JP2609751B2 - ウェーハキャリア洗浄装置 - Google Patents
ウェーハキャリア洗浄装置Info
- Publication number
- JP2609751B2 JP2609751B2 JP26420790A JP26420790A JP2609751B2 JP 2609751 B2 JP2609751 B2 JP 2609751B2 JP 26420790 A JP26420790 A JP 26420790A JP 26420790 A JP26420790 A JP 26420790A JP 2609751 B2 JP2609751 B2 JP 2609751B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer carrier
- cleaning
- cleaning apparatus
- heating
- carrier cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電荷により回路が破壊されないように表面
が導電性をもつウェーハキャリアを洗浄するウェーハキ
ャリア洗浄装置に関する。
が導電性をもつウェーハキャリアを洗浄するウェーハキ
ャリア洗浄装置に関する。
第２図は従来のウェーハキャリア洗浄装置の一例の概
略を示す図である。従来、この種のウェーハキャリア洗
浄装置は、例えば、第２図に示すように、台座６に載置
されたウェーハキャリア４をブラシ２をモータ１で回転
させて付着するごみを吹き取り、純水を吹き出すノズル
３をもつブラシ洗浄部14と、純水をウェーハキャリア４
に噴出するノズル３をもつ水洗部15と、ウェーハキャリ
ア４を付ける洗浄層５及び純水に超音波振動を与える超
音波振動子11とを有する超音波洗浄部16と、ウェーハキ
ャリアを高速回転させ、表面の水分を飛散させて乾燥す
るスピンドライヤ13とで構成されていた。また、ブラシ
洗浄部14と水洗部15と超音波洗浄部16とは一つの基台18
に取付けられ、スピンドライヤー13は、その回転部の面
と基台18の面とほぼ一致するように配置されていた。
略を示す図である。従来、この種のウェーハキャリア洗
浄装置は、例えば、第２図に示すように、台座６に載置
されたウェーハキャリア４をブラシ２をモータ１で回転
させて付着するごみを吹き取り、純水を吹き出すノズル
３をもつブラシ洗浄部14と、純水をウェーハキャリア４
に噴出するノズル３をもつ水洗部15と、ウェーハキャリ
ア４を付ける洗浄層５及び純水に超音波振動を与える超
音波振動子11とを有する超音波洗浄部16と、ウェーハキ
ャリアを高速回転させ、表面の水分を飛散させて乾燥す
るスピンドライヤ13とで構成されていた。また、ブラシ
洗浄部14と水洗部15と超音波洗浄部16とは一つの基台18
に取付けられ、スピンドライヤー13は、その回転部の面
と基台18の面とほぼ一致するように配置されていた。
このウェーハキャリア洗浄装置の動作は、まず、ブラ
シ洗浄部18により、ウェーハキャリアに付着しているご
みをブラシ２で吹き取ると同時にノズル３により純水を
噴出させ、ごみを洗い落す。次に、さらに水洗部15によ
り、ノズル３より純水をウェーハキャリア４に浴びせ、
洗い落しを行う。次に、ウェーハキャリア４を洗浄槽５
に付け、超音波振動を与え、洗い流せなかったごみを洗
い落す。次に、スピンドライア13にウェーハキャリア４
を乗せ、高速回転し、表面の水分を飛散させ、乾燥す
る。
シ洗浄部18により、ウェーハキャリアに付着しているご
みをブラシ２で吹き取ると同時にノズル３により純水を
噴出させ、ごみを洗い落す。次に、さらに水洗部15によ
り、ノズル３より純水をウェーハキャリア４に浴びせ、
洗い落しを行う。次に、ウェーハキャリア４を洗浄槽５
に付け、超音波振動を与え、洗い流せなかったごみを洗
い落す。次に、スピンドライア13にウェーハキャリア４
を乗せ、高速回転し、表面の水分を飛散させ、乾燥す
る。
また、別の従来例のウェーハキャイア洗浄装置では、
スピンドライヤーの代りに、赤外線ランプによる乾燥機
構部を設けた例がある。
スピンドライヤーの代りに、赤外線ランプによる乾燥機
構部を設けた例がある。
しかしながら、上述した従来のウェーハキャリア洗浄
装置では、ウェーハキャリア表面に、界面活性剤がにじ
み出て形成された導電性膜が、ブラシ等の摩擦により、
除去されるという欠点がある。このため、更めて、ウェ
ーハキャリアを加熱して界面活性剤をにじみ出させ、導
電膜を形成する必要がある。また、乾燥機構として赤外
線ランプによるものでは、表面に導電膜を形成するのに
本体の軟化する温度以下で行うため、約80〜120時間と
いう長時間を要する。さらに、この導電膜が完全に形成
されているか否かを検査する機構をもっていないので、
ウェーハキャリア毎に導電度がばらつくという欠点があ
る。
装置では、ウェーハキャリア表面に、界面活性剤がにじ
み出て形成された導電性膜が、ブラシ等の摩擦により、
除去されるという欠点がある。このため、更めて、ウェ
ーハキャリアを加熱して界面活性剤をにじみ出させ、導
電膜を形成する必要がある。また、乾燥機構として赤外
線ランプによるものでは、表面に導電膜を形成するのに
本体の軟化する温度以下で行うため、約80〜120時間と
いう長時間を要する。さらに、この導電膜が完全に形成
されているか否かを検査する機構をもっていないので、
ウェーハキャリア毎に導電度がばらつくという欠点があ
る。
本発明の目的は、かかる欠点を解消し、帯電防止効果
を維持させて、洗浄出来るウェーハキャリア洗浄装置を
提供することである。
を維持させて、洗浄出来るウェーハキャリア洗浄装置を
提供することである。
本発明のウェーハキャリア洗浄装置は、導電性のある
表面をもつウェーハキャリアを洗浄する洗浄機構と、洗
浄後に前記ウェーハキャリアを加熱して乾燥する加熱機
構とを有するウェーハキャリア洗浄装置において、前記
ウェーハキャリアの帯電圧を測定する測定手段を備え、
前記加熱機構の加熱温度及び加熱時間を制御することを
特徴としている。
表面をもつウェーハキャリアを洗浄する洗浄機構と、洗
浄後に前記ウェーハキャリアを加熱して乾燥する加熱機
構とを有するウェーハキャリア洗浄装置において、前記
ウェーハキャリアの帯電圧を測定する測定手段を備え、
前記加熱機構の加熱温度及び加熱時間を制御することを
特徴としている。
次に、本発明において図面を参照して説明する。
第１図は本発明のウェーハキャリア洗浄装置の一実施
例の概略を示す図である。このウェーハキャリア洗浄装
置は、同図に示すように、乾燥機構であるウェーハキャ
リア加熱機構として、赤外線を発生する赤外線ランプ９
と、ウェーハキャリア４の温度を測定する温度センサ８
と、ウェーハキャリア４に帯電電圧を測定する電圧測定
子７と、ウェーハキャリアを収納し、室内のほこりを除
去するフィルタ10を備え、かつ赤外線ランプ９を取付け
るシュラウド10aとを設けたことである。それ以外は、
従来例と同じである。
例の概略を示す図である。このウェーハキャリア洗浄装
置は、同図に示すように、乾燥機構であるウェーハキャ
リア加熱機構として、赤外線を発生する赤外線ランプ９
と、ウェーハキャリア４の温度を測定する温度センサ８
と、ウェーハキャリア４に帯電電圧を測定する電圧測定
子７と、ウェーハキャリアを収納し、室内のほこりを除
去するフィルタ10を備え、かつ赤外線ランプ９を取付け
るシュラウド10aとを設けたことである。それ以外は、
従来例と同じである。
次に、このウェーハキャリア洗浄装置の動作について
説明する。まず、超音波洗浄部16迄は、従来と同様に動
作する。次に、ウェーハキャリア４は、シュラウド10a
内に挿入され、絶縁体である台座６に載置される。次
に、ウェーハキャリア４はフィルター10を通した洗浄な
空気を赤外線ランプ９で加熱し乾燥される。このとき、
ポリプロピレン製のウェーハキャリアの本体が変形しな
い程度の温度，例えば、50〜150℃範囲内に維持される
ように、温度センサ８により温度を測定し、温度・加熱
時間制御部12により赤外線ランプの放射エネルギーを制
御する。また、これと同時にウェーハキャリアに帯電さ
れる電荷の電圧を電圧測定子７（ウェーハキャリアと距
離が20〜30cm離れている）で測定し、ウェーハキャリア
の導電性回復度をチェックする。次に、あらかじめコン
トローラー12にセットされた電圧以下になっていれば乾
燥終了となる。もし、なっていなければ、コントローラ
ー12の指示により再乾燥、電圧測定を繰り返し帯電のし
ないウェーハキャリアを得る。
説明する。まず、超音波洗浄部16迄は、従来と同様に動
作する。次に、ウェーハキャリア４は、シュラウド10a
内に挿入され、絶縁体である台座６に載置される。次
に、ウェーハキャリア４はフィルター10を通した洗浄な
空気を赤外線ランプ９で加熱し乾燥される。このとき、
ポリプロピレン製のウェーハキャリアの本体が変形しな
い程度の温度，例えば、50〜150℃範囲内に維持される
ように、温度センサ８により温度を測定し、温度・加熱
時間制御部12により赤外線ランプの放射エネルギーを制
御する。また、これと同時にウェーハキャリアに帯電さ
れる電荷の電圧を電圧測定子７（ウェーハキャリアと距
離が20〜30cm離れている）で測定し、ウェーハキャリア
の導電性回復度をチェックする。次に、あらかじめコン
トローラー12にセットされた電圧以下になっていれば乾
燥終了となる。もし、なっていなければ、コントローラ
ー12の指示により再乾燥、電圧測定を繰り返し帯電のし
ないウェーハキャリアを得る。
以上説明したように、本発明は、ウェーハキャリア乾
燥の際にウェーハキャリアの帯電電圧をモニターしなが
ら、加熱温度時間をコントロールするので、帯電量のば
らつきを少なく、かつ帯電防止効果を維持して洗浄出来
るウェーハキャリア洗浄装置が得られるという効果があ
る。
燥の際にウェーハキャリアの帯電電圧をモニターしなが
ら、加熱温度時間をコントロールするので、帯電量のば
らつきを少なく、かつ帯電防止効果を維持して洗浄出来
るウェーハキャリア洗浄装置が得られるという効果があ
る。
第１図は、本発明のウェオーハキャリア洗浄装置の一実
施例における概略を示す図、第２図は、従来のウェーハ
キャリア洗浄装置の一例における概略を示す図である。 １……モータ、２……ブラシ、３……ノズル、４……ウ
ェーハキャリア、５……洗浄槽、６……台座、７……電
圧測定子、８……温度センサ、９……赤外線ランプ、10
……フィルタ、10a……シュラウド、11……超音波振動
子、12……温度・加熱時間制御部、13……スピンドライ
ヤー、14……ブラシ洗浄部、15……水洗部、16……超音
波洗浄部、18,18a……基台。
施例における概略を示す図、第２図は、従来のウェーハ
キャリア洗浄装置の一例における概略を示す図である。 １……モータ、２……ブラシ、３……ノズル、４……ウ
ェーハキャリア、５……洗浄槽、６……台座、７……電
圧測定子、８……温度センサ、９……赤外線ランプ、10
……フィルタ、10a……シュラウド、11……超音波振動
子、12……温度・加熱時間制御部、13……スピンドライ
ヤー、14……ブラシ洗浄部、15……水洗部、16……超音
波洗浄部、18,18a……基台。
Claims (1)
- 【請求項１】導電性のある表面をもつウェーハキャリア
を洗浄する洗浄機構と、洗浄後に前記ウェーハキャリア
を加熱して乾燥する加熱機構とを有するウェーハキャリ
ア洗浄装置において、前記ウェーハキャリアの帯電圧を
測定する測定手段を備え、前記加熱機構の加熱温度及び
加熱時間を制御することを特徴とするウェーハキャリア
洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26420790A JP2609751B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | ウェーハキャリア洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26420790A JP2609751B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | ウェーハキャリア洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04142058A JPH04142058A (ja) | 1992-05-15 |
| JP2609751B2 true JP2609751B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=17399977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26420790A Expired - Lifetime JP2609751B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | ウェーハキャリア洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2609751B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101848700B1 (ko) * | 2017-01-11 | 2018-04-16 | 주식회사 위드텍 | 자동 풉 세정장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6878075B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2021-05-26 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
1990
- 1990-10-02 JP JP26420790A patent/JP2609751B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101848700B1 (ko) * | 2017-01-11 | 2018-04-16 | 주식회사 위드텍 | 자동 풉 세정장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04142058A (ja) | 1992-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN110838457B (zh) | 晶圆清洁设备与晶圆清洁方法 | |
| US4941489A (en) | Carrier cleaning and drying apparatus | |
| JPH10113627A (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 | |
| JP2609751B2 (ja) | ウェーハキャリア洗浄装置 | |
| CN215016836U (zh) | 基站设备的基座及基站设备 | |
| JPS5585026A (en) | Cleaning device | |
| CN112239935A (zh) | 一种用洗干一体机对干衣物除褶皱的方法 | |
| US3300869A (en) | Clothes drier structure and control | |
| CN108543765A (zh) | 一种医学护理科用超声波清洗器 | |
| JPH09133613A (ja) | 汚染評価基板の作製方法及びその装置並びに汚染評価方法 | |
| CN216487972U (zh) | 一种具有保护功能的晶圆加工装置 | |
| JPS58215771A (ja) | デイスク洗浄乾燥装置 | |
| CN113046985A (zh) | 衣物清洗方法、滚筒洗衣机 | |
| CN213032908U (zh) | 一种抖粉固色机 | |
| CN216772928U (zh) | 一种电缆绝缘材料加工用的烘洗一体设备 | |
| JP2820275B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| CN211518873U (zh) | 一种纸张印刷机用烘干装置 | |
| CN207929668U (zh) | 一种便携式超声波自动清洗装置 | |
| JPH0331432Y2 (ja) | ||
| JPH08286177A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPH0629879Y2 (ja) | カラーブラウン管用水分振り切り乾燥装置 | |
| JP2017046896A (ja) | 乾燥機及び洗濯機 | |
| JP3033146B2 (ja) | 洗浄後の水切り乾燥方法 | |
| JPH0357800B2 (ja) | ||
| CN111346875A (zh) | 清洗方法及清洗装置 |