JP2002100751A - Solid-state image pickup device - Google Patents

Solid-state image pickup device

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JP2002100751A
JP2002100751A JP2000287207A JP2000287207A JP2002100751A JP 2002100751 A JP2002100751 A JP 2002100751A JP 2000287207 A JP2000287207 A JP 2000287207A JP 2000287207 A JP2000287207 A JP 2000287207A JP 2002100751 A JP2002100751 A JP 2002100751A
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Japan
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solid
imaging device
state imaging
optical glass
glass cap
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JP2000287207A
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Japanese (ja)
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Yasuhiro Matsuki
康浩 松木
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small and thin solid-state image pickup device where an imaging characteristics and reliability are maintained. SOLUTION: The solid-state image pickup device is provided where a solid- state imaging element chip electrically connected to a flexible wiring board comprising an insulating film and a conductor wiring is bonded to a translucent optical glass cap provided on the image pickup element surface side of the solid-state image pickup element chip, with the solid-state image pickup chip and the outer perimeter of the optical glass cap sealed up with sealing resin. A preventing resin layer, comprising a resin whose linear expansion coefficient being equal to or above the optical glass cap, is provided to the rear surface side of the solid-state image pickup element chip.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ビデオカメラ、デ
ジタルスチルカメラなどに用いられる、小型撮像装置と
しての、固体撮像装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solid-state imaging device used as a small-sized imaging device for use in video cameras, digital still cameras, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、CCDあるいはCMOSイメージ
センサなどの固体撮像装置については、デジタルカメラ
など、多くの利用範囲が広がっている。そして、製品の
小型化、薄型化に伴い、固体撮像装置の小型化、薄型化
が強く求められている。この要求に答えるために、特開
平7−99214号公報に記載されているような、TA
B(tape−automated bondig)テ
ープを用いた固体撮像装置がある。これは図3に示すよ
うな構造になっている。
2. Description of the Related Art In recent years, solid-state imaging devices such as CCD or CMOS image sensors have been widely used in digital cameras and the like. As products become smaller and thinner, there is a strong demand for solid-state imaging devices to be smaller and thinner. In order to respond to this request, a TA as described in JP-A-7-99214 has been proposed.
There is a solid-state imaging device using a B (tape-automated bond) tape. This has a structure as shown in FIG.

【0003】即ち、光学ガラスキャップ5の一方の面に
は、TABテープ2がシール材7により接着されてお
り、そして、TABテープ2は、ビームリード3を介し
て、固体撮像素子チップ1の電極パッド上に設けられた
バンプ4に接続されている。なお、TABテープ2は、
超音波ボンディングで直接バンプ4に接続することも可
能である。最後に、固体撮像素子チップ1と光学ガラス
キャップ5の周辺部を封止樹脂6により封止する。
That is, a TAB tape 2 is adhered to one surface of an optical glass cap 5 with a sealing material 7, and the TAB tape 2 is connected to an electrode of the solid-state imaging device chip 1 via a beam lead 3. It is connected to a bump 4 provided on the pad. In addition, TAB tape 2
It is also possible to connect directly to the bump 4 by ultrasonic bonding. Finally, the peripheral portions of the solid-state imaging device chip 1 and the optical glass cap 5 are sealed with a sealing resin 6.

【0004】このようなTABテープを用いた固体撮像
装置は、ワイヤボンディングを用いたセラミックパッケ
ージに比べ小型で、薄型にすることができる。
A solid-state imaging device using such a TAB tape can be smaller and thinner than a ceramic package using wire bonding.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の方法では、固体
撮像素子チップと光学ガラスキャップとの線膨張係数が
異なるために、製造工程での加熱あるいは使用時の温度
変化によって固体撮像素子チップに反りが発生してい
た。この対策の一つとして、固体撮像素子チップの主材
質であるシリコンと線膨張係数が比較的近い光学ガラス
キャップを使用することが考えられるが、コストやその
他の特性面からの要求により、シリコンとの線膨張係数
差が大きい光学ガラスキャップを使用しなくてはならな
い場合が多く、他の解決法が望まれていた。
In the conventional method, the solid-state image sensor chip and the optical glass cap have different coefficients of linear expansion. Therefore, the solid-state image sensor chip warps due to heating in a manufacturing process or a temperature change during use. Had occurred. One of the countermeasures is to use an optical glass cap whose linear expansion coefficient is relatively close to that of silicon, which is the main material of the solid-state imaging device chip. In many cases, an optical glass cap having a large difference in linear expansion coefficient must be used, and other solutions have been desired.

