JP2614768B2

JP2614768B2 - 波長検出装置

Info

Publication number: JP2614768B2
Application number: JP1208762A
Authority: JP
Inventors: 理若林; 雅彦小若; 諭樹夫小林
Original assignee: Komatsu Ltd
Current assignee: Komatsu Ltd
Priority date: 1989-08-11
Filing date: 1989-08-11
Publication date: 1997-05-28
Anticipated expiration: 2012-05-28
Also published as: JPH0372228A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明はレーザ等の波長を検出する波長検出装置に
関し、特に半導体装置製造用の縮小投影露光装置の光源
として狭帯域発振エキシマレーザを用いる場合の波長検
出に採用して好適な波長検出装置に関する。

〔従来の技術〕

半導体装置製造用の縮小投影露光装置（以下ステッパ
という）の光源としてエキシマレーザの利用が注目され
ている。これはエキシマレーザの波長が短い（KrFレー
ザの波長は約248.4nm）ことから光露光の限界0.5μｍ以
下に延ばせる可能性があること、同じ解像度なら従来用
いていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比較して焦点深度が
深いこと、レンズの開口数（NA）が小さくてすみ、露光
領域を大きくできること、大きなパワーが得られること
等の多くの優れた利点が期待できるからである。

ところで、エキシマレーザをステッパの光源として用
いる場合には、エキシマレーザの出力レーザ光を狭帯域
化する必要があり、この狭帯域化された出力レーザ光の
波長を高精度に安定化制御する必要がある。

従来、狭帯域発振エキシマレーザ等の出力光の波長線
幅を計測したり、波長を検出したりするためにモニタエ
タロンが用いられている。モニタエタロンは部分反射ミ
ラーを所定の空隙をあけて対向配設したエアギャップエ
タロンを用いて構成されるものでこのエアギャップエタ
ロンの透過波長は次のように表わされる。

ｍλ＝2nd・cosθ ただし、ｍは整数、ｄはエタロンの部分反射ミラー間の
距離、ｎは部分反射ミラー間の屈折率、θはエタロンの
法線と入射光の光軸とのなす角度である。

この式より、n,d,mが一定とすれば、波長が変化する
とθが変化することが解る。モニタエタロンではこの性
質を利用して被検出光の波長を検出している。ところ
で、上述したモニタエタロンにおいて、エアギャップ内
の圧力および周囲温度が変化してしまうと波長が一定で
も上述した角θが変化してしまう。そこでモニタエタロ
ンを用いる場合、エアギャップ内の圧力および周囲温度
を一定に制御して波長検出を行なっていた。

しかし、エアギャップ内の圧力および周囲温度を高精
度に制御することは困難であり、このため充分な高精度
で絶対波長を検出することはできなかった。

そこで、被検出光とともに予め波長がわかっている基
準光をモニタエタロンに入力し、この基準光に対する被
検出光の相対波長を検出することにより被検出光の絶対
波長を検出する装置が提案されている。

かかる装置においては、モニタエタロンの透過光を直
接CCDイメージセンサ等の光検出器の検出面上に入射す
るようにしている。

〔発明が解決しようとする課題〕

このように、従来構成においては、モニタエタロンの
出力を直接光検出器に入射するようにしていたので被検
出光と基準光とを充分な光量で光検出器に入射すること
ができない。光検出器上に干渉縞が発生しない等の不都
合があり、このため高精度で被検出光の絶対波長を検出
することができなかった。

この発明はかかる実情に鑑みてなされたもので、基準
光と被検出光とをそれぞれ充分な光量をもって光検出器
に入射することができるとともに、両光の各干渉縞を高
精度に検出することができる波長検出装置を提供しよう
とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

この発明では、基準光を発生する基準光源と、被検出
レーザ光を発生する被検出レーザ光発生手段と、これら
基準光及び被検出レーザ光が入射されるエタロンと、こ
のエタロンの透過光を集光する集光手段と、該集光手段
によって集光された前記基準光および被検出レーザ光の
干渉縞を検出する光検出手段とを具え、前記光検出手段
の検出出力に基づき被検出光の波長を検出するようにし
た波長検出装置において、前記集光手段に、基準光と被
検出レーザ光の色収差を補正する色収差補正機能を具え
るようにしている。

〔作用〕

エタロンを透過した基準光または被検出レーザ光は色
収差補正機能を有する集光手段によって集光された後、
該集光手段の焦点面上に配設された光検出手段の検出面
上に結像される。

〔実施例〕

以下、この発明を添付図面に示す実施例にしたがって
詳述する。

第１図はこの発明に係わる波長検出装置の一実施例を
示したものである。この実施例では被検出光として狭帯
域発振エキシマレーザ１の出力光Laが用いられ、基準光
源２としてはHe−NeレーザあるいはArレーザ等のレーザ
が用いられている。該基準光源２から発生された基準レ
ーザとエキシマレーザ光の波長は異なる。

狭帯域発振エキシマレーザ１から出力されたレーザ光
Laの一部はビームスプリッタ３によってサンプリングさ
れ、このサンプリング光はビームスプリッタ４に照射さ
れる。また基準光源２から出力された基準光Lbはビーム
スプリッタ４の他の面に照射される。

ビームスプリッタ４はビームスプリッタ３から出力さ
れたサンプリング光Laの一部を透過させ、また基準光源
２から出力された基準光Lbの一部を反射させ、これによ
り、サンプリング光と基準光とを合成する。このビーム
スプリッタ４によって合成されたサンプリング光と基準
光との合成光は凹レンズ５によってビームを拡げられた
後、エタロン６に照射される。なお、凹レンズ５は、前
記合成光がエタロン６に入射される角度を複数の異なる
角度にするための光学素子として使用されている。

エタロン６は内側の面が部分反射ミラーとされた２枚
の透明板6a,6bから構成され、エタロン６に対する入射
光の角度に対応してそれぞれ透過波長が異なるものであ
る。すなわち、エタロン６は、波長の異なる基準光Laお
よびエキシマレーザ光Laを双方透過させるために反射膜
を２波長コートとしている。

このエタロン６を透過した光は集光レンズ７に入射さ
れる。この集光レンズ７は例えば、色収差補正が施され
た色消しレンズであり、かかる色消し集光レンズ７を経
ることにより色収差が補正される。

光検出器８は集光レンズ７の焦点上に配設されてお
り、これにより集光レンズ７を経た光は、光位置検出器
８に結像され、この光検出器８の検出面上に基準光の波
長に対応した第１の干渉縞および被検出光の波長に対応
した第２の干渉縞を形成する。光検出器８ではこの第１
および第２の干渉縞を検出し、この検出にもとづき基準
光の波長に対する被検出光の波長の相対波長を検出し、
既知の基準光の波長と検出した相対波長にもとづき被検
出光の絶対波長を検出する。

なお、光検出器８として一次元または二次元のイメー
ジセンサ、ダイオードアレイまたはPSD（POSITION SENS
ITIVE DETECTOR）等を用いて構成することができる。

このように、凹レンズ５でビームを拡げた後、該ビー
ムをエタロン６に入射し、エタロン６の透過光を集光レ
ンズ７によって光検出器８上に結像するようにしている
ので、充分な光量の光が光検出器８上に入射されるとと
もに、両光の各干渉縞が良好に形成される。

第２図はこの発明の他の実施例を示したものである。
以下、この第２図を含む他の図面において互いに共通す
る機能を果す部分については説明の便宜上同一の符号は
付する。

この第２図に示す実施例では、前記色消し集光レンズ
７の代わりに凹面ミラーまたは軸外放物面ミラー等の集
光ミラー９を用いるようにしている。すなわち、基準光
Lbおよびエキシマレーザ光Laを凹レンズ５を介してビー
ムを拡げてエタロン６に入射し、エタロン６の透過光を
集光ミラー９で反射し、該反射光を該集光ミラー９の焦
点位置に配置してある光検出器８の検出面上に入射させ
るようにする。集光ミラー９は反射面であるため色収差
は全くなく、これによりエキシマレーザ光Laと基準レー
ザ光Lbとの両干渉縞を同じ位置すなわちミラー９の焦点
位置に配置してある光検出器８上に結像することができ
る。

この第２図に示す実施例においても、凹レンズ５およ
び集光ミラー９によって、先の実施例同様、充分な光量
で干渉縞を高精度に検出することができる。

第３図はこの発明の更に他の実施例を示したものであ
る。

この第３図に示す実施例は、合流型光ファイバ10によ
ってエキシマレーザ光Laと基準レーザ光Lbとを合成させ
るようにしたものである。すなわち、ビームスプリッタ
３でサンプリングされたエキシマレーザ光Laは集光レン
ズ11、光ファイバスリーブ12、光ファイバ13を経て光合
波器14に入射され、また基準光源２から発生された基準
レーザ光Lbは集光レンズ15、光ファイバスリーブ16、光
ファイバ17を経て光合波器14に入射される。光合波器14
は、これら両光La,Lbとを合波し、この合波された光は
光ファイバ18に入射する。そしてスリーブ19を介して拡
った光がモニタエタロン６に入射される。モニタエタロ
ン６を透過した光は色消し集光レンズ７を経て光検出器
８上に結像される。

かかる第３図に示す実施例では、干渉縞の位置は、合
流型光ファイバ10の位置に左右されず、エタロン６、集
光レンズ７および光検出器８の位置関係だけで決定され
るので、先の実施例の利点に加えて光学系の調整作業が
容易になるという利点を持っている。

なお、この第３図に示す実施例では色消し集光レンズ
７を用いて色収差補正を行なうようにしたが、このレン
ズ７の代わりに先の第２図に示した凹面ミラーまたは軸
外放物面ミラー９を用いるようにしてもよい。

第４図は基準光源として面光源であるランプ20を用い
るようにしたこの発明の他の実施例を示すものである。
このランプ20は、例えば波長253.7nmの基準光を発生す
る水銀ランプである。すなわち、ビームスプリッタ３に
よってサンプリングされたエキシマレーザ光Laは凹レン
ズ21によってビームを拡げられた後、ビームスプリッタ
４に入射され、このビームスプリッタ４で水銀ランプ20
からの基準光Lcと合成された後エタロン６に照射され
る。エタロン６を透過した光は、色消し集光レンズ７を
経て光検出器８上に結像される。

この第４図に示す実施例においても、色消し集光レン
ズ７を用いて色収差補正を行なうようにしたが、このレ
ンズ７の代わりに先の第２図に示した凹面ミラーまたは
軸外放物面ミラー９を用いるようにしてもよい。

第５図も基準光源として水銀ランプ20を用いるように
したこの発明の他の実施例を示すものであり、この実施
例ではエキシマレーザ光Laを光ファイバ23を用いてビー
ムスプリッタ４に導くようにしている。すなわち、ビー
ムスプリッタ３でサンプリングされたエキシマレーザ光
は集光レンズ11によってスリーブ22に入射され、その後
光ファイバ23を経て、スリーブ24を介して出射される。
そして、該スリーブ24を経ることにより拡がった光は、
ビームスプリッタ４に入射され、ここで水銀ランプ20か
らの基準光Lcと合成された後、エタロン６に照射され
る。エタロン６を透過した光は、色消し集光レンズ７を
経て光検出器８上に結像される。

この第５図に示す実施例においても、色消し集光レン
ズ７の代わりに先の第２図に示した凹面ミラーまたは軸
外放物面ミラー９を用いるようにしてもよい。

第６図は、この発明のさらに別の実施例を示すもの
で、この実施例では先の第５図の実施例において色消し
集光レンズ７を凹面ミラー、軸外放物面ミラー等の集光
ミラー９に代えるとともに、フィルタ30、シャッタ31,3
2を追加するようにしている。

