用両側エッジグリップ・エンドエフェクタ | |
| TW201718202A (zh) | 基板搬送機器人及基板處理系統 | |
| CN100375259C (zh) | 表面检查装置 | |
| KR100686707B1 (ko) | 기판반송장치 | |
| US10930538B2 (en) | Substrate alignment apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing method | |
| JP2671651B2 (ja) | ウエ−ハ−搬送機構 | |
| US6468018B1 (en) | Article transfer apparatuses | |
| US6913302B2 (en) | Robot arm edge gripping device for handling substrates | |
| JP3025282B2 (ja) | ワーク保持装置 | |
| JPH0536814A (ja) | ウエハ移載装置 | |
| JP2956665B2 (ja) | ウエハー搬送装置 | |
| JP2006210378A (ja) | 基板保持装置 | |
| JPH10239855A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP4277545B2 (ja) | 円盤状ワーク芯出し装置 | |
| JP2606970B2 (ja) | 搬送装置及びそれを用いた搬送方法 | |
| JPH05144924A (ja) | ウエハの心出し装置およびその方法 | |
| JPH06334026A (ja) | オリエンテーションフラット合わせ機内蔵型ウエハ収納装置 | |
| JP4716066B2 (ja) | ピッチ送り機構 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |