JP2659809B2 - レーザ用反射ミラー - Google Patents
レーザ用反射ミラーInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、高出力レーザからのレーザビームを反射す
るための反射ミラーに関するものである。
るための反射ミラーに関するものである。
［従来の技術］ レーザ溶接機等のレーザ加工機においては、炭酸ガス
レーザやYAGレーザ等の高出力レーザが用いられてお
り、この高出力レーザからのレーザビームを反射しその
進行方向を変更するために反射ミラーが設けられてい
る。従来の反射ミラーとしては、第９図に示すように、
銅製のミラー基材１上に反射率の高い金コーティング層
２を形成したもの、或は、第10図に示すように、ミラー
基材１にニッケルコーティング層３を設けてオプティカ
ル研磨を容易にした上で、金コーティング層２を形成し
たものが一般的である。
レーザやYAGレーザ等の高出力レーザが用いられてお
り、この高出力レーザからのレーザビームを反射しその
進行方向を変更するために反射ミラーが設けられてい
る。従来の反射ミラーとしては、第９図に示すように、
銅製のミラー基材１上に反射率の高い金コーティング層
２を形成したもの、或は、第10図に示すように、ミラー
基材１にニッケルコーティング層３を設けてオプティカ
ル研磨を容易にした上で、金コーティング層２を形成し
たものが一般的である。
［発明が解決しようとする課題］ 上述したような従来の反射ミラーにおいては、高温環
境下で使用する際、或はレーザを長時間、高出力で使用
する際、反射ミラーに生じる数％のレーザビーム吸収に
よって反射ミラーの温度が上昇する。
境下で使用する際、或はレーザを長時間、高出力で使用
する際、反射ミラーに生じる数％のレーザビーム吸収に
よって反射ミラーの温度が上昇する。
従って、十分な冷却を行わずにこれらの反射ミラーを
用いると、ミラー温度が上昇し、金コーティング層とミ
ラー基材との間、或は金コーティング層とニッケルコー
ティング層との間に金属の相互拡散が生じる。第11図
は、第10図の反射ミラーを高出力で長時間使用した後
の、金コーティング層とニッケルコーティング層との間
の相互拡散の状態をミラー表面から深さ方向にオージェ
分析した結果を示したものであり、ニッケルがミラー表
面まで拡散し得ることがこの図から分かるであろう。こ
のような使用状態を続けると、反射ミラーの反射率が低
下し、ついにはミラーの破損に至ることとなる。第12図
は、第10図の反射ミラーの反射率及びミラー温度のレー
ザビーム照射時間に対する変化を示しており、この図か
ら、ビーム照射後約50秒でミラー反射率が低下し、長時
間の使用が困難であることが理解されるであろう。
用いると、ミラー温度が上昇し、金コーティング層とミ
ラー基材との間、或は金コーティング層とニッケルコー
ティング層との間に金属の相互拡散が生じる。第11図
は、第10図の反射ミラーを高出力で長時間使用した後
の、金コーティング層とニッケルコーティング層との間
の相互拡散の状態をミラー表面から深さ方向にオージェ
分析した結果を示したものであり、ニッケルがミラー表
面まで拡散し得ることがこの図から分かるであろう。こ
のような使用状態を続けると、反射ミラーの反射率が低
下し、ついにはミラーの破損に至ることとなる。第12図
は、第10図の反射ミラーの反射率及びミラー温度のレー
ザビーム照射時間に対する変化を示しており、この図か
ら、ビーム照射後約50秒でミラー反射率が低下し、長時
間の使用が困難であることが理解されるであろう。
また、反射ミラーの破損は、拡散によりミラー表面に
出てきたニッケル又は銅が酸化され、ビーム吸収率が更
に増すことによっても生ずる。反射ミラーを長時間、高
温下で使用する場合、金コーティング層の表面の金も酸
化され、反射率が低下することもある。
出てきたニッケル又は銅が酸化され、ビーム吸収率が更
に増すことによっても生ずる。反射ミラーを長時間、高
温下で使用する場合、金コーティング層の表面の金も酸
化され、反射率が低下することもある。
このように、従来の反射ミラーを使用するには、十分
な冷却を行うために、水冷機構が必要不可欠であった。
このため、装置全体の寸法が大きくなり、適用可能な被
加工物の範囲が狭められる場合がある。
な冷却を行うために、水冷機構が必要不可欠であった。
このため、装置全体の寸法が大きくなり、適用可能な被
加工物の範囲が狭められる場合がある。
従って、本発明の主目的は、冷却を行わずとも高温環
境下で長時間使用できる高出力レーザ用反射ミラーを提
供することにある。
境下で長時間使用できる高出力レーザ用反射ミラーを提
供することにある。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、第１の発明は、ミラー基
材上に、レーザビームを反射する金コーティング層のよ
うな高反射率金属コーティング層が形成されているレー
ザ用反射ミラーにおいて、高反射率金属コーティング層
の表面上に少なくとも１層の誘電体コーティング層を設
けたことを特徴としている。
材上に、レーザビームを反射する金コーティング層のよ
うな高反射率金属コーティング層が形成されているレー
ザ用反射ミラーにおいて、高反射率金属コーティング層
の表面上に少なくとも１層の誘電体コーティング層を設
けたことを特徴としている。
更に、第２の発明は、高反射率金属コーティング層の
裏面側に拡散係数の小さなコーティング層を設けると共
に、高反射率金属コーティング層の表面上に少なくとも
１層の誘電体コーティング層を設けたことを特徴として
いる。
裏面側に拡散係数の小さなコーティング層を設けると共
に、高反射率金属コーティング層の表面上に少なくとも
１層の誘電体コーティング層を設けたことを特徴として
いる。
［作用］ 第１の発明においては、酸化アルミニウム（Al2O3）
や酸化チタン（TiO2）、酸化ケイ素（SiO2）等の誘電体
コーティング層を高反射率金属コーティング層上に形成
することで、高反射率金属コーティング層の酸化が防止
されると共に、その反射率が改善される。
や酸化チタン（TiO2）、酸化ケイ素（SiO2）等の誘電体
コーティング層を高反射率金属コーティング層上に形成
することで、高反射率金属コーティング層の酸化が防止
されると共に、その反射率が改善される。
第２の発明においては、誘電体コーティング層が高反
射率金属コーティング層の酸化を防止すると共に、タン
グステン等の拡散係数の小さいコーティング層が高反射
率金属コーティング層への他金属の拡散混入を防止し
て、反射率の低下を防止する。
射率金属コーティング層の酸化を防止すると共に、タン
グステン等の拡散係数の小さいコーティング層が高反射
率金属コーティング層への他金属の拡散混入を防止し
て、反射率の低下を防止する。
［実施例］ 以下、図面と共に本発明の好適な実施例について詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は、高出力レーザとしてYAGレーザを用いたレ
ーザ溶接機のレーザビーム照射装置10を示しており、こ
のレーザビーム照射装置10内に本発明による反射ミラー
11が組み込まれている。レーザビーム照射装置10は、YA
Gレーザ（図示しない）に光ファイバー12により連結さ
れており、YAGレーザからのレーザビームが光ファイバ
ー12を伝搬してレーザビーム照射装置10内に入ると、該
レーザビームは集光レンズ13により収束された後、反射
ミラー11によりその進路が直角に屈曲されるようになっ
ている。図示実施例では、チューブ14の内周面でレーザ
ビームが集光され、これによりレーザビーム照射装置10
自体又はチューブ14を一回転することにより、符号15で
示す如くチューブ14の内周面を周溶接することができ
る。
ーザ溶接機のレーザビーム照射装置10を示しており、こ
のレーザビーム照射装置10内に本発明による反射ミラー
11が組み込まれている。レーザビーム照射装置10は、YA
Gレーザ（図示しない）に光ファイバー12により連結さ
れており、YAGレーザからのレーザビームが光ファイバ
ー12を伝搬してレーザビーム照射装置10内に入ると、該
レーザビームは集光レンズ13により収束された後、反射
ミラー11によりその進路が直角に屈曲されるようになっ
ている。図示実施例では、チューブ14の内周面でレーザ
ビームが集光され、これによりレーザビーム照射装置10
自体又はチューブ14を一回転することにより、符号15で
示す如くチューブ14の内周面を周溶接することができ
る。
第２図は反射ミラー11の斜視図であり、符号16はミラ
ーコート面である。以下で詳細に説明するが、本発明に
よれば、反射ミラー11の冷却は殆ど不要であるので、反
射ミラー11の冷却手段としては空冷式の放熱フィン17を
設けるだけで十分である。
ーコート面である。以下で詳細に説明するが、本発明に
よれば、反射ミラー11の冷却は殆ど不要であるので、反
射ミラー11の冷却手段としては空冷式の放熱フィン17を
設けるだけで十分である。
第３図は本発明の基礎となる反射ミラーの断面図であ
る。図示の如く、この反射ミラー11は、銅から成るミラ
ー基材１の表面上に、2000〜3000Åの厚さのタングステ
ンコーティング層20が形成されている。更に、このタン
グステンコーティング層20の上には、高反射率金属コー
ティング層である金コーティング層２が5000Åの厚さで
設けられている。これらの層20、２は蒸着或はイオンプ
レーティング等により形成される。
る。図示の如く、この反射ミラー11は、銅から成るミラ
ー基材１の表面上に、2000〜3000Åの厚さのタングステ
ンコーティング層20が形成されている。更に、このタン
グステンコーティング層20の上には、高反射率金属コー
ティング層である金コーティング層２が5000Åの厚さで
設けられている。これらの層20、２は蒸着或はイオンプ
レーティング等により形成される。
タングステンは拡散係数が小さいため、タングステン
コーティング層20が金コーティング層２の裏面側に存す
ると、金コーティング層２とミラー基材１との間の拡散
防止層として働き、高出力のレーザビームを長時間にわ
たりこの反射ミラー11に照射しても、金と銅の相互拡散
は生じない。このような拡散防止機能を有する他の材料
としてはモリブデンがある。
コーティング層20が金コーティング層２の裏面側に存す
ると、金コーティング層２とミラー基材１との間の拡散
防止層として働き、高出力のレーザビームを長時間にわ
たりこの反射ミラー11に照射しても、金と銅の相互拡散
は生じない。このような拡散防止機能を有する他の材料
としてはモリブデンがある。
第３図の反射ミラー11の変形として、タングステンコ
ーティング層20とミラー基材１との間にニッケルコーテ
ィング層を形成したものが考えられるが（図示しな
い）、この反射ミラーに対して高出力のレーザビームを
無冷却で長時間照射した場合のオージェ分析結果を第７
図に示す。タングステンコーティング層のない場合の第
11図と比較すると、ミラー表面へのニッケル或は銅の拡
散は皆無であり、ニッケルや銅の酸化の恐れがなく高反
射率が確保されることが分かるであろう。
ーティング層20とミラー基材１との間にニッケルコーテ
ィング層を形成したものが考えられるが（図示しな
い）、この反射ミラーに対して高出力のレーザビームを
無冷却で長時間照射した場合のオージェ分析結果を第７
図に示す。タングステンコーティング層のない場合の第
11図と比較すると、ミラー表面へのニッケル或は銅の拡
散は皆無であり、ニッケルや銅の酸化の恐れがなく高反
射率が確保されることが分かるであろう。
次に、第４図は第１の発明による反射ミラーを示した
ものである。この反射ミラー11は、5000Åの金コーティ
ング層２上にλ/4（λ＝1.06μｍ）の酸化アルミニウム
から成る誘電体コーティング層21を設けたものである。
ものである。この反射ミラー11は、5000Åの金コーティ
ング層２上にλ/4（λ＝1.06μｍ）の酸化アルミニウム
から成る誘電体コーティング層21を設けたものである。
この誘電体コーティング層21は、金コーティング層２
の酸化防止の機能を有する。また、この反射ミラー11の
反射率は、誘電体コーティング層21がないものに比して
２％程度高く、水冷を行うことなく長時間、高温環境下
で使用することができる。
の酸化防止の機能を有する。また、この反射ミラー11の
反射率は、誘電体コーティング層21がないものに比して
２％程度高く、水冷を行うことなく長時間、高温環境下
で使用することができる。
第５図は第２の発明による反射ミラーである。図示す
るように、この反射ミラー11は、第４図の反射ミラーに
更に、2000〜3000Åの厚さのタングステンコーティング
層20をミラー基材１と金コーティング層２との間に形成
した形となっている。即ち、タングステンコーティング
層20が金コーティング層２とミラー基材１との間の相互
拡散を防止すると共に、誘電体コーティング層21が金コ
ーティング層２の酸化を防止している。
るように、この反射ミラー11は、第４図の反射ミラーに
更に、2000〜3000Åの厚さのタングステンコーティング
層20をミラー基材１と金コーティング層２との間に形成
した形となっている。即ち、タングステンコーティング
層20が金コーティング層２とミラー基材１との間の相互
拡散を防止すると共に、誘電体コーティング層21が金コ
ーティング層２の酸化を防止している。
尚、金コーティング層２上の誘電体コーティング層は
１層に限らず、第６図の如く２層以上としても良い。２
層とした場合、下側の誘電体コーティング層21として酸
化ケイ素又はフッ化イットリウム（YF3）、上側の誘電
体コーティング層22として酸化チタンを用いたものが考
えられる。この実施例では、各層の厚さはλ/4である。
１層に限らず、第６図の如く２層以上としても良い。２
層とした場合、下側の誘電体コーティング層21として酸
化ケイ素又はフッ化イットリウム（YF3）、上側の誘電
体コーティング層22として酸化チタンを用いたものが考
えられる。この実施例では、各層の厚さはλ/4である。
このように誘電体コーティング層を複数層とすること
で、反射ミラー11の反射率を単層よりも更に向上させる
ことができる。
で、反射ミラー11の反射率を単層よりも更に向上させる
ことができる。
第８図は、銅のミラー基材１、タングステンコーティ
ング層20、金コーティング層２、酸化ケイ素の誘電体コ
ーティング層21及び酸化チタンの誘電体コーティング層
22から成る反射ミラー11（第６図）の反射率Ｒ及びミラ
ー温度θのYAGレーザビーム照射時間に対する変化を示
したものである。図示の如く、レーザ照射出力が670Wの
高出力で、500秒のレーザビーム照射を行った場合であ
っても、反射ミラー11の反射率は98％以上に保たれ、ま
た、ミラー温度が400℃まで上昇しても反射率は98％で
安定している。また、この測定においては、照射雰囲気
は２％の酸素入り窒素雰囲気としたが、酸化が安定せ
ず、酸素に対しても反射ミラー11は安定した反射率を確
保していることが分かる。この効果は第12図を参照する
ことで更に明らかとなろう。
ング層20、金コーティング層２、酸化ケイ素の誘電体コ
ーティング層21及び酸化チタンの誘電体コーティング層
22から成る反射ミラー11（第６図）の反射率Ｒ及びミラ
ー温度θのYAGレーザビーム照射時間に対する変化を示
したものである。図示の如く、レーザ照射出力が670Wの
高出力で、500秒のレーザビーム照射を行った場合であ
っても、反射ミラー11の反射率は98％以上に保たれ、ま
た、ミラー温度が400℃まで上昇しても反射率は98％で
安定している。また、この測定においては、照射雰囲気
は２％の酸素入り窒素雰囲気としたが、酸化が安定せ
ず、酸素に対しても反射ミラー11は安定した反射率を確
保していることが分かる。この効果は第12図を参照する
ことで更に明らかとなろう。
前述した各反射ミラー11はいずれも、300〜400℃の高
温下で長時間にわたり97〜99％の高反射率が確保でき、
これらの反射ミラー11を有するレーザ溶接機では、レー
ザ出力800Wにおいて、溶接速度0.5m/minの溶接を連続20
0ビード以上行うことができることが確認されている。
温下で長時間にわたり97〜99％の高反射率が確保でき、
これらの反射ミラー11を有するレーザ溶接機では、レー
ザ出力800Wにおいて、溶接速度0.5m/minの溶接を連続20
0ビード以上行うことができることが確認されている。
［発明の効果］ 上述したように、第１の発明では、高反射率金属コー
ティング層上の誘電体コーティング層により、高反射率
金属コーティング層の酸化が防止されると共に、反射率
も改善される。よって、この場合もミラー温度の上昇が
防止される。
ティング層上の誘電体コーティング層により、高反射率
金属コーティング層の酸化が防止されると共に、反射率
も改善される。よって、この場合もミラー温度の上昇が
防止される。
第２の発明は、前述の表面上の誘電体コーティング層
に加え、裏面側に拡散係数の小さいコーティング層を有
するので、高反射率金属コーティング層の反射率を向上
すると共に拡散による反射率の低下を防止し、常に反射
率を高く保持して、水冷機構のような大掛かりな冷却手
段の必要性を排除する。
に加え、裏面側に拡散係数の小さいコーティング層を有
するので、高反射率金属コーティング層の反射率を向上
すると共に拡散による反射率の低下を防止し、常に反射
率を高く保持して、水冷機構のような大掛かりな冷却手
段の必要性を排除する。
第１図は、本発明の反射ミラーが使用されるレーザ溶接
機のレーザビーム照射装置を示す概略説明図である。 第２図は、本発明の反射ミラーの外観斜視図である。 第３図は、本発明の基礎的構造を示す反射ミラーの断面
図である。 第４図は、第１の発明に従った反射ミラーの断面図であ
る。 第５図は、第２の発明に従った反射ミラーの断面図であ
る。 第６図は、誘電体コーティング層が２層設けられた第２
の発明に従った反射ミラーの断面図である。 第７図は、第３図の反射ミラーの改変例の使用後におけ
るミラーコーティング部のオージェ分析結果を示すグラ
フである。 第８図は、第２の発明による反射ミラーのレーザビーム
照射時間と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフであ
る。 第９図及び第10図は、それぞれ従来の反射ミラーを示す
断面図である。 第11図は、第10図の反射ミラーの使用後におけるミラー
コーティング部のオージェ分析結果を示すグラフであ
る。 第12図は、第10図の反射ミラーのレーザビーム照射時間
と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフである。 １……ミラー基材 ２……金コーティング層（高反射率金属コーティング
層） 10……レーザビーム照射装置 11……反射ミラー 20……タングステンコーティング層 21,22……誘電体コーティング層
機のレーザビーム照射装置を示す概略説明図である。 第２図は、本発明の反射ミラーの外観斜視図である。 第３図は、本発明の基礎的構造を示す反射ミラーの断面
図である。 第４図は、第１の発明に従った反射ミラーの断面図であ
る。 第５図は、第２の発明に従った反射ミラーの断面図であ
る。 第６図は、誘電体コーティング層が２層設けられた第２
の発明に従った反射ミラーの断面図である。 第７図は、第３図の反射ミラーの改変例の使用後におけ
るミラーコーティング部のオージェ分析結果を示すグラ
フである。 第８図は、第２の発明による反射ミラーのレーザビーム
照射時間と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフであ
る。 第９図及び第10図は、それぞれ従来の反射ミラーを示す
断面図である。 第11図は、第10図の反射ミラーの使用後におけるミラー
コーティング部のオージェ分析結果を示すグラフであ
る。 第12図は、第10図の反射ミラーのレーザビーム照射時間
と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフである。 １……ミラー基材 ２……金コーティング層（高反射率金属コーティング
層） 10……レーザビーム照射装置 11……反射ミラー 20……タングステンコーティング層 21,22……誘電体コーティング層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 義男 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目１番１号 三菱重工業株式会社高砂研究所内 (72)発明者 長島 是 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町１丁目１番 １号 三菱重工業株式会社神戸造船所内 (72)発明者 赤羽 崇 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町１丁目１番 １号 三菱重工業株式会社神戸造船所内 (72)発明者 久利 修平 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町１丁目１番 １号 三菱重工業株式会社神戸造船所内 (72)発明者 木寺 卓也 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町１丁目１番 １号 三菱重工業株式会社神戸造船所内 (56)参考文献 特開 昭63−282701（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−196523（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−189801（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−199082（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】ミラー基材上に、レーザビームを反射する
高反射率金属コーティング層が形成されているレーザ用
反射ミラーにおいて、前記高反射率金属コーティング層
の表面上に少なくも１層の誘電体コーティング層を設け
たことを特徴とするレーザ用反射ミラー。 - 【請求項２】ミラー基材上に、レーザビームを反射する
高反射率金属コーティング層が形成されているレーザ用
反射ミラーにおいて、前記高反射率金属コーティング層
の裏面側に拡散係数の小さなコーティング層を設けると
共に、前記高反射率金属コーティング層の表面上に少な
くも１層の誘電体コーティング層を設けたことを特徴と
するレーザ用反射ミラー。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1204521A JP2659809B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | レーザ用反射ミラー |
| US07/558,238 US5097110A (en) | 1989-08-07 | 1990-07-26 | Reflecting mirror for a laser beam and laser beam welding apparatus, including the same laser beam reflecting mirror |
| EP90114585A EP0418519B1 (en) | 1989-08-07 | 1990-07-30 | Reflecting mirror for a laser beam and laserbeam welding apparatus including the same |
| DE69033313T DE69033313T2 (de) | 1989-08-07 | 1990-07-30 | Reflektierender Spiegel für einen Laserstrahl und ihn verwendender Laserstrahlschweissapparat |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1204521A JP2659809B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | レーザ用反射ミラー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0371990A JPH0371990A (ja) | 1991-03-27 |
| JP2659809B2 true JP2659809B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=16491912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1204521A Expired - Lifetime JP2659809B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | レーザ用反射ミラー |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5097110A (ja) |
| EP (1) | EP0418519B1 (ja) |
| JP (1) | JP2659809B2 (ja) |
| DE (1) | DE69033313T2 (ja) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| FR2671503B1 (fr) * | 1991-01-11 | 1993-07-30 | Framatome Sa | Procede et tete de travail au laser. |
