JP2641060B2 - 合波用レーザ光源装置 - Google Patents
合波用レーザ光源装置Info
- Publication number
- JP2641060B2 JP2641060B2 JP63212235A JP21223588A JP2641060B2 JP 2641060 B2 JP2641060 B2 JP 2641060B2 JP 63212235 A JP63212235 A JP 63212235A JP 21223588 A JP21223588 A JP 21223588A JP 2641060 B2 JP2641060 B2 JP 2641060B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- laser
- laser light
- lens
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Lasers (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （発明の分野） 本発明は半導体レーザ等のレーザ光源から発せられる
低出力のレーザビームを合波して高出力のレーザビーム
を得ることを可能にする合波用レーザ光源装置に関し、
特に詳細には組立作業の容易な合波用レーザ光源装置に
関するものである。
低出力のレーザビームを合波して高出力のレーザビーム
を得ることを可能にする合波用レーザ光源装置に関し、
特に詳細には組立作業の容易な合波用レーザ光源装置に
関するものである。
（従来の技術） 周知のように、レーザビームを光偏向器により偏向し
て走査する光走査装置は、例えば各種走査記録装置、走
査読取装置等において広く実用に供されており、このよ
うな光走査装置においては、例えば読取りや記録のスピ
ードアップを図るために複数のレーザビームを合波して
走査光として用いることが検討されている。このレーザ
ビームの合波は、レーザ光源が半導体レーザである場合
等に特に求められる。すなわち半導体レーザは、ガスレ
ーザ等に比べれば小型，安価で消費電力も少なく、また
駆動電流を変えることによって直接変調が可能である
等、数々の長所を有している反面、連続発振させる場合
には現状では出力がたかだか20〜30mwと小さく、したが
って高エネルギーの走査光を必要とする光ビーム走査装
置、例えば感度の低い記録材料（金属膜，アモルファス
膜等のDRAW材料）に記録する走査記録装置等に用いるの
は極めて困難である。
て走査する光走査装置は、例えば各種走査記録装置、走
査読取装置等において広く実用に供されており、このよ
うな光走査装置においては、例えば読取りや記録のスピ
ードアップを図るために複数のレーザビームを合波して
走査光として用いることが検討されている。このレーザ
ビームの合波は、レーザ光源が半導体レーザである場合
等に特に求められる。すなわち半導体レーザは、ガスレ
ーザ等に比べれば小型，安価で消費電力も少なく、また
駆動電流を変えることによって直接変調が可能である
等、数々の長所を有している反面、連続発振させる場合
には現状では出力がたかだか20〜30mwと小さく、したが
って高エネルギーの走査光を必要とする光ビーム走査装
置、例えば感度の低い記録材料（金属膜，アモルファス
膜等のDRAW材料）に記録する走査記録装置等に用いるの
は極めて困難である。
また、ある種の蛍光体に放射線（Ｘ線，α線，β線，
γ線，電子線，紫外線等）を照射すると、この放射線エ
ネルギーの一部が蛍光体中に蓄積され、この蛍光体に可
視光等の励起光を照射すると、蓄積されたエネルギーに
応じて蛍光体が輝尽発光を示すことが知られており、こ
のような蓄積性蛍光体を利用して、人体等の被写体の放
射線画像情報を一旦蓄積性蛍光体からなる層を有する蓄
積性蛍光体シートに記録し、この蓄積性蛍光体シートを
レーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜしめ、
得られた輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を
得、この画像信号に基づき被写体の放射線画像を写真感
光材料等の記録材料、CRT等に可視像として出力させる
放射線画像情報記録再生システムが本出願人により既に
提案されている（特開昭55−12429号，同55−116340
号，同55−163472号，同56−11395号，同56−104645号
など）。このシステムにおいて放射線画像情報が蓄積記
録された蓄積性蛍光体シートを走査して画像情報の読取
りを行なうのに、半導体レーザを用いた光走査装置の使
用が考えられているが、蓄積性蛍光体シートを高速に読
み取るためには、十分に高エネルギーの励起光を該蛍光
体に照射する必要があり、したがって前記半導体レーザ
を用いた光走査装置を、この放射線画像情報記録再生シ
ステムにおいて画像情報読取りのために使用することも
極めて難しい。
γ線，電子線，紫外線等）を照射すると、この放射線エ
ネルギーの一部が蛍光体中に蓄積され、この蛍光体に可
視光等の励起光を照射すると、蓄積されたエネルギーに
応じて蛍光体が輝尽発光を示すことが知られており、こ
のような蓄積性蛍光体を利用して、人体等の被写体の放
射線画像情報を一旦蓄積性蛍光体からなる層を有する蓄
積性蛍光体シートに記録し、この蓄積性蛍光体シートを
レーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜしめ、
得られた輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を
得、この画像信号に基づき被写体の放射線画像を写真感
光材料等の記録材料、CRT等に可視像として出力させる
放射線画像情報記録再生システムが本出願人により既に
提案されている（特開昭55−12429号，同55−116340
号，同55−163472号，同56−11395号，同56−104645号
など）。このシステムにおいて放射線画像情報が蓄積記
録された蓄積性蛍光体シートを走査して画像情報の読取
りを行なうのに、半導体レーザを用いた光走査装置の使
用が考えられているが、蓄積性蛍光体シートを高速に読
み取るためには、十分に高エネルギーの励起光を該蛍光
体に照射する必要があり、したがって前記半導体レーザ
を用いた光走査装置を、この放射線画像情報記録再生シ
ステムにおいて画像情報読取りのために使用することも
極めて難しい。
そこで上記の通り光出力が低い半導体レーザ等から十
分高エネルギーの走査ビームを得るためには複数のレー
ザ光源を使用し、これらのレーザ光源から射出されたレ
ーザビームを１本に合波することが望ましい。
分高エネルギーの走査ビームを得るためには複数のレー
ザ光源を使用し、これらのレーザ光源から射出されたレ
ーザビームを１本に合波することが望ましい。
複数のレーザ光源から発せられたレーザビームを上記
のように１本のレーザビームに合波するためには、通常
各レーザ光源から発せられたレーザビームをそれぞれコ
リメータレンズにより平行ビームにするとともに互いに
近接して平行な光路に導き、これらのレーザビームを集
束レンズにより同一の集束位置に集束させるようになっ
ている。また、本出願人は、上記レーザビームの合波を
効率よく行なうことを可能とする、複数のレーザ光源を
備えた合波用レーザ光源装置を既に提案した（特願昭63
−35836号等）。かかる光源装置は、上記複数のレーザ
光源とともに、レーザ光源から射出される各レーザビー
ムの光路上に配設され、各レーザビームを平行ビームに
するコリメータ光学系と、上記レーザビームの光路上に
配設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光路
に射出させる光路調整素子とが保持部材により一体的に
保持されてなるものであり、このような光源装置を用い
れば、該光源装置から射出させたレーザビームを集束レ
ンズに入射させるだけで、所望の位置において複数のレ
ーザビームを一点に集束させることができる。なお、各
レーザビームに対する前記コリメータ光学系は、それぞ
れ複数のレンズから構成されている。
のように１本のレーザビームに合波するためには、通常
各レーザ光源から発せられたレーザビームをそれぞれコ
リメータレンズにより平行ビームにするとともに互いに
近接して平行な光路に導き、これらのレーザビームを集
束レンズにより同一の集束位置に集束させるようになっ
ている。また、本出願人は、上記レーザビームの合波を
効率よく行なうことを可能とする、複数のレーザ光源を
備えた合波用レーザ光源装置を既に提案した（特願昭63
−35836号等）。かかる光源装置は、上記複数のレーザ
光源とともに、レーザ光源から射出される各レーザビー
ムの光路上に配設され、各レーザビームを平行ビームに
するコリメータ光学系と、上記レーザビームの光路上に
配設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光路
に射出させる光路調整素子とが保持部材により一体的に
保持されてなるものであり、このような光源装置を用い
れば、該光源装置から射出させたレーザビームを集束レ
ンズに入射させるだけで、所望の位置において複数のレ
ーザビームを一点に集束させることができる。なお、各
レーザビームに対する前記コリメータ光学系は、それぞ
れ複数のレンズから構成されている。
（発明が解決しようとする課題） ところで上記光源装置を用いてレーザビームの合波を
精度よく行なうためには、光源装置から射出されるレー
ザビームが互いに平行な所定の光路をとるとともにそれ
ぞれが平行ビームとなるように、光源装置内のコリメー
タ光学系の各レンズをレーザ光源に対して正しく位置調
整する必要がある。しかしながら、光源装置を組立てる
際に上記各レンズをそれぞれ保持部材に対して移動させ
て調整を行なうのは、作業が非常に面倒であり、装置の
組立に要する時間および手間を大幅に増大させてしまう
という不都合がある。またこのように組立時に位置調整
されたレンズは、環境温度が変化した際等に位置ずれが
生じ易く、経時安定性に欠けるという問題がある。
精度よく行なうためには、光源装置から射出されるレー
ザビームが互いに平行な所定の光路をとるとともにそれ
ぞれが平行ビームとなるように、光源装置内のコリメー
タ光学系の各レンズをレーザ光源に対して正しく位置調
整する必要がある。しかしながら、光源装置を組立てる
際に上記各レンズをそれぞれ保持部材に対して移動させ
て調整を行なうのは、作業が非常に面倒であり、装置の
組立に要する時間および手間を大幅に増大させてしまう
という不都合がある。またこのように組立時に位置調整
されたレンズは、環境温度が変化した際等に位置ずれが
生じ易く、経時安定性に欠けるという問題がある。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、
組立てが容易で経時安定性も高い合波用レーザ光源装置
を提供することを目的とするものである。
組立てが容易で経時安定性も高い合波用レーザ光源装置
を提供することを目的とするものである。
（課題を解決するための手段） 本発明の合波用レーザ光源装置は、複数のレーザ光
源、該複数のレーザ光源から射出される各レーザビーム
の光路上に配設された第１のレンズ部と第２のレンズ部
からなるコリメータ光学系、前記レーザビームの光路上
に配設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光
路に射出させる光路調整素子、および前記レーザ光源、
前記コリメータ光学系、前記光路調整素子を一体的に支
持する保持部材からなり、前記各レーザ光源と、該レー
ザ源に対応する前記各第１のレンズ部が互いに位置調整
がなされて一体化されることにより光源ユニットとして
前記保持部材に光軸方向に位置調整がなされて取り付け
られており、前記第２のレンズ部が前記保持部材に前記
光源ユニットに対して該ユニットの光軸と垂直な平面内
において位置調整がなされて取り付けられていることを
特徴とするものである。
源、該複数のレーザ光源から射出される各レーザビーム
の光路上に配設された第１のレンズ部と第２のレンズ部
からなるコリメータ光学系、前記レーザビームの光路上
に配設され、各レーザビームを互いに近接した平行な光
路に射出させる光路調整素子、および前記レーザ光源、
前記コリメータ光学系、前記光路調整素子を一体的に支
持する保持部材からなり、前記各レーザ光源と、該レー
ザ源に対応する前記各第１のレンズ部が互いに位置調整
がなされて一体化されることにより光源ユニットとして
前記保持部材に光軸方向に位置調整がなされて取り付け
られており、前記第２のレンズ部が前記保持部材に前記
光源ユニットに対して該ユニットの光軸と垂直な平面内
において位置調整がなされて取り付けられていることを
特徴とするものである。
（作用） 上記のようにコリメータ光学系を第１のレンズ部と第
２のレンズ部に分け、第１のレンズ部はレーザ光源に対
して予め位置決めして光源ユニットとして一体化すれ
ば、第１のレンズ部については別個に装置を組み立てる
際に位置調整を行なうことなく保持部材内に組み込むこ
とができる。従ってレーザ光源に対する位置調整は光源
ユニットを光軸方向に位置調整するとともに、第２のレ
ンズ部を光軸方向と垂直な面内において位置調整すれば
よく、作業性が大きく向上する。なお、上記のように第
２のレンズ部はその光軸と垂直な面内を移動するものと
なっており、第１のレンズ部（すなわち光源ユニット）
と第２のレンズ部の光軸方向の位置精度が保持手段の形
状のみによっては十分に得られない場合には、光源ユニ
ットを光軸方向に移動して調整すればよい。第２のレン
ズ部を光軸方向にも移動させると該レンズ部を３次元方
向に移動させなくてはならなくなり、移動手段が高価に
なるため好ましくなく、光源ユニットをその光軸方向に
移動させるようにするのが必要がある。
２のレンズ部に分け、第１のレンズ部はレーザ光源に対
して予め位置決めして光源ユニットとして一体化すれ
ば、第１のレンズ部については別個に装置を組み立てる
際に位置調整を行なうことなく保持部材内に組み込むこ
とができる。従ってレーザ光源に対する位置調整は光源
ユニットを光軸方向に位置調整するとともに、第２のレ
ンズ部を光軸方向と垂直な面内において位置調整すれば
よく、作業性が大きく向上する。なお、上記のように第
２のレンズ部はその光軸と垂直な面内を移動するものと
なっており、第１のレンズ部（すなわち光源ユニット）
と第２のレンズ部の光軸方向の位置精度が保持手段の形
状のみによっては十分に得られない場合には、光源ユニ
ットを光軸方向に移動して調整すればよい。第２のレン
ズ部を光軸方向にも移動させると該レンズ部を３次元方
向に移動させなくてはならなくなり、移動手段が高価に
なるため好ましくなく、光源ユニットをその光軸方向に
移動させるようにするのが必要がある。
また、本装置においては、予め光源ユニットに組み込
まれてなる第１のレンズ部については経時的な位置ずれ
が生じにくいので、レーザビームの射出状態の経時安定
性を高めることができる。
まれてなる第１のレンズ部については経時的な位置ずれ
が生じにくいので、レーザビームの射出状態の経時安定
性を高めることができる。
（実 施 例） 以下、図面を参照して本発明の実施例について説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例による合波用レーザ光源装
置の斜視図である。
置の斜視図である。
図示の合波用レーザ光源装置において、保持部材２の
上板2Aには、それぞれ半導体レーザ3A、3B、3C、3D、3
E、3F、3G、3H、3I、3Jと、第１のレンズ部である凸レ
ンズ6A、6B、6C、6D、6E、6F、6G、6H、6I、6Jをそれぞ
れ鏡筒内に保持してなる光源ユニット10A、10B、10C、1
0D、10E、10F、10G、10H、10I、10Jが２列に並んで保持
されており、上板2A内の取付け位置において上記半導体
レーザ3A〜3Jはそのレーザ射出軸が互いに平行になって
いる。また、上記光源ユニット10A〜10Jと対向する上記
上板2Aの底面には、第２のレンズ部である凹レンズ4A、
4B、4C、4D、4E、4F、4G、4H、4I、4Jが固着されてい
る。さらに保持部材２の中央部分である支柱2Bの前後面
には一対のミラー保持板2Eが取り付けられており、この
ミラー保持板2Eには、それぞれ上記凹レンズ4A〜4Jと対
向して反射ミラー５が取り付けられている。なお、上記
光源ユニット10A〜10J、凹レンズ4A〜4J、および反射ミ
ラー５は、それぞれ上記支柱2Bに対して対称となるよう
に配されている。また支持2Bの一側方には第１の側板2C
が、他側には後述する偏光ビームスプリッタや1/2波長
板等を支持する第２の側板2Dが取り付けられており、本
装置における保持部材２は、上記上板2A、支柱2B、第１
および第２の側板2C、2D、ミラー保持板2E、および支柱
2Bの下端面に取り付けられた底板2Fからなっている。な
お、この保持部材２は、線膨張係数の小さいノビナイ
ト、コバール、インバー、セラミック等からなるもので
ある。
上板2Aには、それぞれ半導体レーザ3A、3B、3C、3D、3
E、3F、3G、3H、3I、3Jと、第１のレンズ部である凸レ
ンズ6A、6B、6C、6D、6E、6F、6G、6H、6I、6Jをそれぞ
れ鏡筒内に保持してなる光源ユニット10A、10B、10C、1
0D、10E、10F、10G、10H、10I、10Jが２列に並んで保持
されており、上板2A内の取付け位置において上記半導体
レーザ3A〜3Jはそのレーザ射出軸が互いに平行になって
いる。また、上記光源ユニット10A〜10Jと対向する上記
上板2Aの底面には、第２のレンズ部である凹レンズ4A、
4B、4C、4D、4E、4F、4G、4H、4I、4Jが固着されてい
る。さらに保持部材２の中央部分である支柱2Bの前後面
には一対のミラー保持板2Eが取り付けられており、この
ミラー保持板2Eには、それぞれ上記凹レンズ4A〜4Jと対
向して反射ミラー５が取り付けられている。なお、上記
光源ユニット10A〜10J、凹レンズ4A〜4J、および反射ミ
ラー５は、それぞれ上記支柱2Bに対して対称となるよう
に配されている。また支持2Bの一側方には第１の側板2C
が、他側には後述する偏光ビームスプリッタや1/2波長
板等を支持する第２の側板2Dが取り付けられており、本
装置における保持部材２は、上記上板2A、支柱2B、第１
および第２の側板2C、2D、ミラー保持板2E、および支柱
2Bの下端面に取り付けられた底板2Fからなっている。な
お、この保持部材２は、線膨張係数の小さいノビナイ
ト、コバール、インバー、セラミック等からなるもので
ある。
上記のように光源ユニット10A〜10Jの内部には、各半
導体レーザ3A〜3Jに対向して第１のレンズ部として凸レ
ンズ6A〜6Jが配設されており、（一例として第１図のＸ
−Ｘ線断面図である第２図の半導体レーザ3Aに対向する
凸レンズ6Aを示す）、本装置においては前記凹レンズ4A
〜4Jとこれらの凸レンズ6A〜6Jとによりコリメータ光学
系が構成されている。第２図に示すように半導体レーザ
3Aから発せられたレーザビーム3aはこのコリメータ光学
系を通過することにより、平行ビームとなり、他の半導
体レーザ3B〜3Jから発せられたレーザビーム3b〜3jも同
様にそれぞれの光路上に配設されたコリメータ光学系に
より平行ビームとなる。
導体レーザ3A〜3Jに対向して第１のレンズ部として凸レ
ンズ6A〜6Jが配設されており、（一例として第１図のＸ
−Ｘ線断面図である第２図の半導体レーザ3Aに対向する
凸レンズ6Aを示す）、本装置においては前記凹レンズ4A
〜4Jとこれらの凸レンズ6A〜6Jとによりコリメータ光学
系が構成されている。第２図に示すように半導体レーザ
3Aから発せられたレーザビーム3aはこのコリメータ光学
系を通過することにより、平行ビームとなり、他の半導
体レーザ3B〜3Jから発せられたレーザビーム3b〜3jも同
様にそれぞれの光路上に配設されたコリメータ光学系に
より平行ビームとなる。
平行ビームとなったレーザビーム3a、3c、3e、3g、3i
は、下方にそれぞれ配設された前記反射ミラー５に反射
された後、偏光ビームスプリッタ７に入射する。前記光
源ユニット10A、10C、10E、10G、10I内の半導体レーザ3
A、3C、3E、3G、3Iは、上板2A内においてレーザビーム3
a、3c、3e、3g、3iを同一平面内に射出によるように配
設されており、またこれらのレーザビームの光路上にあ
る各反射ミラー５は、図示のように段差のあるミラー保
持板2Eにより上下方向に徐々にずれて保持されているの
で、レーザビーム3a、3c、3e、3g、3iの反射ミラー５に
よる反射位置は上下方向にのみ少しずつずれ、各反射ミ
ラー５により反射されたレーザビーム3a、3c、3e、3g、
3iは互いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。
また、前記支柱2Bの裏側においては、半導体レーザ3B、
3D、3F、3H、3Jから発せられたレーザビーム3b、3d、3
f、3h、3jが全く同様に、反射ミラー５に反射されて互
いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。また、
支柱2Bを介して対向する位置に配された半導体レーザか
ら発せられたレーザビーム（例えばレーザビーム3aと3
b、レーザビーム3cと3d）の反射ミラー５に反射される
高さは互いに等いくなっており、また、すべての光源ユ
ニット10A〜10Jは、反射ミラー５により反射されたレー
ザビーム3a、3jにおける偏光方向が一様（第１図におい
ては矢印ａ方向）になるように前記上板2Aに固定されて
いる。なお、上記第２の側板2Dにはレーザビーム3a〜3j
が側板上の各素子に入射することを許す開口が形成され
ている。
は、下方にそれぞれ配設された前記反射ミラー５に反射
された後、偏光ビームスプリッタ７に入射する。前記光
源ユニット10A、10C、10E、10G、10I内の半導体レーザ3
A、3C、3E、3G、3Iは、上板2A内においてレーザビーム3
a、3c、3e、3g、3iを同一平面内に射出によるように配
設されており、またこれらのレーザビームの光路上にあ
る各反射ミラー５は、図示のように段差のあるミラー保
持板2Eにより上下方向に徐々にずれて保持されているの
で、レーザビーム3a、3c、3e、3g、3iの反射ミラー５に
よる反射位置は上下方向にのみ少しずつずれ、各反射ミ
ラー５により反射されたレーザビーム3a、3c、3e、3g、
3iは互いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。
また、前記支柱2Bの裏側においては、半導体レーザ3B、
3D、3F、3H、3Jから発せられたレーザビーム3b、3d、3
f、3h、3jが全く同様に、反射ミラー５に反射されて互
いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。また、
支柱2Bを介して対向する位置に配された半導体レーザか
ら発せられたレーザビーム（例えばレーザビーム3aと3
b、レーザビーム3cと3d）の反射ミラー５に反射される
高さは互いに等いくなっており、また、すべての光源ユ
ニット10A〜10Jは、反射ミラー５により反射されたレー
ザビーム3a、3jにおける偏光方向が一様（第１図におい
ては矢印ａ方向）になるように前記上板2Aに固定されて
いる。なお、上記第２の側板2Dにはレーザビーム3a〜3j
が側板上の各素子に入射することを許す開口が形成され
ている。
前記偏光ビームスプリッタ７は、矢印ａ方向に偏光す
る光を反射する特性を有するものであり、レーザビーム
3a、3c、3e、3g、3iはこの偏光ビームスプリッタにより
反射される。一方、レーザビーム3b、3d、3f、3h、3jは
ミラー８により反射されて光路を約90゜変更した後、1/
2波長板９を通過することにより偏光方向を90゜変化せ
しめられ、矢印ｂ方向に偏光する光となる。前記偏光ビ
ームスプリッタ７は矢印ｂ方向に偏光する光に対しては
これを透過させるものであり、従ってレーザビーム3b、
3d、3f、3h、3jは偏光ビームスプリッタ７を通過して、
レーザビーム3bはレーザビーム3aと、レーザビーム3dは
レーザビーム3cと、レーザビーム3fはレーザビーム3e
と、レーザビーム3hはレーザビーム3g、レーザビーム3j
はレーザビーム3iとそれぞれ同一光路に射出される。こ
のように互いに近接して平行な光路に射出された10本の
レーザビーム3a〜3jのビーム断面は第３図に示すように
なる。
る光を反射する特性を有するものであり、レーザビーム
3a、3c、3e、3g、3iはこの偏光ビームスプリッタにより
反射される。一方、レーザビーム3b、3d、3f、3h、3jは
ミラー８により反射されて光路を約90゜変更した後、1/
2波長板９を通過することにより偏光方向を90゜変化せ
しめられ、矢印ｂ方向に偏光する光となる。前記偏光ビ
ームスプリッタ７は矢印ｂ方向に偏光する光に対しては
これを透過させるものであり、従ってレーザビーム3b、
3d、3f、3h、3jは偏光ビームスプリッタ７を通過して、
レーザビーム3bはレーザビーム3aと、レーザビーム3dは
レーザビーム3cと、レーザビーム3fはレーザビーム3e
と、レーザビーム3hはレーザビーム3g、レーザビーム3j
はレーザビーム3iとそれぞれ同一光路に射出される。こ
のように互いに近接して平行な光路に射出された10本の
レーザビーム3a〜3jのビーム断面は第３図に示すように
なる。
ところで、上記光源装置を組み立てる際には、レーザ
ビームを所定の状態に射出させるために上述したコリメ
ータ光学系の各光学素子の位置を正しく決める必要があ
る。コリメータ光学系のうち、第１のレンズ部である前
記凸レンズ6A〜6Jは、半導体レーザ3A〜3Jに対して所定
の位置をとるように調整されて、光源ユニット10A〜10J
として半導体レーザと一体化されており、一方の第２の
レンズ部である凹レンズ4A〜4Jは、その取付時において
光軸に垂直な平面内において２次元的に移動可能となっ
ている（第１図に凹レンズ4Aについてその移動方向を矢
印で示す）。すなわち、光源装置を組み立てる際には、
まず光源ユニット10A〜10Jをそれぞれ保持部材２の上板
2Aに形成された孔部2a（第２図参照）に嵌入させる。続
いて凹レンズ4A〜4Jをそれぞれ上板2Aの底面の、光源ユ
ニット10A〜10Jに対向する位置に配し、上記底面上にお
いて２次元の移動させつつ位置決めを行ない、各凹レン
ズ4A〜4Jがそれぞれ所定の位置に配された後に、該レン
ズの支持枠（第２図に凹レンズ4Aの支持枠4aを示す）と
上板2Aの底面の間に接着剤を注入する等して、凹レンズ
4A〜4Jを上板2Aに固定する。またコリメータ光学系の、
レーザビームの光軸方向に位置調整は、光源ユニット10
A〜10Jの位置を上下方向に移動させることにより行なわ
れる。なお、光源ユニット10A〜10Jと上板2Aの孔部2aの
周面には、光源ユニットの上下動を容易に行なわせるよ
うにネジを切っておいてもよい。また上記のような、凹
レンズ4A〜4Jや光源ユニット10A〜10Jを移動させること
によるレーザビーム3a〜3jの光路および焦点の調整は、
偏光ビームスプリッタ７を通過して合波されたレーザビ
ームが図示しない集束レンズを通過した後所定の位置に
集束するか否かを検出することにより行なわれてもよい
が、上記合波されたレーザビームの光路上にハーフミラ
ーを配して該レーザビームの一部をモニター光として取
り出し、このモニター光を集束させてその集束位置およ
び集束スポット径が所定の状態であるか否かを位置セン
サにより検出することによって行なってもよい。
ビームを所定の状態に射出させるために上述したコリメ
ータ光学系の各光学素子の位置を正しく決める必要があ
る。コリメータ光学系のうち、第１のレンズ部である前
記凸レンズ6A〜6Jは、半導体レーザ3A〜3Jに対して所定
の位置をとるように調整されて、光源ユニット10A〜10J
として半導体レーザと一体化されており、一方の第２の
レンズ部である凹レンズ4A〜4Jは、その取付時において
光軸に垂直な平面内において２次元的に移動可能となっ
ている（第１図に凹レンズ4Aについてその移動方向を矢
印で示す）。すなわち、光源装置を組み立てる際には、
まず光源ユニット10A〜10Jをそれぞれ保持部材２の上板
2Aに形成された孔部2a（第２図参照）に嵌入させる。続
いて凹レンズ4A〜4Jをそれぞれ上板2Aの底面の、光源ユ
ニット10A〜10Jに対向する位置に配し、上記底面上にお
いて２次元の移動させつつ位置決めを行ない、各凹レン
ズ4A〜4Jがそれぞれ所定の位置に配された後に、該レン
ズの支持枠（第２図に凹レンズ4Aの支持枠4aを示す）と
上板2Aの底面の間に接着剤を注入する等して、凹レンズ
4A〜4Jを上板2Aに固定する。またコリメータ光学系の、
レーザビームの光軸方向に位置調整は、光源ユニット10
A〜10Jの位置を上下方向に移動させることにより行なわ
れる。なお、光源ユニット10A〜10Jと上板2Aの孔部2aの
周面には、光源ユニットの上下動を容易に行なわせるよ
うにネジを切っておいてもよい。また上記のような、凹
レンズ4A〜4Jや光源ユニット10A〜10Jを移動させること
によるレーザビーム3a〜3jの光路および焦点の調整は、
偏光ビームスプリッタ７を通過して合波されたレーザビ
ームが図示しない集束レンズを通過した後所定の位置に
集束するか否かを検出することにより行なわれてもよい
が、上記合波されたレーザビームの光路上にハーフミラ
ーを配して該レーザビームの一部をモニター光として取
り出し、このモニター光を集束させてその集束位置およ
び集束スポット径が所定の状態であるか否かを位置セン
サにより検出することによって行なってもよい。
このように本実施例の光源装置によれば、第１のレン
ズ部である凸レンズは、予め半導体レーザとともに光源
ユニット内に組み入れられているので、半導体レーザに
対して位置決めを行なう必要がなく、半導体レーザに対
する光学素子の位置調整は第２のレンズ部である凹レン
ズを光軸方向と垂直な面内において動かすことにより行
なうことができる。また第１レンズ部と第２のレンズ部
との光軸方向の調整は、光源ユニットを光軸方向に移動
することによって行うことができる。従って装置組立時
のコリメータ光学系の位置調整を短時間のうちに容易に
行なうことができるようになる。また周囲の温度等環境
が変化しても、第１のレンズ部と半導体レーザとの位置
関係にはほとんど変化が生じないので、レーザビームの
射出状態の安定性を高めることができる。なお、第２の
レンズ部は装置を組み立てる際だけでなく、該レンズ部
の経時的な位置変化等を補正することができるように、
装置組立後も位置を調整可能にしてもよい。同様に光源
ユニットも装置組立後に光軸方向に調整可能にしてもよ
い。また、第１のレンズ部および第２レンズ部は、それ
ぞれ１本のレーザビームの光路について複数のレンズか
らなるものであってもよい。さらに、上記光源装置の各
光学素子を支持する保持手段２の上板2A、支柱2B、側板
2C、2D、ミラー保持板2E、底板2Fは、その一部もしくは
全部を一体成形することが望ましく、一体成形を行なえ
ば、加工、組立てが容易になるとともに、接合部が経時
変化により位置ずれするおそれもなくなるので、装置全
体の合波の精度も高めることができる。
ズ部である凸レンズは、予め半導体レーザとともに光源
ユニット内に組み入れられているので、半導体レーザに
対して位置決めを行なう必要がなく、半導体レーザに対
する光学素子の位置調整は第２のレンズ部である凹レン
ズを光軸方向と垂直な面内において動かすことにより行
なうことができる。また第１レンズ部と第２のレンズ部
との光軸方向の調整は、光源ユニットを光軸方向に移動
することによって行うことができる。従って装置組立時
のコリメータ光学系の位置調整を短時間のうちに容易に
行なうことができるようになる。また周囲の温度等環境
が変化しても、第１のレンズ部と半導体レーザとの位置
関係にはほとんど変化が生じないので、レーザビームの
射出状態の安定性を高めることができる。なお、第２の
レンズ部は装置を組み立てる際だけでなく、該レンズ部
の経時的な位置変化等を補正することができるように、
装置組立後も位置を調整可能にしてもよい。同様に光源
ユニットも装置組立後に光軸方向に調整可能にしてもよ
い。また、第１のレンズ部および第２レンズ部は、それ
ぞれ１本のレーザビームの光路について複数のレンズか
らなるものであってもよい。さらに、上記光源装置の各
光学素子を支持する保持手段２の上板2A、支柱2B、側板
2C、2D、ミラー保持板2E、底板2Fは、その一部もしくは
全部を一体成形することが望ましく、一体成形を行なえ
ば、加工、組立てが容易になるとともに、接合部が経時
変化により位置ずれするおそれもなくなるので、装置全
体の合波の精度も高めることができる。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明の合波用レーザ光源装置
によれば、コリメータ光学系を、光軸方向に位置調整の
なされた光源ユニットとしてレーザ光源と予め一体化さ
れている第１のレンズ部と、レーザ光源に対して光軸方
向と垂直な面内で移動可能な第２のレンズ部とからなる
ようにしたので、コリメータ光学系のすべてのレンズを
レーザ光源に対して位置調整する場合に比べ調整が容易
になるとともに、経時安定性を高めることができる。
によれば、コリメータ光学系を、光軸方向に位置調整の
なされた光源ユニットとしてレーザ光源と予め一体化さ
れている第１のレンズ部と、レーザ光源に対して光軸方
向と垂直な面内で移動可能な第２のレンズ部とからなる
ようにしたので、コリメータ光学系のすべてのレンズを
レーザ光源に対して位置調整する場合に比べ調整が容易
になるとともに、経時安定性を高めることができる。
第１図は本発明の一実施例による合波用レーザ光源装置
の斜視図、 第２図は第１図のＸ−Ｘ線断面図、 第３図は上記光源装置から射出されたレーザビームのビ
ーム断面を示す概略図である。 ２……保持部材 3A、3B、3C、3D、3E、3F、3G、3H、3I、3J……半導体レ
ーザ 3a、3b、3c、3d、3e、3f、3g、3h、3i、3j……レーザビ
ーム 4A、4B、4C、4D、4E、4F、4G、4H、4I、4J……凹レンズ ５……反射ミラー 6A、6B、6C、6D、6E、6F、6G、6H、6I、6J……凸レンズ ７……偏光ビームスプリッタ 10A、10B、10C、10D、10E、10F、10G、10H、10I、10J…
…光源ユニット
の斜視図、 第２図は第１図のＸ−Ｘ線断面図、 第３図は上記光源装置から射出されたレーザビームのビ
ーム断面を示す概略図である。 ２……保持部材 3A、3B、3C、3D、3E、3F、3G、3H、3I、3J……半導体レ
ーザ 3a、3b、3c、3d、3e、3f、3g、3h、3i、3j……レーザビ
ーム 4A、4B、4C、4D、4E、4F、4G、4H、4I、4J……凹レンズ ５……反射ミラー 6A、6B、6C、6D、6E、6F、6G、6H、6I、6J……凸レンズ ７……偏光ビームスプリッタ 10A、10B、10C、10D、10E、10F、10G、10H、10I、10J…
…光源ユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/25 Ｈ０１Ｓ 3/23 Ｓ (72)発明者 岡田 宏一 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−208023（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−224816（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】複数のレーザ光源、該複数のレーザ光源か
ら射出される各レーザビームの光路上に配設された第１
のレンズ部と第２のレンズ部からなるコリメータ光学
系、前記レーザビームの光路上に配設され、各レーザビ
ームを互いに近接した平行な光路に射出させる光路調整
素子、および前記レーザ光源、前記コリメータ光学系、
前記光路調整素子を一体的に支持する保持部材からなり
前記各レーザ光源と、該レーザ光源に対応する前記各第
１のレンズ部が互いに位置調整がなされて一体化される
ことにより光源ユニットとして前記保持部材に光軸方向
に位置調整がなされて取り付けられており、前記第２の
レンズ部が前記保持部材に前記光源ユニットに対して該
ユニットの光軸と垂直な平面内において位置調整がなさ
れて取り付けられている合波用レーザ光源装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63212235A JP2641060B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 合波用レーザ光源装置 |
| US07/401,903 US4986634A (en) | 1988-08-26 | 1989-08-25 | Beam-combining laser beam source device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63212235A JP2641060B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 合波用レーザ光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0261611A JPH0261611A (ja) | 1990-03-01 |