すなわち、水銀ランプ20からの基準光Lcのうち所定の
波長のみを選択出力するフィルタ30をシャッタ31とビー
ムスプリッタ４の間に設け、該フィルタ30によって所定
の波長の基準光のみをビームスプリッタ４に入射するよ
うにしている。例えば、KrF狭帯域エキシマレーザ（波
長248.4nm）の波長検出器として使用する場合はランプ2
0として水銀ランプを用い、フィルタ16としてエキシマ
レーザの波長に近い波長253.7nmの干渉フィルタをもち
いるようにすればよい。また、シャッタ31,32は基準光
おび被検出光（エキシマレーザ光）を別々に検出するた
めに設けたものであり、基準光を検出するときはフャッ
タ31を開け、シャッタ32を閉じる。また、被検出光を検
出するときは、これとは逆に、シャッタ32を開け、シャ
ッタ31を閉じる。

なお、この例では、フィルタ30をビームスプリッタ４
とシャッタ31との間に配設するようにしているが、該フ
ィルタ30をランプ20とシャッタ31との間に挿入するよう
にしてもよい。さらに、また基準光と被検出光との波長
が近く、フィルタ30を被検出光が透過する場合には、該
フィルタ30をビームスプリッタ４から光検出器８までの
光路中の適宜位置に配設するようにしてもよい。

次に、第６図に示した実施例における基準光および被
検出光の検出動作を第７図〜第９図に示すフローチャー
トを参照して説明する。

第７図は波長検出のメインルーチンを示すものであ
り、まず、基準光検出サブルーチンが実行される（ステ
ップ100）。この基準光検出サブルーチンでは、第８図
に示すように、被検出光側のシャッタ32を閉とするとと
もに基準光側のシャッタ31を開とすることにより、基準
光Lcのみをエタロン６を介して光検出器８上に入射させ
る（ステップ200,210）。そして、光検出器８上に形成
された基準光の干渉縞の半径Rsを検出し、該半径Rsを記
憶させておく（ステップ220）。

この基準光検出サブルーチンが終了すると、タイマー
の計時値Ｔを零にクリアし（ステップ110）、次にこの
計時値Ｔが所定の設定時間Ｋ（例えば数分）より大きい
か否かを調べる（ステップ120）。そして、Ｔ＜Ｋであ
る場合は、被検出光検出サブルーチンが実行される（ス
テップ140）。この被検出光検出サブルーチンにおいて
は、第９図に示すように、基準光側のシャッタ31を閉と
し、被検出光側のシャッタ32を開とすることにより、被
検出光Laのみをエタロン６を介して光検出器８上に入射
させる（ステップ300,310）。そして、光検出器８上に
形成された被検出光の干渉縞の半径Reを検出する（ステ
ップ320）。

この被検出光検出サブルーチンが終了すると、該ルー
チンで求めた半径Reと先の基準光サブルーチンで求めて
記憶しておいた半径Rsとを比較することにより被検出光
の絶対波長を検出する（ステップ150）。これ以降Ｔ＞
Ｋとなるまでステップ140,150の処理が繰り返される。

そして、ステップ120においてＴ＞Ｋとなると、再び
第８図に示した基準光検出サブルーチンを実行し、該ル
ーチンで求めた基準光の干渉縞の半径Rsで先の記憶デー
タRSを更新する。この後、タイマの計時値Ｔが零にクリ
アされた後、被検出光検出サブルーチンが再度実行され
る。

以上の処理が全て自動的に実行される。

すなわち、かかる波長検出処理においては、基準光と
被検出光との波長が近い場合、両者の干渉縞を同時に検
出することは困難となるので、シャッタ31,32によって
両者を別々に検出するようにするとともに、基準光は比
較的に安定しているので、予め設定した比較的長い所定
周期Ｋでその干渉縞を検出するようにし、該基準光検出
時以外のときに被検出光を常時検出するようにしてい
る。すなわち、この場合、基準光の検出周期は被検出光
の検出周期より十分長く設定されてある。

なお、この実施例では、干渉縞の半径を検出するよう
にしているが、干渉縞の直径または位置を検出して被検
出光の絶対波長を求めるようにしてもよい。

ところで、前記第１図〜第６図に示す実施例におい
て、基準光および被検出光の光量が少なく干渉縞の検出
が困難な場合にはエタロン６の手前にコリメータレンズ
を配置し、平行光をエタロンに入射することで光量を多
くするようにしてもよい。

さらに、前記第１図〜第６図に示す実施例において
は、ビームスプリッタ４は透過側に被検出光を、反射側
に基準光が入射されるよう配置しているが、これらの関
係を逆にするようにしてもよい。またこのビームスプリ
ッタ４は基準光と検出光の波長が近い場合は部分反射ミ
ラーを、波長の差が大きい場合はダイクロイックミラー
をそれぞれ用いるようにすればよい。

また上記実施例ではエアギャップエタロンを用いて構
成したが、このエアギャップエタロンの代わりにソリッ
ドエタロンを用いても同様に構成することができる。

ところで、上記実施例では集光レンズ７の色収差を補
正したり、あるいは集光ミラー９を用いることによって
基準光と被検出光の結像位置を一致させるようにした
が、集光レンズ７または光検出器８を光軸方向に移動可
能な構成とし、これによって結像位置の違いを吸収する
ようにしてもよい。

また、第１図、第３図、第４図または第５図の実施例
において、基準光と被検出光の波長が近い場合は、色収
差補正なしの集光レンズをエタロン６と光検出器８の間
に挿入するようにしてもよい。

さらに、第１図、第２図または第４図の実施例では、
凹レンズ５、または21でレーザ光Laを拡げてエタロン６
に入射するようにしているが、この凹レンズの代わりに
凸レンズを用い、該凸レンズによって集光した後拡がっ
た光をエタロン６に入射するようにしてもよい。また、
前記第１図、第２図、第４図に示す実施例において、凹
レンズ５の代わりに拡散板を用いてもよい。さらに、Ar
Fエキシマレーザ（193nm）の基準光として水銀ランプの
253.7nmを用い、モニタエタロン６として、193nmと253.
7nmが両方反射する膜を付けたエタロンと、色消しレン
ズ７またはミラー９を用いることによって高精度に狭帯
域ArFエキシマレーザの絶対波長を検出することができ
る。

〔発明の効果〕

以上説明したようにこの発明によれば、エタロンの後
側に色収差補正機能を持つ集光手段を介在させるように
したので、基準光と被検出光の波長が異なってもこれら
の干渉縞の径を正確に測定できるようになり、被検出光
の絶対波長を高精度に検出できるようになる。そして、
本発明の波長検出装置を狭帯域発振エキシマレーザに搭
載することによてエキシマレーザ光の波長を高精度に安
定化することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の波長検出装置を狭帯域エキシマレー
ザの出力レーザ光の波長検出に適用した一実施例を示す
図、第２図は集光ミラーを用いたこの発明の他の実施例
を示す図、第３図は合流型光ファイバを用いたこの発明
の他の実施例を示す図、第４図は基準光としてランプを
用いたこの発明の他の実施例を示す図、第５図はランプ
および光ファイバを用いたこの発明の他の実施例を示す
図、第６図はシャッタおよびフィルタを挿入したこの発
明の他の実施例を示す図、第７図は第６図の構成におい
て波長検出のメインルーチンの一例を示すフローチャー
ト、第８図は基準光検出サブルーチンの一例を示すフロ
ーチャート、第９図は被検出光検出サブルーチンの一例
を示すフローチャートである。１…狭帯域発振エキシマレーザ、２…基準光源（レー
ザ）、3,4…ビームスプリッタ、5,21…凹レンズ、６…
エタロン、７…色消し集光レンズ、８…光検出器、９…
集光ミラー、10…合流型光ファイバ、20…基準光源（ラ
ンプ）、30…フィルタ、31,32…シャッタ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平１−101683（ＪＰ，Ａ) 特開昭64−12236（ＪＰ，Ａ) 特開昭47−41887（ＪＰ，Ａ) 特開平１−250835（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基準光を発生する基準光源と、被検出レー
ザ光を発生する被検出レーザ光発生手段と、これら基準
光及び被検出レーザ光が入射されるエタロンと、このエ
タロンの透過光を集光する集光手段と、該集光手段によ
って集光された前記基準光および被検出レーザ光の干渉
縞を検出する光検出手段とを具え、前記光検出手段の検
出出力に基づき被検出光の波長を検出するようにした波
長検出装置において、前記集光手段に、基準光と被検出レーザ光の色収差を補
正する色収差補正機能を具えるようにしたことを特徴と
する波長検出装置。
【請求項２】前記基準光源はレーザ光を発生するもので
あり、前記基準光源から出力された基準レーザ光および前記被
検出レーザ光発生手段から出力された被検出レーザ光を
合成する光合成手段と、この光合成手段から出力される光のビームを拡げ、該拡
げたビームを前記エタロンに入射するビーム拡散手段
と、を更に備えるようにしたことを特徴とする請求項（１）
記載の波長検出装置。
【請求項３】前記ビーム拡散手段は、凹レンズである請
求項（２）記載の波長検出装置。
【請求項４】前記ビーム拡散手段は、拡散板である請求
項（２）記載の波長検出装置。
【請求項５】前記光合成手段は、ビームスプリッタであ
る請求項（２）記載の波長検出装置。
【請求項６】前記光合成手段は、前記被検出レーザ光発
生手段から発生される被検出レーザ光をその第１入力端
から導入すると共に、前記基準光源から発生される基準
レーザ光をその第２入力端から導入し、これらの光を合
成して出力する合成型光ファイバーであり、前記ビーム拡散手段は、前記合成型光ファイバーの出力
端に設けられた光ファイバースリーブである請求項
（２）記載の波長検出装置。
【請求項７】前記基準光源はランプであり、前記被検出レーザ光発生手段から出力された被検出レー
ザ光のビームを拡げるビーム拡散手段と、このビーム拡散手段の出力光と前記ランプから発生され
る基準光を合成し、その合成光を前記エタロンに入射す
るビームスプリッタと、を更に備えるようにしたことを特徴とする請求項（１）
記載の波長検出装置。
【請求項８】前記ビーム拡散手段は、凹レンズである請
求項（７）記載の波長検出装置。
【請求項９】前記ビーム拡散手段は、拡散板である請求
項（７）記載の波長検出装置。
【請求項１０】前記ビーム拡散手段は、前記被検出レーザ光発生手段から出力された被検出レー
ザ光が導入される光ファイバーと、この光ファイバーの出力端に設けられる光ファイバース
リーブと、を有する請求項（７）記載の波長検出装置。
【請求項１１】前記ランプから発生される基準光のうち
の所定の波長の光のみを選択出力するフィルタを前記ラ
ンプと前記光検出手段との間の光路上に配設するように
した請求項（７）記載の波長検出装置。
【請求項１２】前記集光手段は、前記エタロンを透過し
た光を反射し、該反射光を前記光検出手段に入射する集
光ミラーである請求項（１）記載の波長検出装置。
【請求項１３】前記集光ミラーは凹面ミラーである請求
項（12）記載の波長検出装置。
【請求項１４】前記集光ミラーは軸外放物面ミラーであ
る請求項（12）記載の波長検出装置。
【請求項１５】基準レーザ光を発生する基準光源と、被
検出レーザ光を発生する被検出レーザ光発生手段と、こ
れら基準レーザ光及び被検出レーザ光が入射されるエタ
ロンと、このエタロンの透過光を集光する集光手段と、
該集光手段によって集光された前記基準レーザ光および
被検出レーザ光の干渉縞を検出する光検出手段とを具
え、前記光検出手段の検出出力に基づき被検出光の波長
を検出するようにした波長検出装置において、前記基準光源から出力された基準レーザ光および前記被
検出レーザ光発生手段から出力された被検出レーザ光を
合成する光合成手段と、この光合成手段から出力される光のビームを拡げ、該拡
げたビームを前記エタロンに入射するビーム拡散手段
と、を備えるようにしたことを特徴とする波長検出装置。
【請求項１６】前記ビーム拡散手段は、凹レンズである
ことを特徴とする請求項（15）記載の波長検出装置。
【請求項１７】前記ビーム拡散手段は、拡散板であるこ
とを特徴とする請求項（15）記載の波長検出装置。
【請求項１８】前記光合成手段は、ビームスプリッタで
ある請求項（15）記載の波長検出装置。
【請求項１９】前記光合成手段は、前記被検出レーザ光
発生手段から発生される被検出レーザ光をその第１入力
端から導入すると共に、前記基準光源から発生される基
準レーザ光をその第２入力端から導入し、これらの光を
合成して出力する合成型光ファイバーであり、前記ビーム拡散手段は、前記合成型光ファイバーの出力
端に設けられた光ファイバースリーブである請求項（1
5）記載の波長検出装置。
【請求項２０】基準光を発生するランプと、被検出レー
ザ光を発生する被検出レーザ光発生手段と、これら基準
光及び被検出レーザ光が入射されるエタロンと、このエ
タロンの透過光を集光する集光手段と、該集光手段によ
って集光された前記基準光および被検出レーザ光の干渉
縞を検出する光検出手段とを具え、前記光検出手段の検
出出力に基づき被検出光の波長を検出するようにした波
長検出装置において、前記被検出レーザ光発生手段から出力された被検出レー
ザ光のビームを拡げるビーム拡散手段と、このビーム拡散手段の出力光と前記ランプから発生され
る基準光を合成し、その合成光を前記エタロンに入射す
るビームスプリッタと、を備えるようにしたことを特徴とする波長検出装置。
【請求項２１】前記ビーム拡散手段は、凹レンズである
ことを特徴とする請求項（20）記載の波長検出装置。
【請求項２２】前記ビーム拡散手段は、拡散板であるこ
とを特徴とする請求項（20）記載の波長検出装置。
【請求項２３】前記ビーム拡散手段は、前記被検出レーザ光発生手段から出力された被検出レー
ザ光が導入される光ファイバーと、この光ファイバーの出力端に設けられる光ファイバース
リーブと、を有する請求項（20）記載の波長検出装置。
【請求項２４】前記ビームスプリッタはダイクロイック
素子である請求項（５）または請求項（７）または請求
項（18）または請求項（20）記載の波長検出装置。
【請求項２５】基準光を発生する基準光源と、被検出レ
ーザ光を発生する被検出レーザ光発生手段と、これら基
準光及び被検出レーザ光が入射されるエタロンと、この
エタロンの透過光によって形成される前記基準光および
被検出レーザ光の干渉縞を検出する光検出手段とを具
え、前記光検出手段の検出出力に基づき被検出光の波長
を検出するようにした波長検出装置において、前記基準光の干渉縞を第１の検出周期で検出し、その検
出データを記憶する基準光測定記憶手段と、前記被検出レーザ光の干渉縞を前記第１の検出周期より
短い第２の検出周期で検出する被検出レーザ光測定手段
と、前記第２の検出周期で前記被検出レーザ光の干渉縞を測
定する度に、この測定データと前記基準光測定記憶手段
に記憶している最新の記憶データに基づいて被検出レー
ザ光の絶対波長を演算する絶対波長演算手段と、を具えるようにした波長検出装置。
【請求項２６】基準光を発生する基準光源と、被検出レ
ーザ光を発生する被検出レーザ光発生手段と、これら基
準光及び被検出レーザ光が入射されるエタロンと、この
エタロンの透過光を集光する集光手段と、該集光手段に
よって集光された前記基準光および被検出レーザ光の干
渉縞を検出する光検出手段とを具え、前記光検出手段の
検出出力に基づき被検出光の波長を検出するようにした
波長検出装置において、前記集光手段および前記光検出手段の少なくとも一方を
光軸方向に移動させる移動手段を具え、前記移動手段による移動位置の調整により前記干渉縞の
結像位置に前記光検出手段を位置させるようにしたこと
を特徴とする波長検出装置。