JP2651981B2 - ガス流中に含まれる窒素酸化物の選択的還元方法 - Google Patents
ガス流中に含まれる窒素酸化物の選択的還元方法Info
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Description
素酸化物を選択的還元するための新規な触媒に関する。
特に、この発明は、この触媒を用いてガス流中に存在す
る窒素酸化物をアンモニアで触媒還元するための方法に
関する。
の固定式燃焼ユニットからの廃ガス、硝酸製造からの廃
ガス及び一般の産業廃ガス等の多くのガス状廃棄物は、
多かれ少なかれ窒素酸化物(一酸化窒素NO又は二酸化
窒素NO2 であって良い)を含んでいる。前記の酸化物
は、通常、NOX という用語で呼ばれる。
酸性雨の少なからぬ原因となり、炭化水素と共に環境に
非常に有害な光酸化汚染の原因になる。
X を、大気に排出する前に除去することは重要である。
立法措置は、特に、廃ガスが含有する窒素酸化物(NO
X )を低い、約200vpm (0.02%)を超えないレ
ベルにすることを要求している。
値まで減じるための多くの方法が提案されてきた。
X をアンモニアによって窒素に還元することが出来る触
媒が、FR−A−2,450,784によって推薦され
た。
0.5〜20重量%の触媒含量を有する触媒活性を有す
る相からなる。前記の触媒は、特に、アンモニアの酸素
による酸化による硝酸の合成の間に形成される窒素酸化
廃棄物の還元に対して有効であることが判明した。この
触媒は又、180〜250℃程の比較的低温で使用する
ことが出来、その結果、処理すべきガス流を加熱する必
要がない限りエネルギーの節約をもたらすという利点を
も有する。しかしながら、そのような触媒は、300℃
以上の温度に維持したガス流中に含まれる窒素酸化物の
アンモニアによる触媒的還元に用いたときに、幾つかの
欠点を示した。
0,784に記載されている触媒の存在下でアンモニア
により高温で還元すると亜酸化窒素N2 Oの形成を伴う
ことが見出され、その存在はやはり望ましくないことで
ある。
成層圏のオゾンの破壊機構において重要な役割を演じる
ガスであるという提案が出ている。
るアンモニアの酸化の副反応に起因し得ると考えられ
る: 2NH3 + 2O2 → N2 O + 3H2 O (1) 4NH3 + 4NO + 3O2 → 4N2 O + 6H2 O (2)
汚染が続き、更に又疑似反応(1)によるアンモニアの
消費が続く。
窒素酸化物を300℃以上において(350〜450℃
が有利である)アンモニアで選択的に還元させることが
出来る、即ち、窒素酸化物を含まないガス流を回収する
に至る触媒を提供することである。
物の選択的還元の間の亜酸化窒素の形成を最少にする触
媒を与えることである。
素酸化物NOX の還元が高温で行なわれる場合は、還元
されるNOX 1モル当り1モルのオーダー)に比べてア
ンモニアを過度に消費しない触媒を提供することであ
る。
00℃以上の温度で運転する還元工程においてアンモニ
ア還元するための触媒(これは本発明の主題を構成す
る)を見出した。前記の触媒は、アルミナ、アルミン酸
塩、酸化チタン及び酸化ジルコニウムから選択する少な
くとも1種の無機酸化物の担体並びにバナジウム及び/
又はモリブデン及び/又はタングステンの酸化物から選
択する少なくとも1種の金属酸化物の触媒的に活性な相
を含み、担体は金属元素V及び/又はMo及び/又はW
と化学結合するような表面状態を有し且つV2 O5 及び
/又はMoO3 及び/又はWO3 型の結晶相を有しない
ことを特徴とする。
M(MはV及び/又はMo及び/又はWを表す)が担体
上に結合して存在することである。
ることは希望しないが、担体の金属元素S(SはAl及
び/又はTi及び/又はZrを表す)と金属元素Mとの
間の結合は恐らくS−O−M型であり、これらの酸化物
は専ら担体に結合した四面体構造の表面MO4 単位及び
MO4 及び/又はMO5 単位のオリゴマー(これらのオ
リゴマーは担体に結合している)の形態であり、そして
それらは表面にV2 O5 及び/又はMoO3 及び/又は
WO3 の十分に結晶化した相を構成する金属酸化物相を
含まないと考えられる。
下で触媒の熱分解が起きないような作業条件下でのラマ
ン分光分析法により特性決定することが出来る。
塩、モリブデン酸塩又はタングステン酸塩(重合してい
るか又は他の状態)に特徴的な、850〜980cm-1
及び220〜370cm-1の波数範囲の線が存在し、1
000、700、535及び400cm-1の結晶酸化バ
ナジウム、1000、815、665及び280cm-1
の結晶酸化モリブデン並びに810、715及び270
cm-1の結晶酸化タングステンに特徴的な線が存在しな
いスペクトルを有する。
マンスペクトルに現れる特徴を有する場合には改善され
た触媒性能を示すことを見出した。
アで還元する工程でそのような触媒を用いることから生
じる第1の利点は、亜酸化窒素の形成を最少にしつつ高
温で窒素酸化物を窒素に還元することが出来ることであ
る。
利点は、アンモニアの消費を減らせるということであ
る。
(アルミナ、アルミン酸塩、酸化チタンTiO2 及び/
又はジルコニアとして知られる酸化ジルコニウムZrO
2 にすることが出来る)上に触媒的に活性な相を構成す
る金属酸化物の或る分布から生じる。
(好ましくは、0.08nmを超えない)を有する二価
の遷移金属のアルミン酸塩を意味する。
て、亜鉛、ニッケル、コバルト、マグネシウム及び銅の
アルミン酸塩が挙げられる。
ッケルが好ましい。
又はアルミン酸塩を担体として有する。
直径が1000Åより大きい細孔については、25cm
3 /100gより大きく(特に25〜70cm3 /10
0g)、直径が300Åより大きい細孔については、4
0cm3 /100gより大きく(特に43〜70cm3
/100g)、全細孔容積が80〜120cm3 /10
0gである、アルミナ又はアルミン酸塩に基づく触媒担
体を用いるのが好ましい。
好ましくは、最大で160m2 /g、より一般的には、
90〜150m2 /gである。
及びα結晶型を有する(一般に、γ、θ、δ型が圧倒的
であり、従って、α型は痕跡的状態で存在する)。
型が好ましく用いられる。
/g(好ましくは、10〜100m2 /g)で非常に広
範囲にわたって変化し得る。全細孔容積は、10〜50
cm3 /100g(好ましくは、20〜40cm3 /1
00g)である。
m2 /gの比表面積を有する。全細孔容積は、10〜7
0cm3 /100g(好ましくは、20〜50cm3 /
100g)である。
はタングステンの金属酸化物或はそれらの混合物を、規
定した比率で、V2 O5 及び/又はMoO3 及び/又は
WO3 型の結晶相が形成されないような方法で、担体上
に付着させる(担体の比表面積に対する金属元素の制限
された比率に対応する)。
合に、この特徴を満足し、それ故、上に規定したラマン
スペクトルを有する触媒の生成が、担体1平方ナノメー
ター当りX原子より少ないバナジウム及び/又はY原子
より少ないモリブデン及び/又はタングステンでのアル
ミナ担体の被覆に対応することが挙げられる(X及びY
は、下記の関係により特性決定される: − Xは、9以下である − Yは、6以下である − Xは、(1−Y/6)×9 以下である − Yは、(1−X/9)×6 以下である)。
比表面積に対して表現される。前記の表面積は、“完成
した”触媒の比表面積の測定により求め、触媒担体の含
量に関して表現する。
ウム、モリブデン及び/又はタングステンの酸化物等の
少なくとも1種の金属酸化物からなることが出来る。
量に対して0.01〜50重量%(好ましくは、0.1
〜20重量%)にすることが出来る。
ナジウムV2 O5 又は、一方で酸化バナジウムV2 O5
を他方で酸化モリブデンMoO3 又は酸化タングステン
WO3 を含む混合物からなる触媒的に活性な相からな
る。V2 O5 のMoO3 又はWO3 に対する重量比は、
1〜0.01が好ましい。
を用いて製造することが出来る。
素V及び/又はMo及び/又はWを含む水溶液を用いて
担体を含浸し、次いで、後続の工程において、V及び/
又はMo及び/又はWで被覆した担体を熱処理にかける
