JP2609727B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

Info

Publication number
JP2609727B2
JP2609727B2 JP1245566A JP24556689A JP2609727B2 JP 2609727 B2 JP2609727 B2 JP 2609727B2 JP 1245566 A JP1245566 A JP 1245566A JP 24556689 A JP24556689 A JP 24556689A JP 2609727 B2 JP2609727 B2 JP 2609727B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
integrated circuit
semiconductor integrated
gate electrode
bit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1245566A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03108184A (ja
Inventor
義昭 竹内
勝 小柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP1245566A priority Critical patent/JP2609727B2/ja
Priority to KR1019900014888A priority patent/KR940005800B1/ko
Priority to US07/585,703 priority patent/US5168462A/en
Priority to EP90118180A priority patent/EP0418911B1/en
Priority to DE69015746T priority patent/DE69015746T2/de
Publication of JPH03108184A publication Critical patent/JPH03108184A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2609727B2 publication Critical patent/JP2609727B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/18Bit line organisation; Bit line lay-out
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B12/00Dynamic random access memory [DRAM] devices
    • H10B12/30DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
    • H10B12/48Data lines or contacts therefor
    • H10B12/485Bit line contacts
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B12/00Dynamic random access memory [DRAM] devices
    • H10B12/01Manufacture or treatment
    • H10B12/09Manufacture or treatment with simultaneous manufacture of the peripheral circuit region and memory cells
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B12/00Dynamic random access memory [DRAM] devices
    • H10B12/30DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
    • H10B12/31DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells having a storage electrode stacked over the transistor
    • H10B12/315DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells having a storage electrode stacked over the transistor with the capacitor higher than a bit line
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B12/00Dynamic random access memory [DRAM] devices
    • H10B12/30DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
    • H10B12/48Data lines or contacts therefor
    • H10B12/482Bit lines

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はセンスアンプを有する半導体集積回路に関す
るものである。
(従来の技術) センスアンプを有する半導体集積回路、例えばDRAMの
コア部は第2図に示すように1つのセンスアンプSA
i(i=0,…2)に一対のビット線BLi,▲▼が接
続されている。これらのビット線間の結合容量は、例え
ばビット線対BL1,▲▼を例にとると、ビット線BL
1とビット線▲▼との間の容量C0、およびビット
線BL1とこのビット線BL1に隣接するビット線▲▼
との間の容量C1、ならびにビット線▲▼とこのビ
ット線に隣接するビット線BL2との間の容量C2からなっ
ている。
又、センスアンプを構成するトランジスタは、第3図
に示すようにその電極(第3図の斜線部)がビット線下
にビット線方向に形成されている。
(発明が解決しようとする課題) このようなセンスアンプを有する従来の半導体集積回
路においては、ビット線対(例えばBL1,▲▼)間
の距離よりもビット線(例えばBL1)とこのビット線に
隣接するビット線(例えば▲▼)との間の距離が
一般に短いため、この結合容量によって干渉ノイズが発
生する。そして、集積回路の高集積化に伴ってビット線
のピッチが微細化されることにより、ビット線間の結合
容量が増大し、上記干渉ノイズは増大することになる。
この状況において隣接するビット線の電位がノイズで
変動した場合、注目しているビット線対の電位も結合容
量の干渉ノイズで変動し、メモリセルからデータをビッ
ト線に読み出す際に読み出し電位が変動し、センスアン
プで電位を増幅する際に、誤ったデータを増幅してしま
うといったことが起き易い。
今、選択ビット線対BL1,▲▼から高いレベルの
データを読み出すとすると、ビット線BL1は1/2 VCCレベ
ルに、ビット線▲▼は1/2 VCCよりわずかに低い
レベルになている。なお、VCCは電源電圧とする。ここ
で隣接ビット線▲▼の電位がノイズで接地電位
(VSS)側に変動すると、ビット線BL1のレベルが低下
し、ノイズの大きさによってはビット線▲▼のレ
ベルより低下してしまう。この低下した状態でセンスア
ンプによってデータを増幅すると誤ったデータを読み出
してしまうことになる。この場合、同時に隣接するビッ
ト線BL2にも同様なノイズが乗れば、ビット線BL1とビッ
ト線▲▼の電位差としては変化しないため、前述
のような誤動作はしない。しかし、片側の隣接ビット線
のみにアンバランスなノイズが乗ると誤動作が起り易い
状態となる。
上述のビット線間の干渉ノイズの解決策として、第4
図に示すようにビット線を交差させ、ビット線に乗るノ
イズを同相にして相殺する方法が提案されている。しか
しこの方法は、ビット線を交差させるため、チップ面積
が増加するとともにコア部の構成が複雑になるという問
題を引き起こす。
本発明は上記事情を考慮してなされたものであって、
ビット線間の容量結合による干渉ノイズを可及的に低下
させるとともにレイアウト面積を増大させない半導体集
積回路を提供することを目的とする。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 第1の発明による半導体集積回路は、第1、第2およ
び第3のビット線が平行配置されており、前記第1のビ
ット線にコンタクト部を介して接続する、センスアンプ
を構成するトランジスタのゲート電極が、前記コンタク
ト部から前記第1のビット線にほぼ直角に、前記第1の
ビット線に隣接する第2のビット線の下を通って前記第
2のビット線に隣接する第3のビット線の真下まで延び
ているとともに前記第3のビット線の真下に平行に延在
していることを特徴とする。
また第2の発明による半導体集積回路は、第1の発明
の半導体集積回路において、ゲート電極の形状がL字型
であることを特徴とする。
また第3の発明による半導体集積回路は、第1の発明
の半導体集積回路において、ゲート電極の形状がコの字
型であることを特徴とする。
(作 用) 上述のように構成された第1の発明の半導体集積回路
によれば、ゲート電極が第2のビット線を越えて第3の
ビット線の真下に平行に延在していることにより、寄生
容量を特別に設ける必要なく、干渉ノイズを可及的に低
下させることができるとともに、チップ面積も増大する
ことはない。
また上述のように構成された第2の発明の半導体集積
回路によれば、ゲート電極はL字型のため第1のビット
線にほぼ垂直に延びる部分があることにより、ゲート幅
を大きくすることができて電流を大きく流すことができ
る。
また上述のように構成された第3の発明の半導体集積
回路によれば、ゲート電極はコの字型であるため、ゲー
ト幅が増大、駆動能力が大きくなる。また合わせずれや
イオン注入角度によるアンバランスを防止することがで
きる。
(実施例) 第1図に本発明による半導体集積回路の一実施例を示
す。この実施例の半導体集積回路は、一対のビット線
(例えばビット線BL1,▲▼)に接続されるセンス
アンプを構成するトランジスタのゲート電極G1および▲
▼の形状を改良している。
第1図に表わされたビット線▲▼,BL1,▲
▼,BL2…はトランジスタなどの素子上に形成された絶
縁膜(図示せず)の上に形成されている。
ビート線▲▼にコンタクト部を介して接続され
たゲート電極▲▼は、ビット線▲▼下でこの
ビット線▲▼に沿った部分と、コンタクト部から
ビット線に対して直角方向に延び、隣接ビット線BL1の
下を通ってさらに次のビット線▲▼の真下まで延
びる部分と、ビット線▲▼の下でこれに沿って延
びる部分とからなっている。
また、ビット線BL1にコンタクト部を介して接続され
たゲート電極G1は、コンタクト部からビット線BL1に直
角に延び、隣接ビット線▲▼の下を通ってさらに
次のビット線BL2の真下まで延びる部分およびビット線B
L2の下でこれに沿って延びる部分からなっている。
一般にゲート電極はポリシリコン、ビット線はアルミ
ニウムにより形成されそれぞれ固有抵抗を有しているた
め、各ゲート電極と各ビット線間には容量が現われる。
例えばビット線▲▼の電位がノイズで変動しても
ビット線▲▼はビット線BL1と同方向に変動する
ため、干渉ノイズにアンバランスが生じず、結果的に干
渉ノイズが低下したことになり、センスアンプの誤動作
を防止することができる。同様に、ゲート電極G1の存在
によりビット線BL2の電位がノイズで変動してもビット
線BL1の電位変動によってセンスアンプの誤動作を防止
することができる。
この実施例ではビット線BL1と▲▼に対して異
なる形状のゲート電極を採用しているが、同じ形状を採
用するようにしてもよい。
なお、トランジスタのゲート電極の形状を第1図のG1
のような形状にすることにより、合せずれやイオン注入
角度によるアンバランスを防止することが可能となる。
本発明ではビット線を交叉させる第4図に示す従来の
半導体集積回路に比べてレイアウト面積の増大を防止す
ることができる。
なお、ビット線▲▼とビット線BL1との間の容
量をC1、ビット線▲▼とビット線BL2との間の容
量をC2とした場合に、ビット線▲▼とビット線▲
▼との間に容量C3をC3C1となるように設けると
ともに、ビット線BL1とビット線BL2との間に容量C4をC4
C2となるように設ければ、上述の実施例よりも干渉ノ
イズを低下させることができる。
又、隣接するビット線▲▼又はBL2とトランジ
スタのゲート電極とのオーバラップをできるだけ大きく
することによっても干渉ノイズをより低下させることが
できる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ビット線間の容量結合による干渉ノ
イズを可及的に低下させることが可能となり、センスア
ンプの誤動作を防止することができる。更にレイアウト
面積の増大も防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による半導体集積回路の実施例を示す配
置図、第2図はセンスアンプの構成を説明する説明図、
第3図は従来の半導体集積回路のトランジスタのゲート
電極の配置を示す配置図、第4図はビット線間の干渉ノ
イズを低下させる従来の方法を説明する説明図である。 ▲▼,BL1,▲▼,BL2……ビット線、G1,▲
▼……トランジスタのゲート電極、C1,C2,C3,C4……
結合容量。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1、第2および第3のビット線が平行配
    置されており、前記第1のビット線にコンタクト部を介
    して接続する、センスアンプを構成するトランジスタの
    ゲート電極が、前記コンタクト部から前記第1のビット
    線にほぼ直角に、前記第1のビット線に隣接する第2の
    ビット線の下を通って前記第2のビット線に隣接する第
    3のビット線の真下まで延びているとともに前記第3の
    ビット線の直下に平行に延在していることを特徴とする
    半導体集積回路。
  2. 【請求項2】前記ゲート電極の形状がL字型であること
    を特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
  3. 【請求項3】前記ゲート電極の形状がコの字型であるこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
JP1245566A 1989-09-21 1989-09-21 半導体集積回路 Expired - Fee Related JP2609727B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1245566A JP2609727B2 (ja) 1989-09-21 1989-09-21 半導体集積回路
KR1019900014888A KR940005800B1 (ko) 1989-09-21 1990-09-20 반도체 집적회로
US07/585,703 US5168462A (en) 1989-09-21 1990-09-20 Sense amplifier having reduced coupling noise
EP90118180A EP0418911B1 (en) 1989-09-21 1990-09-21 Semiconductor memory device
DE69015746T DE69015746T2 (de) 1989-09-21 1990-09-21 Halbleiterspeicheranordnung.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1245566A JP2609727B2 (ja) 1989-09-21 1989-09-21 半導体集積回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03108184A JPH03108184A (ja) 1991-05-08
JP2609727B2 true JP2609727B2 (ja) 1997-05-14

Family

ID=17135618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1245566A Expired - Fee Related JP2609727B2 (ja) 1989-09-21 1989-09-21 半導体集積回路

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5168462A (ja)
EP (1) EP0418911B1 (ja)
JP (1) JP2609727B2 (ja)
KR (1) KR940005800B1 (ja)
DE (1) DE69015746T2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100271788B1 (ko) * 1997-10-30 2000-11-15 김영환 디램의비트라인프리차지회로의레이아웃
US5963494A (en) * 1998-07-31 1999-10-05 Lg Semicon Co., Ltd. Semiconductor memory having bitline precharge circuit
KR100482486B1 (ko) * 2001-12-06 2005-04-14 기아자동차주식회사 차량의 윈도우 레귤레이터

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3942164A (en) * 1975-01-30 1976-03-02 Semi, Inc. Sense line coupling reduction system
JPH0666442B2 (ja) * 1985-03-08 1994-08-24 三菱電機株式会社 半導体メモリ装置
JPS63897A (ja) * 1986-06-19 1988-01-05 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS63133394A (ja) * 1986-11-21 1988-06-06 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE69015746D1 (de) 1995-02-16
EP0418911A2 (en) 1991-03-27
US5168462A (en) 1992-12-01
EP0418911B1 (en) 1995-01-04
KR910007123A (ko) 1991-04-30
JPH03108184A (ja) 1991-05-08
EP0418911A3 (en) 1991-08-21
DE69015746T2 (de) 1995-06-01
KR940005800B1 (ko) 1994-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5045899A (en) Dynamic random access memory having stacked capacitor structure
US5014110A (en) Wiring structures for semiconductor memory device
US5850362A (en) Semiconductor memory device employing an improved layout of sense amplifiers
US6175138B1 (en) Semiconductor memory device and method of manufacturing the same
US5815428A (en) Semiconductor memory device having hierarchical bit line structure
JPS6316658A (ja) 半導体記憶装置
US5517038A (en) Semiconductor device including three-dimensionally disposed logic elements for improving degree of integration
US20020067637A1 (en) Semiconductor memory
EP0167281B1 (en) Semiconductor memory device
KR100805434B1 (ko) 리프레시 동작이 불필요하고 메모리셀의 점유 면적이 작은 반도체 기억 장치
JPH0552671B2 (ja)
KR100377082B1 (ko) 반도체 장치
JP2609727B2 (ja) 半導体集積回路
JP2746730B2 (ja) 半導体記憶装置
US5909047A (en) Semiconductor memory device
JP2000243857A (ja) 半導体メモリデバイス及びその製造方法
EP0395101B1 (en) Semiconductor memory device having low noise bit line structure
US6438042B1 (en) Arrangement of bitline boosting capacitor in semiconductor memory device
KR910005587B1 (ko) 감지증폭기회로
JP2723700B2 (ja) 半導体記憶装置
US6072714A (en) Static memory cell with a pair of transfer MOS transistors, a pair of driver MOS transistors and a pair of load elements
JPH05218349A (ja) 半導体記憶装置
KR960010072B1 (ko) 반도체 메모리장치
JP2002343939A (ja) 半導体メモリ素子におけるセンスアンプレイアウト方法及びこれを用いる半導体メモリ素子
US6933578B2 (en) Semiconductor storage device

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees