JP2655904B2 - 適応制御装置 - Google Patents

適応制御装置

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JP2655904B2
JP2655904B2 JP1027159A JP2715989A JP2655904B2 JP 2655904 B2 JP2655904 B2 JP 2655904B2 JP 1027159 A JP1027159 A JP 1027159A JP 2715989 A JP2715989 A JP 2715989A JP 2655904 B2 JP2655904 B2 JP 2655904B2
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敏勝 藤原
裕和 宮川
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は従来のPID(比例・積分・微分動作)調節器
の制御性能の限界を向上させることができる適応制御装
置に関する。
[従来の技術] 従来の適応制御装置の一例を第2図から第4図に示
す。
ここでは適応制御としてセルフチューニングレキュレ
ータ(以下STRという)を取上げる。
そして、自己回帰移動平均(autoregressive moving
−aveage)を以下ARMAということにする。
従来法は大きく分けて、第3図に示すように、 サンプリング機構1、 ARMAモデル推定機構2、 ARMAモデルの時間シフト機構3および 操作量算出機構4からなる。
そして、その詳細を第4図に示す。
[発明が解決しようとする課題] 従来法ではサンプリング時間(Δt)を出来るだけ大
きくしていた。
すなわち予測時間幅を大きくして、安定で、しかも制
御性能の向上が図れるようにしていた。
しかし、(Δt)を大きくした場合には制御ができな
い状態が永く続くため、外乱に対しての制御性が悪いと
いう問題がある。
本発明はこれらの問題を解決した装置を提供すること
を目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明に係る適応制御装置は、サンプリング機構とAR
MAモデル推定機構とARMAモデルの時間シフト機構と操作
量算出機構を直列に配した適応制御装置において、 (A)前記適応制御装置は、制御偏差(y)を入力する
とともに操作量(u)を入力して、操作量(u)を制御
対象に出力し、 (B)前記サンプリング機構は、制御偏差(y)と操作
量(u)をサンプリング時間(Δt)毎に取込み、 (C)前記ARMAモデル推定機構は、(Δt)のk倍をサ
ンプリング時間としたARMAモデルを作成し、該モデルの
パラメータを逐次形最小2乗法で推定し、 (D)前記操作量算出機構は、(kΔt)時間先の制御
偏差(y)の分数を最小にできる操作量(u)を(Δ
t)時間毎に計算することを特徴とする。
[作用] 本発明に係る適応制御装置は、 適応制御で使用されるARMAモデルのサンプリング時間
(Δt)を、プラントの状態量をサンプリングする時間
間隔(Δt)と区別し、 (ΔT)を(Δt)よりも大きくすることにより、 (1)ARMAモデルでの予測時間幅を大きくすることがで
きる。
(2)また、適応制御の出力は、小さい方のサンプリン
グ時間(Δt)で行うことができる。
[実施例] 本発明の実施例を第1図及び第2図に示す。
第1図は本発明の実施例の機能を示す図、 第2図は適応制御装置の配置を示す図である。
本発明装置100は、第1図に示すように、 サンプリング機構11と、 ARMAモデル推定機構12と、 ARMAモデルの時間シフト機構13と、 操作量算出機構14からなる。
そして、本発明は、 サンプリング機構11および操作量算出機構14で使用して
いるサンプリング時間(Δt)と、 ARMAモデル推定機構12で使用している サンプリング時間(Δt)の関係を Δt=ΔT/k(kは2、3、4・・・のいずれかの値) とし、 Δt=Δtとしない点にポイント(特徴)がある。
第1図及び第2図において、 (a)サンプリング機構11では、 制御偏差(y)と操作量(u)を 下記のサンプリング時間(Δt)毎に取り込む。
但し(Δt)は従来のサンプリング時間に等しい。
Δt=ΔT/k(kは2、3、4・・・) 従って、サンプリング時間(Δt)は、従来のサンプ
リング時間(Δt)よりも小さくなる。
(b)ARMAモデル推定機構12では、 新たなサンプリング時間(ΔT)を前記(Δt)のk倍
とする (Δt=kΔt)。
そして、そのモデルのパラメータを逐次形最小二乗法
等で推定する。
そのときのモデルは、 y(t)+a1y(t−kΔt)+・・・+any(t−nkΔt) =b1u(t−kΔt)+・・・+bnu(t−nkΔt)+e(t) (B1) で、パラメータの推定は(Δt)毎に行う。
(c)ARMAモデルの時間シフト機構13では、 (B1)式の時刻tを(t+kΔt)に置きかえる。その
ときのモデルは、 y(t+kΔt)=−a1y(t)−a2y(t−kΔt) −…−any(t−(n−1)kΔt) +b1u(t)+b2u(t−kΔt)+… +bnu(t−(n−1)kΔt)+e(t+kΔt) (B2) となる。
(d)操作量算出機構14では、 (B2)式で表わされた(kΔt)時点先の分散を最小に
できる操作量uを求める。
そのとき、操作量u(t)は、 u(t)=(1/b1)[a1y(t)+a2y(t−kΔt) +…+any(t−(n−1)kΔt) −b2u(t−kΔt) −…−bnu(t−(n−1)kΔt) (B3) となる。
なお、操作量u(t)は(Δt)毎に計算し、(Δ
t)毎に出力する。
[発明の効果] 本発明装置は前述のように構成されているので、以下
に述べているような効果を奏する。
(1)ARMAモデルのサンプリング時間(Δt)を大きく
するため、予測時間幅が大きくなり、制御の安定性と制
御性能の向上を図ることができる。
(2)ARMAモデルのパラメータを推定するためのサンプ
リング時間(Δt)を小さくするため、サンプリング時
間が大きな場合に比べて制御対象の特性変化に早く追従
することができる。
(3)外乱を短かいサンプリング時間で検出でき、それ
に対する操作量も短かいサンプリング時間毎に出力でき
るため、外乱に対する制御性能の劣化はサンプリング時
間が大の場合に比べて少ない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の機能を示す図、 第2図は適応制御装置の配置を示す図、 第3図は従来装置の構成を示す図、 第4図は従来装置の機能を示す図である。 [符号の説明] 1、11……サンプリング機構、 2、12……ARMAモデル推定機構、 3、13……ARMAモデルの時間シフト機構、 4、14……操作量算出機構。 100……適応制御装置 Δt……プラントの状態量をサンプリングする時間間隔 ΔT……ARMAモデルのサンプリング時間(ΔT=kΔ
t)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】サンプリング機構(11)とARMAモデル推定
    機構(12)とARMAモデルの時間シフト機構(13)と操作
    量算出機構(14)を直列に配した適応制御装置(100)
    において、 (A)前記適応制御装置(100)は、制御偏差(y)を
    入力するとともに操作量(u)を入力して、操作量
    (u)を制御対象に出力し、 (B)前記サンプリング機構(11)は、制御偏差(y)
    と操作量(u)をサンプリング時間(Δt)毎に取込
    み、 (C)前記ARMAモデル推定機構(12)は、(Δt)のk
    倍をサンプリング時間としたARMAモデルを作成し、該モ
    デルのパラメータを逐次形最小2乗法で推定し、 (D)前記操作量算出機構(14)は(kΔt)時間先の
    制御偏差(y)の分散を最小にできる操作量(u)を
    (Δt)時間毎に計算することを特徴とする適応制御装
    置。
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