方法である。
ーズ、顆粒又は任意の形状の押出物の形態の担体を、焼
成時に金属酸化物を生じるバナジウム及び/又はモリブ
デン及び/又はタングステン化合物の溶液に含浸するこ
とよりなる。
又可能である。
ム、バナジウム錯体(アセチルアセトン酸バナジウム又
はオキシ蓚酸バナジウム等)或はメタバナジウム酸アン
モニウム又はオキシ硫酸バナジウム等の塩にすることが
出来る。
は、二モリブデン酸アンモニウム、七モリブデン酸アン
モニウム、メタタングステン酸アンモニウム又はパラタ
ングステン酸アンモニウム等のアンモニウム塩にするこ
とが出来る。
デン及び/又はタングステンの酸化物の先駆物質である
金属塩を含み得る水溶液である。
によって得られる水溶液は、バナジウム化合物を含む含
浸溶液として用い得る。
に関しては、アンモニウム塩が好ましい。
バナジウム化合物の水溶液をアルミナ又はアルミン酸塩
担体と混合することによって製造し、前記のバナジウム
化合物は、担体1平方ナノメーター当りバナジウム原子
が9を超えないような比率で用いる。
も存在する場合には、それらの比率は、上で与えた式又
は不等式を考慮して規定する。
ことからなる熱処理を行なう。しかしながら、本質的な
ことではないが、乾燥工程の前に行なうことが望まし
い。
00〜150℃のオーダーの温度で、約1〜12時間行
なう。
0℃のオーダー(好ましくは、350〜600℃のオー
ダー)で約1〜6時間行なう焼成作業を行なう。
で焼成作業を行なって良い。
リブデン及び/又はタングステンの酸化物及び/又は塩
との、水及び適宜に酸(例えば、硝酸)又は塩基(例え
ば、アンモニア溶液)の存在下での混練工程によってこ
の発明の触媒を製造することも可能である。
形する(例えば、円筒状又は多小葉形、輪、モノリス
等)。
乾燥し、焼成する。
媒により、ガス流中に存在する窒素酸化物をアンモニア
で還元する方法からなる。
いて用いるために、前記の触媒を、一般に、固定床又は
流動床の形態にて適当な反応器に導入する。
べきガス流は、化学プロセス又は固定式燃焼ユニットか
らの廃ガス流であり、とりわけ下記を含む: − 窒素、 − 酸素(通常、1〜10容積%の含量)、 − 窒素酸化物NOX (通常、0.01〜1容積%の含
量)、 − 硫黄酸化物SOX (通常、0〜1容積%の含量)、 − 水(通常、0.001〜20容積%の含量)。
(好ましくは、300〜550℃)の温度で作動するプ
ロセスにおいて用いるのに完全に適している。処理すべ
きガス流の温度は、350〜450℃が有利である。
は、触媒の温度に依存し、高温である程所与の結果に対
するより大きいHSVを可能にする。
処理すべきガスの体積を表す。それは、標準温度(0
℃)及び標準圧力(1bar )にて規定される。
SVは、2,000〜150,000h-1(好ましく
は、3,000〜100,000h-1)である。
X の所望の減少及び処理した流れの中のアンモニアの許
容排出量に依存する(これらの2つのパラメーターは関
連している)。
元は、通常、所望の転化度及び処理するガスのNOX 含
量によって、1.1より小さいNH3 /NOX モル比
(好ましくは、0.8〜1)を必要とする。
をN2 へ転化させるのに好都合である。
15bar )であって良い。
方法の好適実施態様は、触媒の表面上に存在する触媒金
属元素の量を、方法の運転温度に従って調節することに
ある。
例して減らすことが出来るということが、予想外に、見
出された。
当りX個のバナジウム原子又はY個のモリブデン及び/
又はタングステン原子を有する(処理すべきガス流の温
度の上昇に比例して減らす)。
酸化バナジウムで被覆したアルミナ又はアルミン酸塩に
基づく触媒)との関連において、更に明らかとなる。こ
れらの触媒は、アンモニアにより、実質的にアンモニア
を酸化せず且つ亜酸化窒素を有意に形成しないで、NO
X を300〜550℃で専ら窒素及び水に効率的に分解
することを可能とする。
化物NOX の量の1%を超えない間に形成される亜酸化
窒素の量に対応すると考えられる。
8,000h-1及び入口におけるNO2 /NOX 比0.
5未満について4bar の絶対圧力下で処理する間に、ア
ルミナの平方ナノメーター当りのバナジウム原子の数X
は、温度の上昇に比例して減少し得ることが見出され
た。
好ましくは、9以下である。温度が350℃以下である
ならば、Xは、好ましくは、7以下である。温度が40
0℃以下であるならば、Xは、好ましくは、4.5以下
である。温度が500℃以下であるならば、Xは、好ま
しくは、1以下である。
に水が存在するか又は圧力及び接触時間が異なるなら
ば、Xの異なる値を調節することが出来る。
アルミン酸塩について、平方ナノメーター当りのバナジ
ウム原子の数Xは9以下であり、且つ、温度T(ケルビ
ン)、接触時間tc (秒)(標準温度及び圧力条件と関
連して規定される)、圧力P(bar )及び水のモル濃度
CH2O に依存する値X0 以下であることが指定され、値
X0 は、下記式により規定される:
水のモル数で0〜0.3モル、 tc は、0.1〜1秒 p は、1〜15bar T は、580〜800Kである)。
る硝酸の製造プロセスからの排出物として得られる廃ガ
ス流の処理に特に優れた応用を見出す。
に、ボイラーその他の固定式燃焼ユニットからの廃ガ
ス)の処理にも適している。
はしない。
mmのビーズの形態で用いる: − 比表面積は、152m2 /g − 全細孔容積は、100cm3 /100g − 直径1000Åより大きい細孔については、細孔容
積は、27cm3 /100g − 直径300Åより大きい細孔については、細孔容積
は、46cm3 /100g。
バナジウムを蓚酸溶液(五酸化バナジウムに対して化学
量論的量)に溶かすことによって得た100mlのオキ
シ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
重量%で表して、15重量%の五酸化バナジウム(アル
ミナビーズ中に均質に分布しており、1平方ナノメータ
ー当り7.7バナジウム原子に等しい)を含む。
いる。
ジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た100ml
のオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
重量%で表して、11.5重量%の五酸化バナジウム
(アルミナビーズ中に均質に分布しており、1平方ナノ
メーター当り5.6バナジウム原子に等しい)を含む。
いる。
バナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た100
mlのオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
重量%で表して、10重量%の五酸化バナジウム(アル
ミナビーズ中に均質に分布しており、1平方ナノメータ
ー当り4.8バナジウム原子に等しい)を含む。
いる。
ナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た100m
lのオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
重量%で表して、4重量%の五酸化バナジウム(アルミ
ナビーズ中に均質に分布しており、1平方ナノメーター
当り1.8バナジウム原子に等しい)を含む。
用いる。
バナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た100
mlのオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
化バナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た10
0mlのオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
る重量%で表して、25重量%の五酸化バナジウム(ア
ルミナビーズ中に均質に分布しており、1平方ナノメー
ター当り13.9バナジウム原子に等しい)を含む。
裂葉形の押出物の形態の二酸化チタンを用いる: − 比表面積は、155m2 /g − 全細孔容積は、30cm3 /100g − 直径1000Åより大きい細孔については細孔容積
は、6cm3 /100g − 直径300Åより大きい細孔については細孔容積
は、17cm3 /100g。
ナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た30ml
のオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
ジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た30mlの
オキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
酸化バナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た3
0mlのオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
酸化バナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た3
0mlのオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
gの比表面積を有し且つ担体に対する重量%で表して、
15重量%の五酸化バナジウム(二酸化チタン押出物中
に均質に分布しており、1平方ナノメーター当り17バ
ナジウム原子に等しい)を含む。
を用いる。
ナジウムを蓚酸溶液に溶かすことによって得た30ml
のオキシ蓚酸バナジウムの水溶液を含浸させる。
中で120℃で4時間乾燥してから、空気中で450℃
で4時間焼成する。
の比表面積を有し且つ担体に対する重量%で表して、4
重量%の五酸化バナジウム(二酸化チタン押出物中に均
質に分布しており、1平方ナノメーター当り3.1バナ
ジウム原子に等しい)を含む。
及びF* をラマン分光分析法によって特性表示する。
r HG2S装置を用いて、下記の条件下で記録した: − 励起波長:514.5nm − レーザー電力:300mW − スペクトル範囲:800.0〜1200.0cm-1 − スリット幅:400μm − スペクトルスリット幅:3.49cm-1 − 走査速度:130cm-1/分 − 時定数:6 − 走査数:3。
* のスペクトルにおいては、1000、700、535
及び400cm-1の微結晶性酸化バナジウムに特徴的な
線の存在が認められる。これらの線は、この発明を代表
する触媒A〜D及びGの場合には存在しない。
量を制御したNO、NO2 、NH3 、H2 O及びN2 の
源を有する設備におけるNOX の除去の効率及びN2 O
の形成を測定する。ガス混合物から生じるガス流を、2
5cm3 の容積の触媒を収容し且つ温度調節されたチャ
ンバー中に置かれた反応器に供給し、次いで、化学発光
によりNOX を測定し及びガスクロマトグラフィーによ
りN2 Oを測定する装置に通す。
る:
NOX )/入口NOX×100 (式中、入口NOX =反応器に入るNOX の濃度 出口NOX =反応器から出るNOX の濃度である)。
果を表Iに示す(処理されるガスは、毎時空間速度80
00h-1、4bar 絶対ガス圧を有する): − 0.2容積%のNOX − 出口において10-4容積%未満のNH3 濃度を得る
ように調節した可変量のNH3 (0.195〜0.60
0容積%) − 3容積%のO2 − 残りの窒素。
量を示し、表IIIは、370及び420℃で、触媒
A、B、C、D、E* 、F* 及びGにより形成されたN
2 Oの量を示す。
OX 除去について、比較目的のために製造した触媒と同
程度に優れた性能を有することを示す。
比較目的のための触媒に比べてアンモニアの消費が遥か
に少ないことを示す。
が、比較のために調製した触媒に比べてN2 Oを形成が
遥かに少ないことを示す。
Claims (3)
- 【請求項1】 300℃以上の温度に維持したガス流中
に存在する窒素酸化物のアンモニアによる還元方法であ
って、該ガス流をアルミナ、酸化チタン及び酸化ジルコ
ニウムから選択する少なくとも1種の無機酸化物の担体
並びにバナジウム及び/又はモリブデン及び/又はタン
グステンの酸化物から選択する少なくとも1種の金属酸
化物の触媒的に活性な相を含む触媒であって担体が金属
元素V及び/又はMo及び/又はWと化学結合するよう
な表面状態を有し且つV2O5及び/又はMoO3及び
/又はWO3型の結晶相を有しないことを特徴とする触
媒で処理することを特徴とし、且つ用いる触媒が、平方
ナノメーター当りX個のバナジウム原子又はY個のモリ
ブデン及び/又はタングステン原子を有し、処理すべき
ガス流の温度の上昇に比例してその数を減らすことを特
徴とする、上記の還元方法。 - 【請求項2】 NH 3 /NOxモル比が1.1より小さ
いことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 アルミナについて、平方ナノメーター当
りのバナジウム原子の数Xが9以下であり、且つ、温度
T(ケルビン)、接触時間tc (秒)(標準温度及び
圧カ条件と関連して規定される)、圧力P(bar)及
び水のモル濃度C H2o に依存して値X o 以下であるこ
とを特徴とし、値X o が、下記式により規定される、請
求項1及び2の1つに記載の方法: 【数1】 (前記の式中、 C H2o は、処理されるガス1モル当りの水のモル数で
0〜0.3モル、 t c は、0.1〜1秒 p は、1〜15bar T は、580〜800Kである) 。
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