JP2621870B2 - シリコンウエハー研磨排水処理方法 - Google Patents
シリコンウエハー研磨排水処理方法Info
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Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシリコンの微粉末を含んだシリコン研磨排水
の処理方法に関するものである。
の処理方法に関するものである。
従来、シリコンの微粉末を含んだシリコン研磨排水は
水の再利用を目的として限外濾過膜を利用した処理が汎
用されており（例えば特開昭58−63190号公報）、この
処理施設から出てくる濃縮排水は他の排水（例えば酸系
処理）施設に混合して凝集沈澱法で処理されていた。
水の再利用を目的として限外濾過膜を利用した処理が汎
用されており（例えば特開昭58−63190号公報）、この
処理施設から出てくる濃縮排水は他の排水（例えば酸系
処理）施設に混合して凝集沈澱法で処理されていた。
上述した従来の限外濾過膜で濃縮されたシリコン微粉
末を含んだ排水は、シリコンと水との反応により水素が
発生し、凝集剤によって沈澱させたスラッジをその水素
の泡がスラッジを持ち上げ凝集沈澱作用を妨げてしま
い、良好な排水処理を阻害するという欠点がある。
末を含んだ排水は、シリコンと水との反応により水素が
発生し、凝集剤によって沈澱させたスラッジをその水素
の泡がスラッジを持ち上げ凝集沈澱作用を妨げてしま
い、良好な排水処理を阻害するという欠点がある。
本発明の目的は前記問題点を解消した排水処理方法を
提供することにある。
提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明に係るシリコンウエ
ハー研磨排水処理方法は、シリコンウエハーの研磨によ
り生じたシリコン微粉末を含む排水の処理を行うシリコ
ンウエハー研磨排水処理方法において、 酸系処理により生成された石灰乳を脱水機に導入する工
程と、前記石灰乳が導入された前記脱水機に前記シリコ
ン微粉末を含む排水を導入し脱水する工程とを含む。
ハー研磨排水処理方法は、シリコンウエハーの研磨によ
り生じたシリコン微粉末を含む排水の処理を行うシリコ
ンウエハー研磨排水処理方法において、 酸系処理により生成された石灰乳を脱水機に導入する工
程と、前記石灰乳が導入された前記脱水機に前記シリコ
ン微粉末を含む排水を導入し脱水する工程とを含む。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、本発明はシリコン微粉末を含む第１
の排水系５を他の排水系、例えば酸系処理排水系１から
分離独立させ、さらに排水中の水分を脱水する脱水機４
と、該脱水機４に排水を圧送する圧入ポンプ３と、前記
各排水系1,5を圧入ポンプ３に開閉接続する切欠弁2,6
と、各切欠弁2,6、圧入ポンプ３、脱水機４をそれぞれ
駆動制御する制御部７とを備えている。ここに、酸系処
理とは、石灰乳を生ずるような反応を起こさせて酸系排
水を無害化する処理をいう。
の排水系５を他の排水系、例えば酸系処理排水系１から
分離独立させ、さらに排水中の水分を脱水する脱水機４
と、該脱水機４に排水を圧送する圧入ポンプ３と、前記
各排水系1,5を圧入ポンプ３に開閉接続する切欠弁2,6
と、各切欠弁2,6、圧入ポンプ３、脱水機４をそれぞれ
駆動制御する制御部７とを備えている。ここに、酸系処
理とは、石灰乳を生ずるような反応を起こさせて酸系排
水を無害化する処理をいう。
実施例において、排水系１中の酸系排水処理により生
成された石灰乳1aが切換弁２を開くことにより圧入ポン
プ３に導入され、脱水機４に送り込まれる。しかる時間
が経過した後、次に排水系５中のシリコン微粉末を含ん
だ排水5aを切換弁６を開くことにより圧入ポンプ３を介
して脱水機４に送り込まれ処理される。
成された石灰乳1aが切換弁２を開くことにより圧入ポン
プ３に導入され、脱水機４に送り込まれる。しかる時間
が経過した後、次に排水系５中のシリコン微粉末を含ん
だ排水5aを切換弁６を開くことにより圧入ポンプ３を介
して脱水機４に送り込まれ処理される。
次に一定量シリコン微粉末を含んだ排水5aを処理した
後、再び石灰乳1aを送り込み処理して脱水機４は処理終
了となる。以上のように、工程の最後に石灰乳を送り込
むことにより、圧入ポンプを含む脱水機までの配管が石
灰乳で置換され、配管中の水素発生による圧力上昇等の
危険性を回避することができる。
後、再び石灰乳1aを送り込み処理して脱水機４は処理終
