JPH04142058A - ウェーハキャリア洗浄装置 - Google Patents
ウェーハキャリア洗浄装置Info
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- JPH04142058A JPH04142058A JP2264207A JP26420790A JPH04142058A JP H04142058 A JPH04142058 A JP H04142058A JP 2264207 A JP2264207 A JP 2264207A JP 26420790 A JP26420790 A JP 26420790A JP H04142058 A JPH04142058 A JP H04142058A
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電荷により回路が破壊されないように表面が
導電性をもつウェーハキャリアを洗浄するウェーハキャ
リア洗浄装置に間する。
導電性をもつウェーハキャリアを洗浄するウェーハキャ
リア洗浄装置に間する。
第2図は従来のウェーハキャリア洗浄装置の一例の概略
を示す図である。従来、この種のウェーハキャリア洗浄
装置は、例えば、第2図に示すように、台座6に載置さ
れたウェーハキャリア4をブラシ2をモータ1で回転さ
せて付着するごみを吹き取り、純水を吹き出すノズル3
をもつブラシ洗浄部14と、純水をウェーハキャリア4
に噴出するノズル3をもつ水洗部15と、ウェーハキャ
リア4を付ける洗浄層5及び純水に超音波振動を与える
超音波振動子11とを有する超音波洗浄部16と、ウェ
ーハキャリアを高速回転させ、表面の水分を飛散させて
乾燥するスピンドライヤ13とで構成されていた。また
、ブラシ洗浄部14と水洗部15と超音波洗浄部16と
は一つの基台18に取付けられ、スピンドライヤー13
は、その回転部の面と基台18の面とほぼ一致するよう
に配置されていた。
を示す図である。従来、この種のウェーハキャリア洗浄
装置は、例えば、第2図に示すように、台座6に載置さ
れたウェーハキャリア4をブラシ2をモータ1で回転さ
せて付着するごみを吹き取り、純水を吹き出すノズル3
をもつブラシ洗浄部14と、純水をウェーハキャリア4
に噴出するノズル3をもつ水洗部15と、ウェーハキャ
リア4を付ける洗浄層5及び純水に超音波振動を与える
超音波振動子11とを有する超音波洗浄部16と、ウェ
ーハキャリアを高速回転させ、表面の水分を飛散させて
乾燥するスピンドライヤ13とで構成されていた。また
、ブラシ洗浄部14と水洗部15と超音波洗浄部16と
は一つの基台18に取付けられ、スピンドライヤー13
は、その回転部の面と基台18の面とほぼ一致するよう
に配置されていた。
このウェーハキャリア洗浄装置の動作は、まず、ブラシ
洗浄部18により、ウェーハキャリアに付着しているご
みをブラシ2で吹き取ると同時にノズル3により純水を
噴出させ、ごみを洗い落す0次に、さらに水洗部15に
より、ノズル3より純水をウェーハキャリア4に浴びせ
、洗い落しを行う。次に、ウェーハキャリア4を洗浄槽
5に付け、超音波振動を与え、洗い流せなかったごみを
洗い落す。次に、スピントライア13にウェーハキャリ
ア4を乗せ、高速回転し、表面の水分を飛散させ、乾燥
する。
洗浄部18により、ウェーハキャリアに付着しているご
みをブラシ2で吹き取ると同時にノズル3により純水を
噴出させ、ごみを洗い落す0次に、さらに水洗部15に
より、ノズル3より純水をウェーハキャリア4に浴びせ
、洗い落しを行う。次に、ウェーハキャリア4を洗浄槽
5に付け、超音波振動を与え、洗い流せなかったごみを
洗い落す。次に、スピントライア13にウェーハキャリ
ア4を乗せ、高速回転し、表面の水分を飛散させ、乾燥
する。
また、別の従来例のウェーハキャリア洗浄装置では、ス
ピンドライヤーの代りに、赤外線ランプによる乾燥機構
部を設けた例がある。
ピンドライヤーの代りに、赤外線ランプによる乾燥機構
部を設けた例がある。
しかしながら、上述した従来のウェーハキャリア洗浄装
置では、ウェーハキャリア表面に、界面活性剤かにじみ
出て形成された導電性膜が、ブラシ等の摩擦により、除
去されるという欠点がある。このため、更めて、ウェー
ハキャリアを加熱して界面活性剤をにじみ出させ、導電
膜を形成する必要がある。また、乾燥機構として赤外線
ランプによるものでは、表面に導電膜を形成するのに本
体の軟化する温度以下で行うなめ、約80〜120時間
という長時間を要する。さらに、この導電膜が完全に形
成されているか否かを検査する機構をもっていないので
、ウェーハキャリア毎に導電度がばらつくという欠点が
ある。
置では、ウェーハキャリア表面に、界面活性剤かにじみ
出て形成された導電性膜が、ブラシ等の摩擦により、除
去されるという欠点がある。このため、更めて、ウェー
ハキャリアを加熱して界面活性剤をにじみ出させ、導電
膜を形成する必要がある。また、乾燥機構として赤外線
ランプによるものでは、表面に導電膜を形成するのに本
体の軟化する温度以下で行うなめ、約80〜120時間
という長時間を要する。さらに、この導電膜が完全に形
成されているか否かを検査する機構をもっていないので
、ウェーハキャリア毎に導電度がばらつくという欠点が
ある。
本発明の目的は、かかる欠点を解消し、帯電防止効果を
維持させて、洗浄出来るウェーハキャリア洗浄装置を提
供することである。
維持させて、洗浄出来るウェーハキャリア洗浄装置を提
供することである。
本発明のウェーハキャリア洗浄装置は、導電性のある表
面をもつウェーハキャリアを洗浄する洗浄機構と、洗浄
後に前記ウェーハキャリアを加熱して乾燥する加熱機構
とを有するウェーハキャリア洗浄装置において、前記ウ
ェーハキャリアの帯電圧を測定する測定手段を備え、前
記加熱機構の加熱温度及び加熱時間を制御することを特
徴としている。
面をもつウェーハキャリアを洗浄する洗浄機構と、洗浄
後に前記ウェーハキャリアを加熱して乾燥する加熱機構
とを有するウェーハキャリア洗浄装置において、前記ウ
ェーハキャリアの帯電圧を測定する測定手段を備え、前
記加熱機構の加熱温度及び加熱時間を制御することを特
徴としている。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明のウェーハキャリア洗浄装置の一実施例
の概略を示す図である。このウェーハキャリア洗浄装置
は、同図に示すように、乾燥機構であるウェーハキャリ
ア加熱機構として、赤外線を発生する赤外線ランプ9と
、ウェーハキャリア4の温度を測定する温度センサ8と
、ウェーハキャリア4に帯電電圧を測定する電圧測定子
7と、ウェーハキャリアを収納し、室内のほこりを除去
するフィルタ10を備え、かつ赤外線ランプ9を取付け
るシュラウド10aとを設けたことである。それ以外は
、従来例と同じである。
の概略を示す図である。このウェーハキャリア洗浄装置
は、同図に示すように、乾燥機構であるウェーハキャリ
ア加熱機構として、赤外線を発生する赤外線ランプ9と
、ウェーハキャリア4の温度を測定する温度センサ8と
、ウェーハキャリア4に帯電電圧を測定する電圧測定子
7と、ウェーハキャリアを収納し、室内のほこりを除去
するフィルタ10を備え、かつ赤外線ランプ9を取付け
るシュラウド10aとを設けたことである。それ以外は
、従来例と同じである。
次に、このウェーハキャリア洗浄装置の動作について説
明する。まず、超音波洗浄部16迄は、従来と同様に動
作する。次に、ウェーハキャリア4は、シュラウド10
a内に挿入され、絶縁体である台座6に載置される。次
に、ウェーハキャリア4はフィルター10を通した清浄
な空気を赤外線ランプ9で加熱し乾燥される。このとき
、ポリプロピレン製のウェーハキャリアの本体が変形し
ない程度の温度1例えば、50〜150’C範囲内に維
持されるように、温度センサ8により温度を測定し、温
度・加熱時間制御部12により赤外線ランプの放射エネ
ルギーを制御する。また、これと同時にウェーハキャリ
アに帯電される電荷の電圧を電圧測定子7(ウェーハキ
ャリアと距離が20〜30cm1iれている)で測定し
、ウェーハキャリアの導電性回復度をチエツクする。次
に、あらかじめコントローラー12にセットされた電圧
以下になっていれば乾燥終了となる。もし、なっていな
ければ、コントローラー12の指示により再乾燥、電圧
測定を繰り返し帯電のしないウェーハキャリアを得る。
明する。まず、超音波洗浄部16迄は、従来と同様に動
作する。次に、ウェーハキャリア4は、シュラウド10
a内に挿入され、絶縁体である台座6に載置される。次
に、ウェーハキャリア4はフィルター10を通した清浄
な空気を赤外線ランプ9で加熱し乾燥される。このとき
、ポリプロピレン製のウェーハキャリアの本体が変形し
ない程度の温度1例えば、50〜150’C範囲内に維
持されるように、温度センサ8により温度を測定し、温
度・加熱時間制御部12により赤外線ランプの放射エネ
ルギーを制御する。また、これと同時にウェーハキャリ
アに帯電される電荷の電圧を電圧測定子7(ウェーハキ
ャリアと距離が20〜30cm1iれている)で測定し
、ウェーハキャリアの導電性回復度をチエツクする。次
に、あらかじめコントローラー12にセットされた電圧
以下になっていれば乾燥終了となる。もし、なっていな
ければ、コントローラー12の指示により再乾燥、電圧
測定を繰り返し帯電のしないウェーハキャリアを得る。
以上説明したように、本発明は、ウェーハキャリア乾燥
