JP2653083B2 - プラズマｃｖｄ装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子写真感光体等の製造に使用されるプラ
ズマCVD装置に関する。

従来の技術 従来、ケイ素系の感光層を有する電子写真感光体の製
造は、例えば、真空槽内に、回転可能な感光体ドラム保
持部材と、その周りに設けた円筒状又は円弧状電極とを
配設したプラズマCVD装置を用い、真空槽内を高真空に
した後、真空槽内に設けたガス導入口より反応ガスを導
入して、グロー放電分解させることにより、感光体ドラ
ム保持部材上に保持された導電性支持体上に非晶質膜を
形成させることによって行われている。

第３図は従来の容量結合型プラズマCVD装置の一例を
示す。１は真空反応槽であり、その中に、モータ８によ
り回転する円筒状の感光体保持部材２を載置し、一方、
複数のガス噴出孔６を設けた剛性の金属よりなる中空対
向電極３を、感光体保持部材上のドラム状導電性基板19
に対向してそれを取り囲むように設置する。中空対向電
極３はRF電源によって高周波電圧が印加されている。真
空反応槽内部は、高真空排気系10に於いて、バルブ11が
設けられた高真空排気用の排気配管７を通して高真空に
排気され、その後、原料ガスを、ボンベ４から導入管５
により導入し、ガス噴出孔から噴出し、ガス排気系20に
よりガスをガス排気用の排気配管15を通して排気しなが
らグロー放電を起こさせて、導電性基板19上に膜を堆積
形成させる。

発明が解決しようとする課題 上記従来のプラズマCVD装置においては、高真空排気
用の排気配管の途中にバルブが設けられており、成膜時
に通路を遮断するように構成されている。ところが、排
気配管の途中にバルブが設けられている為に、バルブか
ら真空反応槽に至る排気配管の部分Ａがデッドスペース
になり、グロー放電を行なう際に、そのデッドスペース
のために、真空反応室内の反応ガスの流れに滞留部分が
生じ、反応ガスの流れが乱されて均一な膜厚の感光層が
得られなくなるという問題があった。

本発明は、従来の技術における上記のような問題点に
鑑みてなされたものである。

したがって、本発明の目的は、均一な膜厚の感光層を
形成することのできるプラズマCVD装置を提供すること
にある。

課題を解決するための手段 本発明のプラズマCVD装置は、真空反応槽内に、円筒
状又は円弧状電極が配設され、その円筒状又は円弧状電
極の内側に、回転可能な感光体ドラム保持部材が設けら
れており、そして、この真空反応槽壁部には、高真空排
気用の排気配管及びガス排気用の排気配管が接続された
構成を有している。そして本発明における特徴点は、そ
の真空反応槽と高真空排気用の排気配管との接続部分に
ゲートバルブを設けた点にある。

作用 本発明のプラズマCVD装置を用いて電子写真感光層を
形成する際には、まず感光体ドラム保持部材上に導電性
基板を載置し、ゲートバルブを開いて高真空排気用の排
気配管から排気し、真空反応槽内を高真空にした後、ゲ
ートバルブを閉じ、真空槽内に反応ガス、例えばシラン
ガスを導入し、円筒状電極に設けられたガス噴出孔から
噴出させ、同時にガス排気用の排気配管より、このガス
を排気する。円筒状電極と導電性基板との間には、電界
が形成されているため、反応ガスのグロー放電分解が行
われ、導電性基板上に感光膜が形成される。本発明にお
いては、ゲートバルブが真空反応槽と高真空排気用の排
気配管との接続部分に設けられているので、従来のプラ
ズマCVD装置におけるような、デッドスペースがなく、
このため、反応ガスが滞留を起こすということがなく、
反応ガスは真空反応槽内をスムースに流れる。したがっ
て、感光膜は一様な条件で形成されることになる。

実施例 以下、図面によって本発明を説明する。

第１図は、本発明のプラズマCVD装置の一実施例の概
略断面図であり、第２図はその横断面図である。

１は、真空反応槽であり、その内部に、高周波電源９
に接続されたガス噴出孔６を有する中空円筒状電極３が
配設されている。この、中空円筒状電極の筒内には、モ
ータ８によって回転する感光体ドラム保持部材２が設け
られている。この真空反応槽１の壁部には、高真空排気
用の排気配管７がゲートバルブ12を介して接続されてお
り、ディフュージョンポンプ13及びロータリーポンプ14
に接続している。更に真空反応槽１には、成膜中に排気
するためのガス排気系が設けられている。即ち、その壁
部にバルブ16を備えたガス排気用の排気配管15が取り付
けられており、その排気配管はメカニカルブースターポ
ンプ17及びロータリーポンプ18に接続している。

尚、本発明において用いるゲートバルブは公知のもの
であって、シャッター状のゲートが摺動してバルブの開
閉を行なう形式のものならば、どの様なものを使用して
もよい。

上記のプラズマCVD装置を用いて電子写真感光体を製
造するには、感光体ドラム保持部材２上に導電性基板19
を載置する。ゲートバルブ12を開いてディフュージョン
ポンプ13及びロータリーポンプ14を作動させ、排気筒７
から真空反応槽内を、例えば10^-6Torr程度の高真空に排
気する。次いで、ゲートバルブ12を閉じた後、例えばシ
ランガスをガス導入管５によって中空円筒状電極３内に
導入し、ガス噴出孔６より中空円筒状電極３内に噴出さ
せる。感光体ドラム保持部材は、モータ８によって回転
させる。中空円筒状電極３には、高周波電源９によって
所定の電力が供給されているため、円筒状電極と、接地
電圧に維持されている導電性基板との間でグロー放電が
起こり、シランガスを分解して導電性基板上に非晶質ケ
イ素膜が形成する。成膜中は、真空反応槽内を排気す
る。即ち、メカニカルブースターポンプ17及びロータリ
ーポンプ18を作動させ、バルブ16を開いて排気管15より
所定の真空度、例えば1Torr程度に保持する。

本発明の上記プラズマCVD装置においては、ゲートバ
ルブが真空反応槽１と排気配管７との接続部分に設けら
れているので、成膜中、真空反応槽内に反応ガスの滞留
する部分がなくなり、反応ガスは真空反応槽内を滞留を
起こすことなくスムースに流れる。したがって、感光膜
は一様な条件で形成されることになる。尚、通常、ガス
排気用の排気配管15は高真空排気用の排気配管７に比較
して直径が小さいために、反応ガスの流れを乱す程の影
響を与えることはないので、ゲートバルブを設ける必要
はない。むしろ、この排気管との接続部分にゲートバル
ブを設けると、排気ガス中に含まれる反応生成物の粉等
の為にゲートの摺動が困難になる場合が生じる。

発明の効果 本発明のプラズマCVD装置は、上記の様に、真空反応
槽と高真空排気用の排気配管との接続部分にゲートバル
ブを設けてなるから、電子写真感光層を形成する場合、
反応ガスの滞留がないので、ガス流の流れが乱れること
がない。したがって、常に均一な膜厚の電子写真感光層
を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の概略断面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ線の横断面図、第３図は従来のプラズマCVD
装置の構成図である。 １……真空反応槽、２……感光体ドラム保持部材、３…
…中空円筒状電極、４……ボンベ、５……ガス導入管、
６……ガス噴出孔、７……排気配管、８……モータ、９
……高周波電源、10……高真空排気系、11……バルブ、
12……ゲートバルブ、13……ディフュージョンポンプ、
14……ロータリーポンプ、15……排気配管、16……バル
ブ、17……メカニカルブースターポンプ、18……ロータ
リーポンプ、19……導電性基板、20……排気系。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空反応槽内に、円筒状又は円弧状電極を
   配設し、該円筒状又は円弧状電極の内側に、回転可能な
   感光体ドラム保持部材を配設し、該真空反応槽壁部に高
   真空排気用の排気配管及びガス排気用の排気配管を別々
   に接続してなるプラズマCVD装置において、該真空反応
   槽と該高真空排気用の排気配管との接続部分に、ゲート
   バルブを設けてなることを特徴とするプラズマCVD装
   置。