| FR2683473B1 (fr) * | 1991-11-13 | 1994-03-04 | Framatome | Dispositif de travail au laser a l'interieur d'un element tubulaire. |
| JP3214074B2 (ja) * | 1992-07-15 | 2001-10-02 | 石川島播磨重工業株式会社 | レーザ照射用トーチ |
| US5430270A (en) * | 1993-02-17 | 1995-07-04 | Electric Power Research Institute, Inc. | Method and apparatus for repairing damaged tubes |
| US5514849A (en) * | 1993-02-17 | 1996-05-07 | Electric Power Research Institute, Inc. | Rotating apparatus for repairing damaged tubes |
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| US5371767A (en) * | 1994-02-01 | 1994-12-06 | Westinghouse Electric Corporation | System and method for laser welding an inner surface of a small diameter tubular member |
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| DE10116720A1 (de) * | 2001-04-04 | 2002-10-10 | Bayerische Motoren Werke Ag | Gerät zur Laser-Pulverbeschichtung |
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| US7253575B2 (en) * | 2004-11-08 | 2007-08-07 | Sutter Instrument Company | Industrial optical shutter |
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| DE102010027638B4 (de) * | 2010-07-19 | 2012-04-12 | Christoph Deininger | Vorrichtung zum Bearbeiten von Rohren mittels eines Laserstrahls |
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| US10040141B2 (en) | 2013-05-23 | 2018-08-07 | Crc-Evans Pipeline International, Inc. | Laser controlled internal welding machine for a pipeline |
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| US9821415B2 (en) | 2014-03-28 | 2017-11-21 | Crc-Evans Pipeline International, Inc. | Internal pipeline cooler |
| US10589371B2 (en) | 2013-05-23 | 2020-03-17 | Crc-Evans Pipeline International, Inc. | Rotating welding system and methods |
| US11767934B2 (en) | 2013-05-23 | 2023-09-26 | Crc-Evans Pipeline International, Inc. | Internally welded pipes |
| EP3186025A4 (en) | 2014-08-29 | 2018-06-20 | CRC-Evans Pipeline International, Inc. | Method and system for welding |
| EP3209453A1 (de) * | 2014-10-20 | 2017-08-30 | Bystronic Laser AG | Bearbeitungskopf für laserbearbeitungsmaschine, sowie laserbearbeitungsmaschine |
| US11458571B2 (en) | 2016-07-01 | 2022-10-04 | Crc-Evans Pipeline International, Inc. | Systems and methods for use in welding pipe segments of a pipeline |