の際にウェーハキャリアの帯電電圧をモニターしながら
、加熱温度時間をコントロールするので、帯電量のばら
つきを少なく、かつ帯電防止効果を維持して洗浄出来る
ウェーハキャリア洗浄装置が得られるという効果がある
。
の際にウェーハキャリアの帯電電圧をモニターしながら
、加熱温度時間をコントロールするので、帯電量のばら
つきを少なく、かつ帯電防止効果を維持して洗浄出来る
ウェーハキャリア洗浄装置が得られるという効果がある
。
第1図は、本発明のウェ−ハキャリア洗浄装置の一実施
例における概略を示す図、第2図は、従来のウェーハキ
ャリア洗浄装置の一例における概略を示す図である。 1・・・モータ、2・・・ブラシ、3・・・ノズル、4
・・・ウェーハキャリア、5・・・洗浄槽、6・・・台
座、7・・・電圧測定子、8・・・温度センサ、9・・
・赤外線ランプ、10・・・フィルタ、10a・・・シ
ュラウド、11・・・超音波振動子、12・・・温度・
加熱時間制御部、13・・・スピンドライヤー 14・
・・ブラシ洗浄部、15・・・水洗部、16・・・超音
波洗浄部、18.18a・・・基台。
例における概略を示す図、第2図は、従来のウェーハキ
ャリア洗浄装置の一例における概略を示す図である。 1・・・モータ、2・・・ブラシ、3・・・ノズル、4
・・・ウェーハキャリア、5・・・洗浄槽、6・・・台
座、7・・・電圧測定子、8・・・温度センサ、9・・
・赤外線ランプ、10・・・フィルタ、10a・・・シ
ュラウド、11・・・超音波振動子、12・・・温度・
加熱時間制御部、13・・・スピンドライヤー 14・
・・ブラシ洗浄部、15・・・水洗部、16・・・超音
波洗浄部、18.18a・・・基台。
Claims (1)
- 導電性のある表面をもつウェーハキャリアを洗浄する
洗浄機構と、洗浄後に前記ウェーハキャリアを加熱して
乾燥する加熱機構とを有するウェーハキャリア洗浄装置
において、前記ウェーハキャリアの帯電圧を測定する測
定手段を備え、前記加熱機構の加熱温度及び加熱時間を
制御することを特徴とするウェーハキャリア洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26420790A JP2609751B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | ウェーハキャリア洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26420790A JP2609751B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | ウェーハキャリア洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04142058A true JPH04142058A (ja) | 1992-05-15 |
JP2609751B2 JP2609751B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=17399977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26420790A Expired - Lifetime JP2609751B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | ウェーハキャリア洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2609751B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190108611A (ko) * | 2017-03-23 | 2019-09-24 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101848700B1 (ko) * | 2017-01-11 | 2018-04-16 | 주식회사 위드텍 | 자동 풉 세정장치 |
-
1990
- 1990-10-02 JP JP26420790A patent/JP2609751B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190108611A (ko) * | 2017-03-23 | 2019-09-24 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2609751B2 (ja) | 1997-05-14 |
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