JP2641904B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP2641904B2
JP2641904B2 JP63148812A JP14881288A JP2641904B2 JP 2641904 B2 JP2641904 B2 JP 2641904B2 JP 63148812 A JP63148812 A JP 63148812A JP 14881288 A JP14881288 A JP 14881288A JP 2641904 B2 JP2641904 B2 JP 2641904B2
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毅 浅川
和良 寺山
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NIPPON DENKI AISHII MAIKON SHISUTEMU KK
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置に関し、特にダイナミック型
のメモリセルと接続するディジット線をプリチャージす
る回路を備えた半導体記憶装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種の半導体記憶装置においては、1メモリ
サイクル中にアクティブ期間とノンアクティブ期間とを
有し、ノンアクティブ期間中にディジット線の電位のバ
ランスとプリチャージを行なう必要がある。このときプ
リチャージのレベルは電源電圧VCCの1/2の電圧より若干
低い電圧に設定される。
従来この種の半導体記憶装置の回路の一例を第4図に
示す。
また、この回路の各部信号の波形を第5図に示す。
次の、この回路の動作について説明する。
まず、アクティブ期間T1中にディジット線4A,4Bは各
々が高レベルと低レベルになっており、かつプリチャー
ジ指令信号φは低レベルである。
ノンアクティブ期間T2に移行するとプリチャージ指令
信号φは高レベルに変化する。
するとプリチャージ制御回路2のN型のトランジスタ
Q21〜Q23が同時に導通状態となりディジット線4A,4B
バランス動作が行なわれディジット線4A,4Bのレベルは
それぞれ(VCC−0)/2となりバランスが完了する。
しかしディジット線4A,4Bの必要な最終レベルは、VCC
/2から0.5V程度低い電圧とする必要があるため、電圧補
正回路6によりその補正を行う。
今、電圧補正回路6のコンデンサC61の容量を記号と
同じC61とし、ディジット線4A,4Bの容量をCDとすると、
これらディジット線4A,4Bの最終レベルVは、これら容
量による分割比で定められた次式のとおりとなる。
このコンデンサC61を補正容量と呼び、この回路方式
を容量補正方式と呼んでいる。
〔発明が解決しようとする課題〕
前述した従来の半導体記憶装置は、容量補正方式によ
りディジット線4A,4Bの電圧を補正する構成となってい
るので、補正用のコンデンサC61の容量が大きくなり、
半導体チップ上でのコンデンサC61の占める面積が大き
くなるためにチップサイズが大きくなるという欠点があ
る。
本発明の目的は、チップサイズを小さくすることがで
きる半導体記憶装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体記憶装置は、第1及び第2のディジッ
ト線とそれぞれ接続する第1及び第2のメモリセルと、
第1及び第2の端子をそれぞれ対応する前記第1及び第
2のディジット線に接続し、プリチャージ指令信号によ
りこれら第1及び第2のディジット線を等電圧とするプ
リチャージ制御回路と、このプリチャージ制御回路の第
3の端子と接地電位端子との間に接続され前記プリチャ
ージ指令信号の前縁から第1の期間経過後第2の期間導
通状態となって前記第1及び第2のディジット線を所定
の電圧とする電圧補正回路とを有している。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図である。
この実施例は、第1及び第2のディジット線4A,4B
それぞれ接続する第1及び第2のメモリセル1A,1Bと、
N型のトランジスタQ21〜Q23を備え、第1及び第2の端
子TM1,TM2をそれぞれ対応する第1及び第2のディジッ
ト線4A,4Bに接続し、プリチャージ指令信号Φにより
これらディジット線4A,4Bを等電圧にするプリチャージ
制御回路2と、遅延回路31A,31B、インバータ32、AND型
のゲート回路33及びN型のトランジスタQ31を備え、プ
リチャージ制御回路2の第3の端子TM3と接地電位端子
との間に接続され、プリチャージ指令信号Φの前縁か
ら第1の期間(t1)経過後、第2の期間(t2)導通状態
となって第1及び第2のディジット線4A,4Bを所定の電
圧(VCC/2−△V)とする電圧補正回路3とを有する構
成となっている。
次に、この実施例の動作について説明する。
第2図はこの実施例の動作を説明するための各部信号
の波形図である。
まず、アクティブ状態(T1)からノンアクティブ状態
(T2)に移行すると、プリチャージ指令信号Φが低レ
ベルから高レベルに変化するため、ディジット線4A,4B
のレベルDT,は(VCC−0)/2に変化する。
次に、プリチャージ指令信号Φは遅延回路31Aによ
って時間t1だけ遅延されてゲート回路33の一方の入力端
に伝達されると共に遅延回路31Bに伝達され、この遅延
回路31Bとインバータ32を介してゲート回路3の他方の
入力端に伝達される。
この結果、ゲート回路33の出力端にワンショットパル
スΦが発生し、このワンショットパルスΦによりN
型のトランジスタQ31が期間t2だけ導通状態となりディ
ジット線4A,4BのレベルDT,を△Vだけ下げて所定の
電圧(VCC/2−△V)とする。
第3図は本発明の第2の実施例の電圧補正回路の回路
図である。
この実施例の電圧補正回路3Aは、ゲート回路33AにNAN
D型回路を、またトランジスタQ32にp型のトランジスタ
を使用したものである。
なお、プリチャージ指令信号Φの前縁から期間t1
過後、期間t2だけ導通状態となる電圧補正回路は、これ
ら実施例とは別の回路構成で、しかも大容量の容量素子
を含むことなく形成することができる。
このように、本発明による半導体記憶装置の電圧補正
回路は、大容量の容量素子を含んでいないので、チップ
サイズを小さくすることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、電圧補正回路によりデ
ィジット線と接地電位端子との間を所定の期間導通状態
とする構成とすることにより、従来のような大容量の容
量素子が不要となるので、チップサイズを小さくするこ
とができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図、第2図は
第1図に示された実施例の動作を説明するための各部信
号の波形図、第3図は本発明の第2の実施例の電圧補正
回路の回路図、第4図は従来の半導体記憶装置の一例を
示す回路図、第5図は第4図に示された半導体記憶装置
の動作を説明するための各部信号の波形図である。 1A,1B……メモリセル、2……プリチャージ制御回路、
3,3A……電圧補正回路、4A,4B……ディジット線、5A,5B
……ワード線、6……電圧補正回路、31A,31B……遅延
回路、32……インバータ、33,33A,61……ゲート回路、C
1,C2,C61……コンデンサ、Q1,Q2,Q21〜Q23,Q31,Q32,
Q61,Q62……トランジスタ。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1及び第2のディジット線とそれぞれ接
    続する第1及び第2のメモリセルと、第1及び第2の端
    子をそれぞれ対応する前記第1及び第2のディジット線
    に接続し、プリチャージ指令信号によりこれら第1及び
    第2のディジット線を等電圧とするプリチャージ制御回
    路と、このプリチャージ制御回路の第3の端子と接地電
    位端子との間に接続され前記プリチャージ指令信号の前
    縁から第1の期間経過後第2の期間導通状態となって前
    記第1及び第2のディジット線を所定の電圧とする電圧
    補正回路とを有することを特徴とする半導体記憶装置。
JP63148812A 1988-06-15 1988-06-15 半導体記憶装置 Expired - Lifetime JP2641904B2 (ja)

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JP2507680B2 (ja) * 1990-07-02 1996-06-12 三田工業株式会社 ソ―タ―制御装置
JP2006054017A (ja) * 2004-08-13 2006-02-23 Micron Technology Inc メモリディジット線のキャパシタ支持によるプレチャージ

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