JP2661088B2 - 光ヘッド - Google Patents
光ヘッドInfo
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- JP2661088B2 JP2661088B2 JP63002025A JP202588A JP2661088B2 JP 2661088 B2 JP2661088 B2 JP 2661088B2 JP 63002025 A JP63002025 A JP 63002025A JP 202588 A JP202588 A JP 202588A JP 2661088 B2 JP2661088 B2 JP 2661088B2
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- Japan
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- light
- semiconductor laser
- lens
- substrate
- semiconductor lasers
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- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学式情報記録再生装置の光ヘッドに関す
る。
る。
光学式情報記録再生装置の光ヘッドは、追記型，光磁
気型，相変化型などのディスクに対応して種々の方式が
考えられている。特に相変化型では、記録した情報を、
記録媒体を形成する材料に相変化が生じる温度まで加熱
（アニール）することにより消去するために、記録再生
用ビームの他に、消去用ビームを備えたものが多い。
気型，相変化型などのディスクに対応して種々の方式が
考えられている。特に相変化型では、記録した情報を、
記録媒体を形成する材料に相変化が生じる温度まで加熱
（アニール）することにより消去するために、記録再生
用ビームの他に、消去用ビームを備えたものが多い。
第４図は、このような光ヘッドの例を示す。すなわ
ち、この光ヘッドは、光源として、波長λ１を持つ第一
の半導体レーザ１と、波長λ２をもつ第二の半導体レー
ザ２を備えている。第一の半導体レーザ１は記録再生用
として、第二の半導体レーザ２は消去用としてそれぞれ
使用する。
ち、この光ヘッドは、光源として、波長λ１を持つ第一
の半導体レーザ１と、波長λ２をもつ第二の半導体レー
ザ２を備えている。第一の半導体レーザ１は記録再生用
として、第二の半導体レーザ２は消去用としてそれぞれ
使用する。
第４図の光ヘッドにおいて、第一の半導体レーザ１か
ら出た光は、コリメートレンズ11によって平行光にな
る。さらに、ビーム整形プリズム12によって半導体レー
ザ１の光量分布の異方性を整形する。すなわち、断面の
光量分布を楕円から円形に変換する。ビーム整形プリズ
ム12を出た光は偏光ビームスプリッタ13、λ/4板14を経
てダイクロイックミラー15に入射する。このダイクロイ
ックミラー15は、波長λ１の光は透過し、波長λ２の光
は反射するような設計になっている。そして、対物レン
ズ16によってディスク17上に収束する。ディスク17から
の反射光は、同じ光路を戻り、偏光ビームスプリッタ13
で反射し、レンズ18を経て受光素子19に入り、光電流に
変換され、スポット制御用信号や再生信号として利用さ
れる。
ら出た光は、コリメートレンズ11によって平行光にな
る。さらに、ビーム整形プリズム12によって半導体レー
ザ１の光量分布の異方性を整形する。すなわち、断面の
光量分布を楕円から円形に変換する。ビーム整形プリズ
ム12を出た光は偏光ビームスプリッタ13、λ/4板14を経
てダイクロイックミラー15に入射する。このダイクロイ
ックミラー15は、波長λ１の光は透過し、波長λ２の光
は反射するような設計になっている。そして、対物レン
ズ16によってディスク17上に収束する。ディスク17から
の反射光は、同じ光路を戻り、偏光ビームスプリッタ13
で反射し、レンズ18を経て受光素子19に入り、光電流に
変換され、スポット制御用信号や再生信号として利用さ
れる。
一方、第二の半導体レーザ２から出た光はコリメート
レンズ21に入り、偏光ビームスプリッタ22、λ/4板23、
固定ミラー24を経てダイクロイックミラー15によって反
射する。そして、同じく対物レンズ16によってディスク
17上に収束する。ただし、このスポットはビーム整形を
行っていないので、第一の半導体レーザ１によるスポッ
トの径に比較して、ディスク17の円周方向に対する径が
大きく、消去が効果的に行えるようになっている。この
とき、収束したスポットの位置は、第一の半導体レーザ
１によるスポットの位置からわずかにディスク17のトラ
ックに沿う方向にずらしてある。この様子を第５図に示
す。同図の矢印の方向に回転しているディスク17のトラ
ックに対して、まず第二の半導体レーザ２によるスポッ
トＡによって既に記録したデータを消去し、直後の第一
の半導体レーザ１によるスポットＢによって、新しいデ
ータを記録する。なお、ディスク17のトラックには、予
めスポットを形成するための案内溝すなわちプレグルー
ブＧが設けられている。
レンズ21に入り、偏光ビームスプリッタ22、λ/4板23、
固定ミラー24を経てダイクロイックミラー15によって反
射する。そして、同じく対物レンズ16によってディスク
17上に収束する。ただし、このスポットはビーム整形を
行っていないので、第一の半導体レーザ１によるスポッ
トの径に比較して、ディスク17の円周方向に対する径が
大きく、消去が効果的に行えるようになっている。この
とき、収束したスポットの位置は、第一の半導体レーザ
１によるスポットの位置からわずかにディスク17のトラ
ックに沿う方向にずらしてある。この様子を第５図に示
す。同図の矢印の方向に回転しているディスク17のトラ
ックに対して、まず第二の半導体レーザ２によるスポッ
トＡによって既に記録したデータを消去し、直後の第一
の半導体レーザ１によるスポットＢによって、新しいデ
ータを記録する。なお、ディスク17のトラックには、予
めスポットを形成するための案内溝すなわちプレグルー
ブＧが設けられている。
相変化用の光ヘッドは、以上に説明したような動作を
するが、よく知られているようにディスクのトラックピ
ッチは1.6〜２μｍ程度である。したがって、この二つ
のビームの位置のわずかなずれでも、正確な記録再生消
去が行えなくなる。この位置ずれは、主に半導体レーザ
を保持している部材の温度による膨張，収縮で生じると
いわれている。このため、従来はこの二つの半導体レー
ザを同一の基板ないし部材上に取り付ける方法がとられ
ていた。
するが、よく知られているようにディスクのトラックピ
ッチは1.6〜２μｍ程度である。したがって、この二つ
のビームの位置のわずかなずれでも、正確な記録再生消
去が行えなくなる。この位置ずれは、主に半導体レーザ
を保持している部材の温度による膨張，収縮で生じると
いわれている。このため、従来はこの二つの半導体レー
ザを同一の基板ないし部材上に取り付ける方法がとられ
ていた。
第３図は従来における半導体レーザの取付方法を示す
概略図である。この従来例では、二つの半導体レーザ1,
2は同一基板上30に固定されており、レーザ光をコリメ
ートするためのコリメートレンズ11,21の鏡筒31,32は、
半導体レーザ1,2の取付基板30とは別の基板（図示せ
ず）に取り付けられている。このような構造において
は、鏡筒31,32は基板30とは独立に移動できるため、温
度等によって基板30の膨張や収縮が生じたとき、半導体
レーザ1,2とコリメートレンズ11,12の位置関係がずれ
て、第３図（ｂ）のようになる。このため、二つのコリ
メートされた光は平行でなくなる。したがって、この光
を第４図に示した対物レンズ16で絞ったときのスポット
の位置関係は元の状態と異なってしまい、情報の正確な
記録再生消去ができなくなる。
概略図である。この従来例では、二つの半導体レーザ1,
2は同一基板上30に固定されており、レーザ光をコリメ
ートするためのコリメートレンズ11,21の鏡筒31,32は、
半導体レーザ1,2の取付基板30とは別の基板（図示せ
ず）に取り付けられている。このような構造において
は、鏡筒31,32は基板30とは独立に移動できるため、温
度等によって基板30の膨張や収縮が生じたとき、半導体
レーザ1,2とコリメートレンズ11,12の位置関係がずれ
て、第３図（ｂ）のようになる。このため、二つのコリ
メートされた光は平行でなくなる。したがって、この光
を第４図に示した対物レンズ16で絞ったときのスポット
の位置関係は元の状態と異なってしまい、情報の正確な
記録再生消去ができなくなる。
さらに、半導体レーザ1,2と鏡筒31,32とを別個の基板
に取り付ける構造であると、組立時における位置調整が
煩雑となり、また、外部からの機械的振動や衝撃によ
り、互いの位置関係がずれてしまうというおそれがあっ
た。
に取り付ける構造であると、組立時における位置調整が
煩雑となり、また、外部からの機械的振動や衝撃によ
り、互いの位置関係がずれてしまうというおそれがあっ
た。
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされた
ものであり、位置ずれが生じにくく、また基板の膨張や
収縮等の変形が生じても、正確な記録再生消去が行なえ
る光ヘッドを提供することを目的とする。
ものであり、位置ずれが生じにくく、また基板の膨張や
収縮等の変形が生じても、正確な記録再生消去が行なえ
る光ヘッドを提供することを目的とする。
本発明の光ヘッドは、この目的を達成するため、共通
の基板の上に少なくとも二つの半導体レーザを所定の間
隔を空けて配置し、前記少なくとも二つの半導体レーザ
のそれぞれを囲むように鏡筒を前記共通の基板に一体的
に取り付け、前記鏡筒のそれぞれにコリメートレンズを
固定したことを特徴とする。
の基板の上に少なくとも二つの半導体レーザを所定の間
隔を空けて配置し、前記少なくとも二つの半導体レーザ
のそれぞれを囲むように鏡筒を前記共通の基板に一体的
に取り付け、前記鏡筒のそれぞれにコリメートレンズを
固定したことを特徴とする。
本発明においては、レーザ光をコリメートするコリメ
ートレンズは半導体レーザに対して独立に動くことがで
きない構造としている。このため、二つの半導体レーザ
ーを取り付けている同一の基板が温度によって膨張，収
縮が生じたとき、二つの半導体レーザーの移動量と各々
の半導体レーザをコリメートするためのコリメートレン
ズを取り付けている鏡筒の移動量はほぼ等しくなる。し
たがって、二つの出射レーザ光の平行性が常に保たれ、
正確な記録再生消去を行うことができる。さらに、半導
体レーザと鏡筒が同一の基板に取り付けられているた
め、外部からの機械的振動や衝撃が加わっても、これら
が一体となって動くため、レーザ光の平行性が損なわれ
ることがない。
ートレンズは半導体レーザに対して独立に動くことがで
きない構造としている。このため、二つの半導体レーザ
ーを取り付けている同一の基板が温度によって膨張，収
縮が生じたとき、二つの半導体レーザーの移動量と各々
の半導体レーザをコリメートするためのコリメートレン
ズを取り付けている鏡筒の移動量はほぼ等しくなる。し
たがって、二つの出射レーザ光の平行性が常に保たれ、
正確な記録再生消去を行うことができる。さらに、半導
体レーザと鏡筒が同一の基板に取り付けられているた
め、外部からの機械的振動や衝撃が加わっても、これら
が一体となって動くため、レーザ光の平行性が損なわれ
ることがない。
以下、本発明の特徴を、図面に示す実施例に基づいて
具体的に説明する。
具体的に説明する。
第１図は本発明による実施例を示すものである。第１
図において、第３図及び第４図に示した従来の例と同様
の構成については、同一の符号を付して説明を省略す
る。
図において、第３図及び第４図に示した従来の例と同様
の構成については、同一の符号を付して説明を省略す
る。
第１図に示すように、コリメートレンズ11,21の鏡筒3
1,32は、半導体レーザ1,2を固定している基板30に直接
取り付けられている。温度変化等によって、半導体レー
ザ1,2を固定している基板30の膨張や収縮が生じても、
コリメートレンズ11,21も半導体レーザ1,2と一緒に移動
するためコリメートされた光も、第１図（ｂ）に示すよ
うに互いに平行である。当然、元のコリメート光とも平
行である。このため、第４図に示す対物レンズ16で二つ
の光束を絞っても、ディスク17上のスポットの位置関係
は変化しないので、正確な記録再生消去が可能となる。
1,32は、半導体レーザ1,2を固定している基板30に直接
取り付けられている。温度変化等によって、半導体レー
ザ1,2を固定している基板30の膨張や収縮が生じても、
コリメートレンズ11,21も半導体レーザ1,2と一緒に移動
するためコリメートされた光も、第１図（ｂ）に示すよ
うに互いに平行である。当然、元のコリメート光とも平
行である。このため、第４図に示す対物レンズ16で二つ
の光束を絞っても、ディスク17上のスポットの位置関係
は変化しないので、正確な記録再生消去が可能となる。
なお、第４図に示すような従来例では、半導体レーザ
1,2の光量分布を整形するためにビーム整形プリズムを
使用する。この第４図の例では二つの半導体レーザ1,2
の基準面が同一の平面上にない。したがって、コリメー
トされた光束は平行ではないため、たとえ、コリメート
レンズ11,21と半導体レーザ1,2が一緒に動いたとして
も、二つの光束の角度が変化して対物レンズ16に入射す
る角度が変化する。そして、収束されたスポットの位置
関係も変化することになる。
1,2の光量分布を整形するためにビーム整形プリズムを
使用する。この第４図の例では二つの半導体レーザ1,2
の基準面が同一の平面上にない。したがって、コリメー
トされた光束は平行ではないため、たとえ、コリメート
レンズ11,21と半導体レーザ1,2が一緒に動いたとして
も、二つの光束の角度が変化して対物レンズ16に入射す
る角度が変化する。そして、収束されたスポットの位置
関係も変化することになる。
そこで、本実施例においては、二つの半導体レーザ1,
2の基準面が同一平面上に位置するようにしている。こ
の構造にすることにより、従来に比較して、かえって光
ヘッドのアセンブリーや光軸の調整が容易となり製造コ
ストの低減につながる。
2の基準面が同一平面上に位置するようにしている。こ
の構造にすることにより、従来に比較して、かえって光
ヘッドのアセンブリーや光軸の調整が容易となり製造コ
ストの低減につながる。
半導体レーザ1,2の基準面を同一平面上に固定するに
は、ビーム整形プリズムによって入射光と出射光を平行
にする必要がある。そのようなビーム整形プリズムの例
を第２図（ａ）に示す。この第２図（ａ）においては、
一対のビーム整形プリズム12a,12bを互いに逆向きに配
置し、入射光と出射光とが平行になるようにしている。
同図（ｂ）は、各レンズ及びビーム整形プリズムによる
光ビームの断面形状を示している。
は、ビーム整形プリズムによって入射光と出射光を平行
にする必要がある。そのようなビーム整形プリズムの例
を第２図（ａ）に示す。この第２図（ａ）においては、
一対のビーム整形プリズム12a,12bを互いに逆向きに配
置し、入射光と出射光とが平行になるようにしている。
同図（ｂ）は、各レンズ及びビーム整形プリズムによる
光ビームの断面形状を示している。
以上に説明したように、本発明においては、レーザ光
をコリメートするコリメートレンズを半導体レーザと同
一の基板に取り付けるようにしている。このため、記録
ディスク上の二つのスポットの位置関係が温度等による
外乱に対して変化しなくなり、記録再生消去などの性能
が大幅に向上する。さらに、温度変化による基板の変形
の場合のほか、機械的振動や衝撃による基板の位置ずれ
に対しても、コリメートレンズと半導体レーザとが一体
に動くため、二つのスポットの位置関係が損なわれるこ
とがない。
をコリメートするコリメートレンズを半導体レーザと同
一の基板に取り付けるようにしている。このため、記録
ディスク上の二つのスポットの位置関係が温度等による
外乱に対して変化しなくなり、記録再生消去などの性能
が大幅に向上する。さらに、温度変化による基板の変形
の場合のほか、機械的振動や衝撃による基板の位置ずれ
に対しても、コリメートレンズと半導体レーザとが一体
に動くため、二つのスポットの位置関係が損なわれるこ
とがない。
第１図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ温度変化の前後に
おける本発明による半導体レーザとコリメートレンズと
の位置関係を示す説明図、第２図は入射光束と出射光束
が平行になるためのビーム整形プリズムの構成例の説明
図、第３図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ温度変化の前
後における従来の構成による半導体レーザーとコリメー
トレンズとの位置関係を示す説明図、第４図は従来の記
録再生消去が可能な光ヘッドの構成図、第５図は光ディ
スクのプリグルーブと対物レンズによる収束スポットと
の位置関係を表す図である。 1:第一の半導体レーザ、2:第二の半導体レーザ 11,21:コリメートレンズ、30:基板 31,32:鏡筒
おける本発明による半導体レーザとコリメートレンズと
の位置関係を示す説明図、第２図は入射光束と出射光束
が平行になるためのビーム整形プリズムの構成例の説明
図、第３図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ温度変化の前
後における従来の構成による半導体レーザーとコリメー
トレンズとの位置関係を示す説明図、第４図は従来の記
録再生消去が可能な光ヘッドの構成図、第５図は光ディ
スクのプリグルーブと対物レンズによる収束スポットと
の位置関係を表す図である。 1:第一の半導体レーザ、2:第二の半導体レーザ 11,21:コリメートレンズ、30:基板 31,32:鏡筒
Claims (1)
- 【請求項１】共通の基板の上に少なくとも二つの半導体
レーザを所定の間隔を空けて配置し、前記少なくとも二
つの半導体レーザのそれぞれを囲むように鏡筒を前記共
通の基板に一体的に取り付け、前記鏡筒のそれぞれにコ
リメートレンズを固定したことを特徴とする光ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63002025A JP2661088B2 (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 光ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63002025A JP2661088B2 (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 光ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01178142A JPH01178142A (ja) | 1989-07-14 |
| JP2661088B2 true JP2661088B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=11517790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63002025A Expired - Lifetime JP2661088B2 (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 光ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2661088B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6124823U (ja) * | 1984-07-19 | 1986-02-14 | ソニー株式会社 | 半導体レ−ザ光束合波装置 |
-
1988
- 1988-01-07 JP JP63002025A patent/JP2661088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01178142A (ja) | 1989-07-14 |
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