【0006】また、光学ガラスキャップと固体撮像素子
チップを貼り合わせ、加熱封止する際に、光学ガラスキ
ャップと固体撮像素子チップとの隙間にある空気が、加
熱により膨張し、封止内部から抜けてしまい、その状態
のままで封止が完了すると、室温に戻った封止内部の空
気が収縮し、固体撮像素子チップに反りが生じてしまう
現象も発生していた。
Further, when the optical glass cap and the solid-state image sensor chip are bonded together and sealed by heating, the air in the gap between the optical glass cap and the solid-state image sensor chip expands due to the heating and escapes from the inside of the seal. If the sealing is completed in this state, the air inside the sealing, which has returned to room temperature, contracts, causing a phenomenon that the solid-state imaging device chip is warped.

【0007】この対策としては、圧着後に通気孔が形成
されるように、予め、封止樹脂の無い部分を設けてお
き、後からその部分を塞いで封止を完了させる方法があ
るが、工程が余分に増え、コストアップになってしま
う。さらに、封止樹脂自体の硬化収縮によっても、固体
撮像素子チップに反りが発生してしまっていった。
As a countermeasure, there is a method in which a portion without a sealing resin is provided in advance so that an air hole is formed after pressure bonding, and the portion is sealed later to complete the sealing. Increases extra and the cost increases. Further, the solid-state imaging device chip is warped due to the curing shrinkage of the sealing resin itself.

【0008】このように、固体撮像素子チップに反りが
発生することにより、固体撮像素子の各画素でピント位
置が異なってしまい、画質が劣化してしまうといった問
題が生じていた。
As described above, the warpage of the solid-state image sensor chip causes a problem that the focus position is different in each pixel of the solid-state image sensor and the image quality is deteriorated.

【0009】本発明は、このような従来の技術の課題を
考慮してなされたものであり、撮像特性及び信頼性を保
持しつつ、小型化、薄型化を達成しうる固体撮像装置を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of such problems of the prior art, and provides a solid-state imaging device capable of achieving miniaturization and thinning while maintaining imaging characteristics and reliability. The purpose is to:

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の固体撮像装置
は、絶縁フィルムと導体配線から成るフレキシブル配線
基板が電気的に接続された固体撮像素子チップと、前記
固体撮像素子チップの撮像素子面側に配置された透光性
を有する光学ガラスキャップとを接着し、前記固体撮像
素子チップと前記光学ガラスキャップの外周部を封止樹
脂により封止した固体撮像装置で、前記固体撮像素子チ
ップの裏面側に、線膨張係数が前記光学ガラスキャップ
と同等以上の樹脂から成る反り防止樹脂層を備えること
を特徴とする。
According to the present invention, there is provided a solid-state imaging device comprising: a solid-state imaging device chip to which a flexible wiring board made of an insulating film and conductive wiring is electrically connected; A solid-state imaging device in which a light-transmitting optical glass cap disposed on the solid-state imaging device chip is adhered and an outer peripheral portion of the optical glass cap is sealed with a sealing resin; On the side, a warp preventing resin layer made of a resin having a linear expansion coefficient equal to or higher than that of the optical glass cap is provided.

【0011】本発明によれば、シリコンから成る固体撮
像素子チップと、ガラスから成る光学ガラスキャップと
の線膨張係数差により生じる固体撮像装置の反りに対し
て、前記反り防止樹脂層を形成することにより、前記固
体撮像装置の、一方に曲がる力と同等の力が反対の方向
にも作用するので、力の平衡が成立し、固体撮像装置の
反り現象が防止され、撮像特性及び信頼性を保持しつ
つ、小型化、薄型化を達成できるのである。
According to the present invention, the warpage preventing resin layer is formed for the warpage of the solid-state imaging device caused by the difference in linear expansion coefficient between the solid-state image sensor chip made of silicon and the optical glass cap made of glass. Accordingly, a force equivalent to a bending force on one side of the solid-state imaging device also acts in the opposite direction, so that a balance of forces is established, a warping phenomenon of the solid-state imaging device is prevented, and imaging characteristics and reliability are maintained. In addition, miniaturization and thinning can be achieved.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)図1は、本
発明における第1の実施の形態を示す断面図である。こ
こで、符号1は固体撮像素子チップであり、シリコンウ
エハーなどの半導体基板上にCCD、CMOSなどの固
体撮像素子が形成されている。また、符号1aは、固体
撮像装置に入射した光を集光するためのマイクロレンズ
であり、前記固体撮像素子チップ1の撮像領域上に設け
られている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention. Here, reference numeral 1 denotes a solid-state imaging device chip on which a solid-state imaging device such as a CCD or a CMOS is formed on a semiconductor substrate such as a silicon wafer. Reference numeral 1a denotes a microlens for condensing light incident on the solid-state imaging device, and is provided on an imaging region of the solid-state imaging device chip 1.

【0013】2はTABテープであり、前記固体撮像素
子チップ1を囲み、該固体撮像素子チップに対抗する辺
にビームリード3を配している。また、4は固体撮像素
子チップ1の撮像領域周辺部の端子上に設けられたバン
プであり、前記ビームリード3を介して固体撮像素子チ
ップ1とTABテープ2とを接続している。
Reference numeral 2 denotes a TAB tape, which surrounds the solid-state imaging device chip 1, and has a beam lead 3 on a side opposed to the solid-state imaging device chip. Reference numeral 4 denotes a bump provided on a terminal in the periphery of the imaging area of the solid-state imaging device chip 1, and connects the solid-state imaging device chip 1 and the TAB tape 2 via the beam lead 3.

【0014】5はガラス(例えば、CG−1:京セラ株
式会社)から成る光学ガラスキャップであり、固体撮像
素子チップ1が接続されたTABテープ2に対して、封
止樹脂6により、その外周部で接着固定されている。封
止樹脂6には、CV5333A(松下電工株式会社)な
どの熱硬化型接着剤が用いられる。
Reference numeral 5 denotes an optical glass cap made of glass (for example, CG-1: Kyocera Corporation). The TAB tape 2 to which the solid-state image pickup device chip 1 is connected is covered with a sealing resin 6 by an outer peripheral portion. It is fixed with adhesive. As the sealing resin 6, a thermosetting adhesive such as CV5333A (Matsushita Electric Works, Ltd.) is used.

【0015】7は前記光学ガラスキャップ5上に設けら
れたシール材であり、前記封止樹脂6が前記固体撮像素
子チップ1の撮像領域上に掛からないように、該撮像領
域外周を覆うように設けられている。8は、同じく光学
ガラスキャップ5上に設けられた、黒色の樹脂から成る
遮光膜であり、該撮像領域外周を覆うように設けられて
いる。この遮光膜8は、前記光学ガラスキャップ5を通
過した光の一部が前記ビームリード3やバンプ4で乱反
射し、固体撮像素子チップ1上の撮像領域に入り、画像
にゴーストなどの問題が生じることを防いでいる。
Reference numeral 7 denotes a sealing material provided on the optical glass cap 5 so as to cover the outer periphery of the imaging region so that the sealing resin 6 does not cover the imaging region of the solid-state imaging device chip 1. Is provided. Numeral 8 denotes a light-shielding film made of black resin, which is also provided on the optical glass cap 5, and is provided so as to cover the outer periphery of the imaging area. In the light-shielding film 8, a part of the light that has passed through the optical glass cap 5 is irregularly reflected by the beam leads 3 and the bumps 4 and enters the imaging region on the solid-state imaging device chip 1, causing a problem such as a ghost in an image. Is preventing that.

【0016】9はフィルム状の反り防止樹脂であり、固
体撮像素子チップ1の撮像素子裏面に接着固定されてい
る。この際、固体撮像素子チップ1はシリコンウエハー
から成り、その線膨張係数α1は2.6E-6/℃であ
り、光学ガラスキャップ5はガラス(CG−1、京セラ
株式会社)から成り、その線膨張係数α2は6.7E-6
/℃であり、また、反り防止樹脂9には、その線膨張係
数α3が、α3≧α2>α1となる樹脂が選ばれる。ま
た、反り防止樹脂9の塗布量は、光学ガラスキャップ5
との熱膨張、収縮のバランスを考慮し、α3とα2の差
により決定される。
Reference numeral 9 denotes a film-like warpage preventing resin, which is adhered and fixed to the back surface of the image sensor of the solid-state image sensor chip 1. At this time, the solid-state imaging device chip 1 is made of a silicon wafer, its linear expansion coefficient α1 is 2.6E −6 / ° C., and the optical glass cap 5 is made of glass (CG-1, Kyocera Corporation). Expansion coefficient α2 is 6.7E -6
/ ° C, and a resin whose warp preventing resin 9 has a coefficient of linear expansion α3 ≧ α2> α1 is selected. The amount of the anti-warp resin 9 is determined by the optical glass cap 5.
The difference between α3 and α2 is determined in consideration of the balance between thermal expansion and contraction.

【0017】このようにして、反り防止樹脂9を形成す
ることにより、前記固体撮像装置が一方に曲がろうとす
る力と同等の力が、反対の方向にも作用するので、力の
平衡が成立し、固体撮像装置の反り現象が防止される。
By forming the warp preventing resin 9 in this manner, a force equivalent to the force of the solid-state imaging device trying to bend in one direction acts in the opposite direction, so that the force balance is established. However, the warpage of the solid-state imaging device is prevented.

【0018】(第2の実施の形態)図2は、本発明にお
ける第2の実施の形態を示す断面図である。ここで、符
号10はペースト状の反り防止樹脂であり、光学ガラス
キャップ5と固体撮像素子チップ1を、その外周部にて
接着封止している封止樹脂の機能を兼ねている。その他
の構成は、第1の実施の形態と同様なので、その説明は
省略する。
(Second Embodiment) FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention. Here, reference numeral 10 denotes a paste-like anti-warpage resin, which also has a function of a sealing resin that adhesively seals the optical glass cap 5 and the solid-state imaging device chip 1 at the outer periphery thereof. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

【0019】このようにして、反り防止樹脂と封止樹脂
の材質を同一にすることで、光学ガラスキャップ5と固
体撮像素子チップ1との接着封止、および、反り防止機
能の付加を、同一工程において、行うことができ、コス
トアップをすることなく、固体撮像装置の反り現象を防
止することが可能となる。
As described above, by using the same material for the warp preventing resin and the sealing resin, the adhesive sealing between the optical glass cap 5 and the solid-state imaging device chip 1 and the addition of the warp preventing function can be performed in the same manner. In the process, the solid-state imaging device can be prevented from warping without increasing the cost.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明によれば、シリコンから成る固体
撮像素子チップと、ガラスから成る光学ガラスキャップ
との線膨張係数差により生じる固体撮像装置の反りを低
減することが可能となり、撮像特性及び信頼性を保持し
つつ、小型化、薄型化を達成しうる固体撮像装置を提供
することができる。
According to the present invention, it is possible to reduce the warpage of the solid-state imaging device caused by the difference in linear expansion coefficient between the solid-state imaging device chip made of silicon and the optical glass cap made of glass, and the imaging characteristics and A solid-state imaging device capable of achieving miniaturization and thinning while maintaining reliability can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明における第1の実施の形態を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明における第2の実施の形態を示す断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【図3】従来のTABテープを用いた固体撮像装置の断
面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional solid-state imaging device using a TAB tape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 固体撮像素子チップ 1a マイクロレンズ 2 TABテープ 3 ビームリード 4 バンプ 5 光学ガラスキャップ 6 封止樹脂 7 シール材 8 遮光膜 9 反り防止樹脂(フィルム状) 10 反り防止樹脂(ペースト状) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solid-state image sensor chip 1a Micro lens 2 TAB tape 3 Beam lead 4 Bump 5 Optical glass cap 6 Sealing resin 7 Sealing material 8 Light shielding film 9 Warp prevention resin (film form) 10 Warp prevention resin (paste form)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁フィルムと導体配線から成るフレキ
シブル配線基板が電気的に接続された固体撮像素子チッ
プと、前記固体撮像素子チップの撮像素子面側に配置さ
れた透光性を有する光学ガラスキャップとを接着し、前
記固体撮像素子チップと前記光学ガラスキャップの外周
部を封止樹脂により封止した固体撮像装置において、 前記固体撮像素子チップの裏面側に、線膨張係数が前記
光学ガラスキャップと同等以上の樹脂から成る反り防止
樹脂層を備えることを特徴とする固体撮像装置。
1. A solid-state image sensor chip electrically connected to a flexible wiring board composed of an insulating film and a conductor wiring, and a light-transmitting optical glass cap disposed on the image sensor surface side of the solid-state image sensor chip. In the solid-state imaging device in which the outer peripheral portions of the solid-state imaging device chip and the optical glass cap are sealed with a sealing resin, a linear expansion coefficient of the optical glass cap is set on the back surface side of the solid-state imaging device chip. A solid-state imaging device comprising a warp prevention resin layer made of a resin of equal or greater than equivalent.
【請求項2】 前記反り防止樹脂層は、フィルム状の樹
脂であり、前記固体撮像素子チップの撮像素子裏面側に
接着固定されていることを特徴とする請求項1に記載の
固体撮像装置。
2. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the warp prevention resin layer is a film-shaped resin, and is adhered and fixed to a back surface side of the imaging device of the solid-state imaging device chip.
【請求項3】 前記反り防止樹脂層は、前記封止樹脂と
同様の物質からなることを特徴とする請求項1に記載の
固体撮像装置。
3. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the warp prevention resin layer is made of the same material as the sealing resin.
【請求項4】 前記反り防止樹脂層は、前記固体撮像素
子チップと前記光学ガラスキャップの外周部を封止する
のと同時に形成されることを特徴とする請求項1あるい
は3に記載の固体撮像装置。
4. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the warpage prevention resin layer is formed simultaneously with sealing the outer peripheral portions of the solid-state imaging device chip and the optical glass cap. apparatus.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100910772B1 (en) * 2005-07-05 2009-08-04 삼성테크윈 주식회사 Flip-chip package for image sensor and compact camera module comprising the same
JP2010183585A (en) * 2010-02-26 2010-08-19 Ricoh Co Ltd Semiconductor device, image reader and image forming apparatus
CN102714211A (en) * 2010-08-04 2012-10-03 松下电器产业株式会社 Solid-state image pickup device
JP2019076358A (en) * 2017-10-24 2019-05-23 オリンパス株式会社 Image pickup module, endoscope, and method of manufacturing image pickup module

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100910772B1 (en) * 2005-07-05 2009-08-04 삼성테크윈 주식회사 Flip-chip package for image sensor and compact camera module comprising the same
JP2010183585A (en) * 2010-02-26 2010-08-19 Ricoh Co Ltd Semiconductor device, image reader and image forming apparatus
CN102714211A (en) * 2010-08-04 2012-10-03 松下电器产业株式会社 Solid-state image pickup device
CN102714211B (en) * 2010-08-04 2015-06-17 松下电器产业株式会社 Solid-state image pickup device
JP2019076358A (en) * 2017-10-24 2019-05-23 オリンパス株式会社 Image pickup module, endoscope, and method of manufacturing image pickup module

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