| US11484973B2 (en) * | 2016-11-28 | 2022-11-01 | Raytheon Technologies Corporation | Laser cladding system and method |
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| US2907672A (en) * | 1958-08-25 | 1959-10-06 | Ford Motor Co | Aurous coating on an optical element |
| US3176679A (en) * | 1963-10-09 | 1965-04-06 | Engelhard Ind Inc | Solar energy collector |
| AT321533B (de) * | 1970-06-13 | 1975-04-10 | Delog Detag Flachglas Ag | Wärmereflektierende, 20 bis 60% des sichtbaren Lichtes durchlassende Fensterscheibe |
| DE2353203C3 (de) * | 1973-10-24 | 1979-01-11 | Messerschmitt-Boelkow-Blohm Gmbh, 8000 Muenchen | Verfahren zur Herstellung von Auskoppelspiegel für Hochleistungslaser |
| US4822120A (en) * | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| JPS5546706A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-02 | Canon Inc | Phase difference reflecting mirror |
| DE3107612A1 (de) * | 1981-02-27 | 1982-09-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Laserspiegel, insbesondere laser-polygonspiegel |
| FR2605748B1 (fr) * | 1986-10-28 | 1989-04-28 | Comp Generale Electricite | Miroir multidielectrique notamment pour l'infrarouge moyen notamment pour laser a dioxyde de carbone |
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| EP0300458B1 (en) * | 1987-07-21 | 1991-12-18 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Laser beam welding method for an inner cicumferential surface of a tube |
| FR2637829A1 (fr) * | 1988-10-14 | 1990-04-20 | Framatome Sa | Procede de dispositif de soudage a distance d'un manchon dans un tube notamment dans un generateur de vapeur de centrale nucleaire |
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1989
- 1989-08-07 JP JP1204521A patent/JP2659809B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-26 US US07/558,238 patent/US5097110A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-30 EP EP90114585A patent/EP0418519B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-30 DE DE69033313T patent/DE69033313T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| US5097110A (en) | 1992-03-17 |
| JPH0371990A (ja) | 1991-03-27 |
| DE69033313T2 (de) | 2000-04-13 |
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| DE69033313D1 (de) | 1999-11-11 |
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