JP2628735B2 - 面発光型半導体レーザ - Google Patents

面発光型半導体レーザ

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JP2628735B2
JP2628735B2 JP1002309A JP230989A JP2628735B2 JP 2628735 B2 JP2628735 B2 JP 2628735B2 JP 1002309 A JP1002309 A JP 1002309A JP 230989 A JP230989 A JP 230989A JP 2628735 B2 JP2628735 B2 JP 2628735B2
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emitting
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emitting semiconductor
surface emitting
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秋彦 粕川
俊彦 牧野
亨 柏
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光技術研究開発株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 『産業上の利用分野』 本発明は基板の垂直方向にレーザ光を出射するための
面発光型半導体レーザに関する。
『従来の技術』 面発光型半導体レーザの一つとして、第2図に示すも
のがある。
かかる面発光型半導体レーザは、第2図を参照して明
らかな通り、基板(n−InP)1上に、クラッド層(n
−GaInAsP)2、活性層(p−GaInAsP)3、クラッド層
(p−InP)4、キャップ層(p−GaInAsP)5がエピタ
キシャル成長により順次形成されおり、かつ、基板1の
下面には、Auからなる反射ミラー6、Au−Snからなるn
側電極7がそれぞれ設けられているとともに、キャップ
層5の上面には、Auからなる反射ミラー8、Au−Znから
なるp側電極9がそれぞれ設けられている。
第2図の面発光型半導体レーザにおいては、活性層3
と反射ミラー6、8とが共振器を形成するようになり、
レーザ発振によるレーザ光は、基板1と垂直な図示の矢
印方向へ出射される。
かかる面発光型半導体レーザは、その共振器長が約10
μmで通常のファブリペロー型半導体レーザの1/30程度
であるから、縦モード間隔も100〜200オングストローム
程度と広く単色性に優れており、しかも、レーザ光の出
射角が数度と狭いので、光ファイバとの結合が容易であ
るとともに、他にも、通常のレーザと異なり、劈開面を
必要としないため、ウエハ単位での検査が可能である利
点も有する。
『発明が解決しようとする課題』 しかし、第2図の面発光型半導体レーザでは、横基本
モードでレーザ発振させるのに、活性層3の幅を数μm
以下にしなければならないので、製造プロセス上の困難
をともない。しかも、活性層3を狭くした場合は、共振
器方向に導波構造がないため回折損失が増大する。
本発明は上述した課題に鑑み、既得の特性の損なうこ
となしに、効率よく横基本モード発振させることのでき
る面発光型半導体レーザを提供しようとするものであ
る。
『課題を解決するための手段』 本発明は所期の目的を達成するために下記の課題解決
手段を特徴とする。
すなわち本発明は、基板と垂直な方向に共振器が形成
され、その基板の垂直方向にレーザ光を出射するための
面発光型半導体レーザにおいて、曲面状の突出部が光出
射面側に形成されており、該曲面状突出部の表面が共振
器の一端面を構成していることを特徴とする。
『実 施 例』 本発明に係る面発光型半導体レーザの実施例につき、
第1図を参照して説明する。
第1図において、基板(n−InP)11上に、クラッド
層(n−GaInAsP)12、活性層(p−GaInAsP)13、クラ
ッド層(p−InP)14、キャップ層(p−GaInAsP)15が
エピタキシャル成長により順次形成されおり、かつ、基
板11の下面には、SiO2、a−Siの誘電対多層膜からなる
反射率反射ミラー16と、Au−Snからなるn側電極17とが
それぞれ設けられているとともに、キャップ層15の上面
には、上記と同じ誘電対多層膜からなる基板11の下面反
射ミラー18と、Au−Znからなるp側電極19とがそれぞれ
設けられている。
上述した構成は、前記第2図のものと同じであり、活
性層13と反射ミラー16、18とが共振器を形成するので、
レーザ発振によるレーザ光は、基板11と垂直な図示の矢
印方向へ出射される。
本発明の面発光型半導体レーザは、かかる構成におい
て、第1図のごとき曲面状の突出部20が光出射面(共振
器端面)側に形成されている。
このような突出部20が、面発光型半導体レーザの光出
射面側に形成されている場合、活性層13の幅を広くする
ことができ、しかも、当該曲面部20は、高次横モードが
発振する条件においても、基本モードに対して殆ど損失
を与えず、高次モードにのみ大きな損失を与えるので、
横基本モードでの発振が可能となる。
その他、上記突出部20は、面発光型半導体レーザとし
て既得の優れた特性を、なんら損うことがない。
第1図に例示した面発光型半導体レーザは、以下のよ
うにしてつくられる。
はじめ、MOCVD法、MBE法、LPE法など、任意の薄膜結
晶成長技術を介して、基板11上に、クラッド層12、活性
層13、クラッド層14、キャップ層15をエピタキシャル成
長させる。
つぎに、フォトリソグラフィ技術、塩素ガスを用いた
ドライエッチング技術を介して、キャップ層15の上面に
直径10μm程度の曲面部20を形成する。
その後、プラズマCVD法を介して、基板11の下面、キ
ャップ層15の上面に、反射ミラー16、18をそれぞれ形成
する。
以下は、基板11の下面、キャップ層15の上面にn側オ
ーミック電極、p側オーミック電極として電極17、19を
それぞれ取りつける。
なお、突出部20は、キャップ層15の上面側に代えて、
基板11の下面側に設けられてもよく、さらには、キャッ
プ層15の上面側と基板11の下面側など、これら両面側に
設けられてもよい。
その他、突出部20は、埋め込み構造を有する面発光型
半導体レーザの光出射面側に、上記いずれかの態様で設
けるのも有効である。
『発明の効果』 以上説明した通り、本発明に係る面発光型半導体レー
ザは、光出射面側に、突出した曲面部が形成されている
から、活性層の幅を広くすることができ、しかも、活性
層の幅が広くても、既得の特性の損なうことなしに、横
基本モード発振させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る面発光型半導体レーザの一実施例
を示した積層構造の断面斜視図、第2図は従来の面発光
型半導体レーザを示した積層構造の断面斜視図である。 1……基板 12……クラッド層 13……活性層 14……クラッド層 15……キャップ層 16……反射ミラー 17……電極 18……反射ミラー 19……電極 20……突出部

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板と垂直な方向に共振器が形成され、そ
    の基板の垂直方向にレーザ光を出射するための面発光型
    半導体レーザにおいて、曲面状の突出部が光出射面側に
    形成されており、該曲面状突出部の表面が共振器の一端
    面を構成していることを特徴とする面発光型半導体レー
    ザ。
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