| JP2641060B2 true JP2641060B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=16619201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63212235A Expired - Fee Related JP2641060B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 合波用レーザ光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2641060B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102096291A (zh) * | 2009-12-09 | 2011-06-15 | 精工爱普生株式会社 | 发光装置以及投影仪 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001215443A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Hamamatsu Photonics Kk | 光学装置 |
| CN104868361B (zh) | 2011-10-11 | 2019-07-16 | 深圳光峰科技股份有限公司 | 光源系统与激光光源 |
| KR102174711B1 (ko) * | 2019-10-01 | 2020-11-05 | 임봉환 | 기밀력이 우수한 레이저 가공기 노즐 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59224816A (ja) * | 1983-06-03 | 1984-12-17 | Minolta Camera Co Ltd | 光源装置 |
| JPH0627901B2 (ja) * | 1985-03-11 | 1994-04-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 半導体レ−ザ光源装置 |
-
1988
- 1988-08-26 JP JP63212235A patent/JP2641060B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102096291A (zh) * | 2009-12-09 | 2011-06-15 | 精工爱普生株式会社 | 发光装置以及投影仪 |
| CN102096291B (zh) * | 2009-12-09 | 2012-09-05 | 精工爱普生株式会社 | 发光装置以及投影仪 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0261611A (ja) | 1990-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4986634A (en) | Beam-combining laser beam source device | |
| US4978197A (en) | Beam-combining laser beam source device | |
| BE1007513A3 (nl) | Meetinrichting voor het bepalen van de verplaatsing van een beweegbaar voorwerp. | |
| JPH0363268B2 (ja) | ||
| JPH07225349A (ja) | 焦点位置可変光学系及び光ビーム走査装置 | |
| US4693555A (en) | Device for holding an imaging lens | |
| US4958893A (en) | Semiconductor laser beam source apparatus | |
| JP2641060B2 (ja) | 合波用レーザ光源装置 | |
| JPH0260180A (ja) | 合波用レーザ光源装置 | |
| JP2003337426A (ja) | 露光装置 | |
| CN113514484A (zh) | 适用于x射线成像的全光分幅系统 | |
| JP2631666B2 (ja) | 合波用レーザ光源装置 | |
| JPH0260181A (ja) | 合波用レーザ光源装置 | |
| JP2610261B2 (ja) | 光偏向器ユニット | |
| JP2647091B2 (ja) | レーザビーム走査装置 | |
| JPH01118813A (ja) | 合波用半導体レーザ光源装置 | |
| JP2854781B2 (ja) | 光学機器 | |
| JPS62183411A (ja) | レ−ザ光源装置 | |
| JP2525226B2 (ja) | 映画フィルムの補助トラック用読取りデバイス及び書込みデバイス並びにこれらのデバイスを構成するために映画装置に装着される読取り窓用発光ヘッド | |
| JP2582560B2 (ja) | 放射線画像情報読取再生装置 | |
| JP2001144362A (ja) | 半導体レーザ装置およびその製造方法 | |
| JPS61186914A (ja) | マルチ光源装置 | |
| JPH0446257Y2 (ja) | ||
| JP2514010B2 (ja) | 放射線画像情報記録読取装置 | |
| JPH01125887A (ja) | マルチレーザ光源装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080502 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |