JP2663703B2 - Resin-sealed solid-state imaging device - Google Patents
Resin-sealed solid-state imaging deviceInfo
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- resin
- lead frame
- imaging device
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、樹脂封止型固体撮像装置に関し、特にリー
ドフレーム表面の処理に関するものである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-encapsulated solid-state imaging device, and more particularly to treatment of a lead frame surface.
従来の樹脂封止型固体撮像装置は、第2図(a),
(b)に示すように、固体撮像素子チップ2がリードフ
レームのアイランド1Cに固定され、固体撮像素子チップ
上の電極2aと内部リード1bとが金属細線3により電気的
に導通された後、透明樹脂(4)により、トランスファ
ー成形されていた。その際のリードフレーム1として
は、42又は45合金板をエッチング又はプレスによりパタ
ーニングし、金属細線3の接合部にAu又はAgめっきを施
こしたものがある。The conventional resin-encapsulated solid-state imaging device is shown in FIG.
As shown in FIG. 2B, the solid-state image sensor chip 2 is fixed to the island 1C of the lead frame, and the electrodes 2a on the solid-state image sensor chip and the internal leads 1b are electrically connected to each other by the thin metal wires 3, and then are transparent. Transfer molding was performed with the resin (4). As the lead frame 1 at that time, there is a lead frame 1 obtained by patterning a 42 or 45 alloy plate by etching or pressing, and applying a Au or Ag plating to a bonding portion of the thin metal wire 3.
上術した従来の樹脂封止型固体撮像装置では、第3図
に示すように入射光8aが内部リード1b表面で反射し、そ
の反射光8bが透明封止樹脂4表面で再反射し、固体撮像
素子チップ上に形成されているフォトダイオードに達
し、ゴースト又はフレアーなどの偽信号の発生が認めら
れた。In the above-mentioned conventional resin-encapsulated solid-state imaging device, as shown in FIG. 3, the incident light 8a is reflected on the surface of the internal lead 1b, and the reflected light 8b is re-reflected on the surface of the transparent encapsulating resin 4, and The light reached the photodiode formed on the image sensor chip, and generation of a false signal such as ghost or flare was recognized.
本発明は、固体撮像素子チップがリードフレームのア
イランド部に固定され、内部リードと前記固体撮像素子
チップ上の電極とが金属細線により接続され、透明樹脂
により封止されてなる樹脂封止型固体撮像装置におい
て、前記内部リード上の金属細線接合部を除く、封止樹
脂中に埋設されるリードフレーム部の少なくとも上面の
入射光領域に、リードフレーム素材及び内部リード上金
属細線接合部よりも、可視光に対する反射率が小さな低
反射部が設けられ、前記低反射部は、クロムメッキ膜で
あるか、酸化クロム膜,クロム膜及び酸化クロム膜の3
層膜であるかもしくは前記リードフレームの金めっき部
を熱処理して黒色化してなるかのいずれかであるという
ものである。The present invention relates to a resin-encapsulated solid in which a solid-state image sensor chip is fixed to an island portion of a lead frame, an internal lead is connected to an electrode on the solid-state image sensor chip by a thin metal wire, and is sealed with a transparent resin. In the imaging device, except for the metal wire bonding portion on the internal lead, the incident light region on at least the upper surface of the lead frame portion embedded in the sealing resin, than the lead frame material and the metal wire bonding portion on the internal lead, A low-reflection portion having a small reflectance with respect to visible light is provided, and the low-reflection portion is a chromium plating film or a chromium oxide film, a chromium film, and a chromium oxide film.
It is either a layer film or a gold-plated portion of the lead frame is blackened by heat treatment.
次に、本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図(a)は本発明の一実施例の平面図(但し、透
明封止樹脂の上半分を除いたものを示す)、第1図
(b)は、第1図(a)のY−Y線断面図である。FIG. 1 (a) is a plan view of one embodiment of the present invention (however, an upper half of the transparent sealing resin is removed), and FIG. 1 (b) is Y in FIG. 1 (a). FIG. 4 is a sectional view taken along line -Y.
リードフレームのアイランド部1C上に固体撮像素子チ
ップ2が固定され、金属細線3により、内部リード1bと
固体撮像素子チップ2の電極とが電気的に接続され、そ
の後トランスファー成形等により透明封止樹脂3が形成
されている固体撮像装置である。The solid-state imaging device chip 2 is fixed on the island portion 1C of the lead frame, the internal leads 1b and the electrodes of the solid-state imaging device chip 2 are electrically connected by the thin metal wires 3, and then the transparent sealing resin is formed by transfer molding or the like. 3 is a solid-state imaging device on which is formed.
本実施例の樹脂封止型固体撮像装置では、内部リード
1b上の金属細線接合部を除く、封止樹脂中に埋設される
リードフレーム部上面の入射光領域に、低反射部5を形
成することにより、可視光に対する反射率を低減し、ゴ
ースト又はフレアを防止する。In the resin-encapsulated solid-state imaging device of this embodiment, the internal leads
Except for the thin metal wire joint on 1b, the low-reflection portion 5 is formed in the incident light region on the upper surface of the lead frame portion embedded in the sealing resin, thereby reducing the reflectance with respect to visible light and reducing ghost or flare. To prevent
低反射部5は、例えば内部リード1bにAuメッキ等を施
こした後、リードフレーム1を酸化雰囲気中にて加熱し
て黒色化したものである。また、本実施例では入射光領
域にのみ低反射部を設けているが、内部リードの全ての
領域に設けてもよい。The low-reflection portion 5 is obtained by, for example, applying Au plating or the like to the internal lead 1b, and then heating the lead frame 1 in an oxidizing atmosphere to blacken it. Further, in the present embodiment, the low reflection portion is provided only in the incident light region, but may be provided in all regions of the internal lead.
低反射部の第2の例としてはクロムめっき膜でもよ
い。その場合、めっき膜厚を制御することにより、ある
程度自由に反射率を設定することが出来る。又、第3の
例としては酸化クロム膜50nm、クロム膜100nm、酸化ク
ロム膜50nmの3層膜をあげることができ、波長540nmの
反射率を35%以下にするとが出来る。As a second example of the low reflection portion, a chromium plating film may be used. In that case, the reflectance can be set to some extent freely by controlling the plating film thickness. As a third example, a three-layer film of a chromium oxide film 50 nm, a chromium film 100 nm, and a chromium oxide film 50 nm can be given, and the reflectance at a wavelength of 540 nm can be reduced to 35% or less.
第4の例として黒色インクの塗布膜をあげることがで
きる。黒色インクとして市販の半導体装置用の捺印イン
クが使用出来るため、安価に行なえるという利点があ
る。又、インクを使用した場合は、低温乾燥が可能なた
め、リードフレームの金属細線接合部にAgめっきを施す
ことが出来る。A fourth example is a coating film of black ink. Since a commercially available marking ink for a semiconductor device can be used as the black ink, there is an advantage that the printing can be performed at low cost. In addition, when ink is used, it can be dried at a low temperature, so that the metal thin wire joint of the lead frame can be plated with Ag.
以上説明したように本発明は、内部リード上の金属細
線部を除く、封止樹脂中に埋設されるリードフレーム部
の上面の少なくとも入射領域に可視光に対する反射率の
小さな低反射部を設けることにより、ゴースト又はクレ
アーなどの偽信号を防止出来、樹脂封止型固体撮像装置
の性能を改善できる効果がある。As described above, the present invention provides a low-reflection portion having a small reflectance to visible light in at least an incident area on an upper surface of a lead frame portion embedded in a sealing resin, excluding a thin metal wire portion on an internal lead. Thereby, a false signal such as a ghost or a clear signal can be prevented, and the performance of the resin-sealed solid-state imaging device can be improved.
第1図(a)は、本発明の第1の実施例の平面図、第1
図(b)は第1図(a)のY−Y線断面図、第2図
(a)は、従来の樹脂封止型固体撮像装置の平面図、第
2図(b)は、第2図(a)のY−Y線断面図、第3図
は、ゴースト、クレアーの発生メカニズムを説明するた
めの模式図である。 1……リードフレーム、1a……外部リード部、1b……内
部リード部、1c……アイランド部、2……固体撮像素
子、2a……電極、3……金属細線、4……透明封止樹
脂、5……低反射部、6……めっき膜、7……42合金
面、8a〜c……光。FIG. 1A is a plan view of a first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line YY in FIG. 1A, FIG. 2A is a plan view of a conventional resin-encapsulated solid-state imaging device, and FIG. FIG. 3A is a cross-sectional view taken along the line YY in FIG. 3A, and FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Lead frame, 1a ... External lead part, 1b ... Internal lead part, 1c ... Island part, 2 ... Solid-state image sensor, 2a ... Electrode, 3 ... Fine metal wire, 4 ... Transparent sealing Resin, 5: low reflection portion, 6: plating film, 7: 42 alloy surface, 8a to c: light.
Claims (3)
イランド部に固定され、内部リードと前記固体撮像素子
チップ上の電極とが金属細線により接続され、透明樹脂
により封止されてなる樹脂封止型固体撮像装置におい
て、前記内部リード上の金属細線接合部を除く、封止樹
脂中に埋設されるリードフレーム部の少なくとも上面の
入射光領域に、リードフレーム素材及び内部リード上金
属細線接合部よりも、可視光に対する反射率が小さな低
反射部が設けられ、前記低反射部は前記リードフレーム
の金めっき部を熱処理して黒色化してなることを特徴と
する樹脂封止型固体撮像装置。1. A resin-sealed type in which a solid-state image sensor chip is fixed to an island portion of a lead frame, and internal leads and electrodes on the solid-state image sensor chip are connected by thin metal wires and sealed with a transparent resin. In the solid-state imaging device, excluding the fine metal wire joints on the internal leads, at least in the incident light area on the upper surface of the lead frame portion embedded in the sealing resin, the lead frame material and the fine metal wire on the internal leads are more strongly bonded. A resin-encapsulated solid-state imaging device, wherein a low-reflection portion having a small reflectance with respect to visible light is provided, and the low-reflection portion is blackened by heat-treating a gold-plated portion of the lead frame.
イランド部に固定され、内部リードと前記固体撮像素子
チップ上の電極とが金属細線により接続され、透明樹脂
により封止されてなる樹脂封止型固体撮像装置におい
て、前記内部リード上の金属細線接合部を除く、封止樹
脂中に埋設されるリードフレーム部の少なくとも上面の
入射光領域に、リードフレーム素材及び内部リード上金
属細線接合部よりも、可視光に対する反射率が小さな低
反射部が設けられ、前記低反射部はクロムメッキ膜であ
ることを特徴とする樹脂封止型固体撮像装置。2. A resin-sealed type in which a solid-state image sensor chip is fixed to an island portion of a lead frame, and internal leads and electrodes on the solid-state image sensor chip are connected by thin metal wires and sealed with a transparent resin. In the solid-state imaging device, excluding the fine metal wire joints on the internal leads, at least in the incident light area on the upper surface of the lead frame portion embedded in the sealing resin, the lead frame material and the fine metal wire on the internal leads are more strongly bonded. A resin-encapsulated solid-state imaging device, wherein a low-reflection portion having a small reflectance with respect to visible light is provided, and the low-reflection portion is a chrome-plated film.
イランド部に固定され、内部リードと前記固体撮像素子
チップ上の電極とが金属細線により接続され、透明樹脂
により封止されてなる樹脂封止型固体撮像装置におい
て、前記内部リード上の金属細線接合部を除く、封止樹
脂中に埋設されるリードフレーム部の少なくとも上面の
入射光領域に、リードフレーム素材及び内部リード上金
属細線接合部よりも、可視光に対する反射率が小さな低
反射部が設けられ、前記低反射部は、酸化クロム膜、ク
ロム膜及び酸化クロム膜の3層膜であることを特徴とす
る樹脂封止型固体撮像装置。3. A resin-sealed type in which a solid-state image sensor chip is fixed to an island portion of a lead frame, and internal leads and electrodes on the solid-state image sensor chip are connected by thin metal wires and sealed with a transparent resin. In the solid-state imaging device, except for the thin metal wire joints on the internal leads, at least in the incident light area on the upper surface of the lead frame part embedded in the sealing resin, the lead frame material and the metal thin wires on the internal leads are more tightly joined. A resin-encapsulated solid-state imaging device, comprising: a low-reflection section having a small reflectance with respect to visible light; and the low-reflection section is a three-layer film of a chromium oxide film, a chromium film, and a chromium oxide film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2284890A JP2663703B2 (en) | 1990-10-23 | 1990-10-23 | Resin-sealed solid-state imaging device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2284890A JP2663703B2 (en) | 1990-10-23 | 1990-10-23 | Resin-sealed solid-state imaging device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH04159775A JPH04159775A (en) | 1992-06-02 |
JP2663703B2 true JP2663703B2 (en) | 1997-10-15 |
Family
ID=17684367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2284890A Expired - Lifetime JP2663703B2 (en) | 1990-10-23 | 1990-10-23 | Resin-sealed solid-state imaging device |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2663703B2 (en) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62190755A (en) * | 1986-02-17 | 1987-08-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Image sensor |
JPH0491474A (en) * | 1990-08-01 | 1992-03-24 | Sharp Corp | Solid-state image sensing apparatus |
-
1990
- 1990-10-23 JP JP2284890A patent/JP2663703B2/en not_active Expired - Lifetime
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JPH04159775A (en) | 1992-06-02 |
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