了となる。以上のように、工程の最後に石灰乳を送り込
むことにより、圧入ポンプを含む脱水機までの配管が石
灰乳で置換され、配管中の水素発生による圧力上昇等の
危険性を回避することができる。
以上説明したように本発明は、凝集沈澱を利用しない
ため、沈澱槽での沈澱物の浮き上がりによる排水処理へ
の悪影響を無くすことができる。
ため、沈澱槽での沈澱物の浮き上がりによる排水処理へ
の悪影響を無くすことができる。
また脱水機に送り込む場合、先ず石灰乳を送り込み脱
水機濾布面に数ミリの厚さの石灰乳層を作った後、シリ
コン微粉末を含んだ排水を送り込むため脱水機の濾布に
直接シリコン微粉末が接触することはなく、濾布の目づ
まりを軽減できる。
水機濾布面に数ミリの厚さの石灰乳層を作った後、シリ
コン微粉末を含んだ排水を送り込むため脱水機の濾布に
直接シリコン微粉末が接触することはなく、濾布の目づ
まりを軽減できる。
第１図は本発明のシリコン研磨排水処理システムの系統
図である。 1,5……排水系、1a……石灰乳 2,6……切換弁、３……圧入ポンプ ４……脱水機、5a……シリコン微粉末を含んだ排水 ７……制御部
図である。 1,5……排水系、1a……石灰乳 2,6……切換弁、３……圧入ポンプ ４……脱水機、5a……シリコン微粉末を含んだ排水 ７……制御部
Claims (1)
- 【請求項１】シリコンウエハーの研磨により生じたシリ
コン微粉末を含む排水の処理を行うシリコンウエハー研
磨排水処理方法において、 酸系処理により生成された石灰乳を脱水機に導入する工
程と、前記石灰乳が導入された前記脱水機に前記シリコ
ン微粉末を含む排水を導入し脱水する工程とを含むこと
を特徴とするシリコンウエハー研磨排水処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62177743A JP2621870B2 (ja) | 1987-07-16 | 1987-07-16 | シリコンウエハー研磨排水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62177743A JP2621870B2 (ja) | 1987-07-16 | 1987-07-16 | シリコンウエハー研磨排水処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6422391A JPS6422391A (en) | 1989-01-25 |
| JP2621870B2 true JP2621870B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=16036346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62177743A Expired - Lifetime JP2621870B2 (ja) | 1987-07-16 | 1987-07-16 | シリコンウエハー研磨排水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2621870B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3291487B2 (ja) | 1999-05-27 | 2002-06-10 | 三洋電機株式会社 | 流体の被除去物除去方法 |
| JP3316483B2 (ja) | 1999-05-27 | 2002-08-19 | 三洋電機株式会社 | 流体の被除去物除去装置 |
| EP1055448A3 (en) * | 1999-05-27 | 2001-05-16 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of filtering a fluid |
| DE10056957C1 (de) * | 2000-11-17 | 2002-09-05 | Metallkraft As Kristiansand | Verfahren zum Herstellen nichtoxidischer Keramiken |
-
1987
- 1987-07-16 JP JP62177743A patent/JP2621870B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6422391A (en) | 1989-01-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970128 |