JP2598585B2 - Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation - Google Patents

Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation

Info

Publication number
JP2598585B2
JP2598585B2 JP3172089A JP17208991A JP2598585B2 JP 2598585 B2 JP2598585 B2 JP 2598585B2 JP 3172089 A JP3172089 A JP 3172089A JP 17208991 A JP17208991 A JP 17208991A JP 2598585 B2 JP2598585 B2 JP 2598585B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
laser
marking
resin composition
anthraquinone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP3172089A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0521652A (en
Inventor
孝一 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP3172089A priority Critical patent/JP2598585B2/en
Publication of JPH0521652A publication Critical patent/JPH0521652A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2598585B2 publication Critical patent/JP2598585B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】炭酸ガスレーザーおよびYAGレ
ーザーのいずれのレーザー捺印装置によっても本発明は
表面に鮮明なマーキングを施すことができる樹脂封止半
導体装置用エポキシ樹脂組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for a resin-encapsulated semiconductor device capable of making clear markings on its surface by using either a carbon dioxide laser or a YAG laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、環境問題により樹脂封止半導体装
置の捺印は、フロン、塩素系溶剤による前洗浄の必要な
インク捺印からレーザー発振器から発生するレーザー
を、型抜きしたマスクを通し、その光像を前記半導体装
置上に集束して、所定のマーキングを施すか直接レーザ
ービームで半導体装置上に文字を描くレーザー捺印方法
に移行してきている。レーザー捺印方式としては、炭酸
ガスレーザーによるパルス捺印(マスクタイプ)並びに
YAGレーザーによるパルス捺印(マスクタイプ)およ
びスキャン捺印(一筆書き)がある。
2. Description of the Related Art In recent years, due to environmental issues, resin-encapsulated semiconductor devices have been stamped by passing a laser generated from a laser oscillator from an ink stamp requiring pre-cleaning with a chlorofluorocarbon or chlorine-based solvent through a mask that has been die-cut. An image has been focused on the semiconductor device, and the laser marking method has been shifted to a method of applying a predetermined marking or directly writing a character on the semiconductor device by a laser beam. Laser marking methods include pulse marking (mask type) with a carbon dioxide laser, pulse marking (mask type) with a YAG laser, and scan marking (one-stroke writing).

【0003】このマーキング方式は、レーザービームの
エネルギーにより樹脂封止半導体装置の表面層を数μm
〜数10μmの深さに破壊して表面を粗面化し、この破
壊部と非破壊部の表面性状の対比によってマーキングと
して視覚的に認識させる方式である。しかしながら、上
記のようなレーザーを用いてマーキングを施す場合、従
来の樹脂封止半導体装置では、上記破壊部と非破壊部と
の対比が必ずしも良好とはならず、従ってインク捺印と
比較してマーキングが鮮明に見えないという様な欠点を
有していた。
In this marking method, the surface layer of a resin-encapsulated semiconductor device is several μm thick by the energy of a laser beam.
This is a method in which the surface is roughened by breaking to a depth of several tens μm, and the marking is visually recognized as a marking by comparing the surface properties of the broken portion and the non-destructed portion. However, when the marking is performed by using the laser as described above, in the conventional resin-encapsulated semiconductor device, the comparison between the destructive portion and the non-destructive portion is not always good, and therefore, the marking is performed in comparison with ink marking. However, it had a drawback that it could not be clearly seen.

【0004】更に最近の高集積化の動きの中で主流とな
っている低応力封止材料は応力を低減する目的でシリコ
ーン化合物が添加されているため従来材と比較してより
捺印が不鮮明であり視認性の向上が強く望まれている。
[0004] Furthermore, in the recent trend of high integration, low stress encapsulating materials, in which a silicone compound is added for the purpose of reducing stress, have a more unclear printing than conventional materials. There is a strong demand for improved visibility.

【0005】こうした状況の中で視認性の向上のため種
々の検討がなされており、特に着色剤の成分を調整する
ことが有効であることがわかっている。例えば炭酸ガス
レーザー捺印に対してジアゾ系、アジン系染料が視認性
の向上に効果的であるとの特許(例えば特開昭60−1
19760号公報)も出願されている。ところがこうい
った着色剤は炭酸ガスレーザーでは良好な捺印を示して
も、YAGレーザーになると全くレーザーエネルギーを
吸収できず、従って捺印が全く視認できない状態とな
る。これは炭酸ガスレーザーとYAGレーザーのレーザ
ー波長の違いによるものと思われる。
[0005] Under such circumstances, various studies have been made to improve the visibility, and it has been found that it is particularly effective to adjust the components of the coloring agent. For example, diazo-based and azine-based dyes are effective in improving visibility for carbon dioxide laser printing (see, for example, JP-A-60-1).
No. 19760) has also been filed. However, even if such a colorant shows a good seal with a carbon dioxide gas laser, it cannot absorb laser energy at all in the case of a YAG laser, so that the seal is completely invisible. This is thought to be due to the difference in the laser wavelength between the carbon dioxide laser and the YAG laser.

【0006】一方、カーボンブラックはYAGレーザー
では良好な捺印を示すが炭酸ガスレーザーになると視認
性が悪い欠点がある。現状では、炭酸ガスレーザー捺印
機とYAGレーザー捺印機両方とも使われている為、ど
ちらのレーザータイプでも視認性の良い半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物の開発が望まれている。上記のように
従来のエポキシ樹脂封止材では炭酸ガスレーザー捺印お
よびYAGレーザー捺印のどちらのレーザータイプでも
良好な視認性を示すものがなかった。
On the other hand, carbon black shows a good seal with a YAG laser, but has a drawback that visibility is poor when a carbon dioxide laser is used. At present, since both a carbon dioxide gas laser printer and a YAG laser printer are used, development of an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation having good visibility with either laser type is desired. As described above, none of the conventional epoxy resin encapsulants showed good visibility in both laser types, carbon dioxide gas laser marking and YAG laser marking.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情に鑑みなされたもので、炭酸ガスレーザー捺印機、Y
AGレーザー捺印機のいずれで捺印されても比較的暗い
雰囲気下でも、また樹脂成形部分が灰色、黒色等でもレ
ーザーによるマーキングが明瞭に見える半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and a carbon dioxide laser marking machine, Y
An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor in which marking by a laser can be clearly seen even when stamped by an AG laser stamping machine, even in a relatively dark atmosphere, or when the resin molded portion is gray or black.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は無機充填
剤、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促進剤、シリ
コーン化合物および下記式(1)、(2)、(3)に示
す化合物の混合物からなるアントラキノン系黒色着色剤
を必須成分とし、全体の樹脂組成物中に該アントラキノ
ン系黒色着色剤を0.1〜2.0重量%含有する半導体
封止用エポキシ樹脂組成物である。
That is, the present invention provides an inorganic filler, an epoxy resin, a phenol resin, a curing accelerator, a silicone compound and a mixture of compounds represented by the following formulas (1), (2) and (3). An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation comprising an anthraquinone-based black colorant as an essential component, and containing 0.1 to 2.0% by weight of the anthraquinone-based black colorant in the entire resin composition.

【0009】[0009]

【化2】 Embedded image

【0010】即ち、エポキシ樹脂組成物としては、従来
から熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂を主成分とするも
のが広く用いられている。このようなエポキシ樹脂を主
成分とする樹脂組成物は、一般にエポキシ樹脂以外に、
通常、硬化剤、硬化促進剤、充填剤、離型剤が配合さ
れ、必要に応じて難燃剤、着色剤、カップリング剤等が
配合される。上記顔料としては、通常、カーボンブラッ
クやジアゾ染料が用いられている。このような樹脂組成
物を用いて封止して得られる樹脂封止半導体装置では、
先に述べたように炭酸ガス、YAGのいずれのレーザー
においてもレーザー光による半導体装置表面の破壊部と
非破壊部との対比が鮮明とはいえずマーキングが明瞭に
は見えない。
That is, as the epoxy resin composition, a thermosetting resin, particularly one containing an epoxy resin as a main component, has been widely used. Such a resin composition containing an epoxy resin as a main component is generally other than an epoxy resin,
Usually, a curing agent, a curing accelerator, a filler, and a release agent are blended, and if necessary, a flame retardant, a coloring agent, a coupling agent, and the like are blended. As the pigment, carbon black or a diazo dye is usually used. In a resin-sealed semiconductor device obtained by sealing using such a resin composition,
As described above, in any of the carbon dioxide gas laser and the YAG laser, the contrast between the destructed portion and the non-destructed portion on the semiconductor device surface by the laser beam is not clear, and the marking is not clearly seen.

【0011】本発明者は、レーザー光による半導体装置
表面の破壊部と非破壊部との対比の鮮明さを得ることを
目的として研究を重ねた結果、アントラキノン系着色剤
が大きな影響を及ぼすことをつきとめ、この染料を中心
にさらに研究を重ねた結果、式(1)、(2)、(3)
に示す化合物の混合物からなるアントラキノン系黒色着
色剤(以下、アントラキノン系混合黒色着色剤という)
を用いるといずれのレーザーによるマーキングに際して
も破壊部と非破壊部との対比が鮮明になることを見いだ
した。そしてこれに基づきさらに研究を重ねた結果、樹
脂組成物全体中にアントラキノン系黒色着色剤を0.1
〜2.0重量%(以下、%と略す)含有させることによ
り、特にマーキングの鮮明性が向上し、半導体装置の樹
脂成形部分が灰色、黒色等の有色であっても、また比較
的暗い雰囲気下であってもマーキングが明瞭に認められ
るようになることを見いだし、本発明に到達した。
The present inventor has conducted various studies with the aim of obtaining a clear comparison between a destructed portion and a non-destructed portion on the surface of a semiconductor device by laser light. As a result, the present inventors have found that an anthraquinone-based colorant has a great effect. As a result of further study focusing on this dye, formulas (1), (2) and (3)
Anthraquinone-based black colorant consisting of a mixture of the compounds shown in (1) (hereinafter referred to as anthraquinone-based mixed black colorant)
It has been found that the use of a laser makes the contrast between the destructive part and the non-destructive part clear in any laser marking. As a result of further research based on this, anthraquinone-based black colorant was added to the entire resin composition in an amount of 0.1%.
By adding 2.0% by weight (hereinafter abbreviated as%), the sharpness of the marking is particularly improved, and even if the resin molded portion of the semiconductor device is colored such as gray or black, the atmosphere is relatively dark. It has been found that even underneath the markings are clearly identifiable and the invention has been reached.

【0012】本発明の封止用エポキシ樹脂組成物はエポ
キシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促進剤、シリコーン化
合物および溶融シリカあるいは結晶シリカ等の無機充填
剤、アントラキノン系混合黒色着色剤を必須成分とする
が、これ以外に必要に応じてシランカップリング剤、ブ
ロム化エポキシ樹脂、三酸化アンチモン、ヘキサブロム
ベンゼン等の難燃剤、天然ワックス、合成ワックス等の
離型剤および種々の添加剤を適宜配合しても差し支えが
ない。
The epoxy resin composition for encapsulation of the present invention comprises an epoxy resin, a phenolic resin, a curing accelerator, a silicone compound, an inorganic filler such as fused silica or crystalline silica, and an anthraquinone-based mixed black colorant as essential components. In addition, if necessary, a silane coupling agent, a brominated epoxy resin, a flame retardant such as antimony trioxide, hexabromobenzene, a release agent such as a natural wax and a synthetic wax and various additives are appropriately blended. No problem.

【0013】また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物
を成形材料として製造するには、エポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂、硬化促進剤、シリコーン化合物、充填剤、そ
の他添加剤をミキサー等によって十分に均一に混合した
後、更に熱ロールまたはニーダー等で溶融混練し、冷却
後粉砕して成形材料とすることができる。
In order to produce the encapsulating epoxy resin composition of the present invention as a molding material, the epoxy resin, phenolic resin, curing accelerator, silicone compound, filler, and other additives are sufficiently homogenized by a mixer or the like. , And then melt-kneaded with a hot roll or a kneader, cooled, and pulverized to obtain a molding material.

【0014】これらの成形材料は電子部品あるいは電子
部品の封止、被覆、絶縁に適用することができる。本発
明に用いるエポキシ樹脂としては、その分子中にエポキ
シ基を少なくとも2個以上有する化合物であれば分子構
造、分子量などは特に制限はなく、一般に封止用材料と
して使用されているものであり、例えばビスフェノール
A型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、
ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ型エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル型エポキシ樹脂、ジグリシジルアミン型エポキシ樹
脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、ビスフェノール
AまたはビスフェノールFとホルムアルデヒドの重縮合
物グリシジルエーテル化物およびそれらのハロゲン化
物、水素添加物などが挙げられ、これらは単独もしくは
2種以上混合して用いても差し支えない。
These molding materials can be applied to electronic parts or sealing, coating and insulation of electronic parts. The epoxy resin used in the present invention is not particularly limited in molecular structure, molecular weight and the like as long as it is a compound having at least two epoxy groups in its molecule, and is generally used as a sealing material. For example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin,
Bisphenol S type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, diglycidylamine type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, bisphenol A or bisphenol F And aldehydes of formaldehyde and glycidyl ethers thereof, and their halides and hydrogenated products. These may be used alone or in combination of two or more.

【0015】また、硬化剤のフェノール樹脂としては、
ノボラック型フェノール樹脂系およびこれらの変性樹脂
であり、例えばフェノールノボラック、O−クレゾール
ノボラックの他アルキル変性したフェノールノボラック
樹脂等が挙げられ、これらは単独もしくは2種以上混合
して使用しても差し支えがない。
[0015] Further, as the phenol resin of the curing agent,
Novolak-type phenolic resins and modified resins thereof, for example, phenol novolak, O-cresol novolak, and alkyl-modified phenol novolak resins and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Absent.

【0016】エポキシ樹脂と硬化剤の配合比はエポキシ
樹脂のエポキシ基と硬化剤の水酸基との当量比が0.5
〜5の範囲内にあることが望ましい。当量比が0.5未
満または5を超えたものは耐湿性、成形作業性および硬
化物の電気特性が悪くなるので好ましくない。
The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is such that the equivalent ratio of the epoxy group of the epoxy resin to the hydroxyl group of the curing agent is 0.5.
It is desirably within the range of ~ 5. If the equivalent ratio is less than 0.5 or more than 5, the moisture resistance, the molding workability and the electrical properties of the cured product are undesirably deteriorated.

【0017】本発明に使用される硬化促進剤はエポキシ
基とフェノール性水酸基との反応を促進するものであれ
ば良く、一般に封止用材料に使用されているものを広く
使用することができ、例えばジアザビシクロウンデセン
(DBU)、トリフェニルホスフィン(TPP)、ジメ
チルベンジルアミン(BDMA)や2メチルイミダゾー
ル(2MZ)等が単独もしくは2種以上混合して用いら
れる。
The curing accelerator used in the present invention may be any as long as it promotes the reaction between the epoxy group and the phenolic hydroxyl group, and those commonly used in sealing materials can be widely used. For example, diazabicycloundecene (DBU), triphenylphosphine (TPP), dimethylbenzylamine (BDMA), 2-methylimidazole (2MZ), or the like is used alone or in combination of two or more.

【0018】本発明に用いられる充填材は、溶融シリ
カ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、酸化マグネシウ
ム等が挙げられ、これは単独もしくは2種以上混合して
使用しても差し支えない。シリコーン化合物としてはシ
リコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーンゲル等が
挙げられ単独もしくは2種以上混合して使用してもかま
わずエポキシ樹脂組成物中に低応力性を賦与するため配
合される。着色剤としてはアントラキノン系混合黒色着
色剤が用いられるが、この着色剤は式(1)、(2)、
(3)に示される3種の化合物を含む微粉末の染料混合
物である。
The filler used in the present invention includes fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, magnesium oxide and the like, and these may be used alone or as a mixture of two or more. Examples of the silicone compound include silicone oil, silicone rubber, and silicone gel. These compounds may be used alone or as a mixture of two or more kinds, and are blended to impart low stress to the epoxy resin composition. As the colorant, an anthraquinone-based mixed black colorant is used, and this colorant is represented by formulas (1), (2),
This is a fine powder dye mixture containing the three compounds shown in (3).

【0019】このアントラキノン系混合黒色着色剤は組
成物全体中に0.1〜2.0%、さらに好ましくは0.
3〜1.5%含有されるのが良い。即ち、このアントラ
キノン系混合黒色着色剤の添加量が0.1%未満のとき
は、破壊部と非破壊部との対比が鮮明でなくなり、逆に
2%を超えるときには樹脂封止された半導体装置の信頼
性(耐湿性)が低下する等の欠点を生じるからである。
特にこのアントラキノン系混合黒色着色剤の含有量を
0.3〜1.5%に設定するときにマーキングが著しく
鮮明となる。アントラキノン系混合黒色着色剤は式
(1)、(2)、(3)のいずれの化合物をも5重量%
含有する必要がある。1種類の化合物でも5重量%未満
だと所望の黒色度が得られない。なお、上記着色剤と共
に、従来から樹脂組成物に添加される着色剤、例えばカ
ーボンブラック等を用いても差し支えない。このよう
に、着色剤としてこのアントラキノン系混合黒色着色剤
を用いることが、本発明の大きな特徴であり、これによ
って比較的暗い雰囲気下や樹脂成形部分が灰色、黒色等
であっても明瞭なマーキングがなされるようになるので
ある。
The anthraquinone-based mixed black colorant accounts for 0.1 to 2.0%, more preferably 0.1 to 2.0%, of the total composition.
The content is preferably 3 to 1.5%. That is, when the added amount of the anthraquinone-based mixed black colorant is less than 0.1%, the contrast between the destructed portion and the non-destructed portion is not clear, and when it exceeds 2%, the resin device is sealed. This is because defects such as a decrease in the reliability (moisture resistance) are caused.
In particular, when the content of the anthraquinone-based mixed black colorant is set to 0.3 to 1.5%, the marking becomes remarkably sharp. The anthraquinone-based mixed black colorant contains 5% by weight of any of the compounds of formulas (1), (2) and (3).
Must be included. If even one compound is less than 5% by weight, the desired blackness cannot be obtained. In addition, a coloring agent conventionally added to the resin composition, such as carbon black, may be used together with the coloring agent. As described above, the use of this anthraquinone-based mixed black colorant as a colorant is a major feature of the present invention, whereby clear marking can be performed even in a relatively dark atmosphere or a resin molded part is gray or black. Will be done.

【0020】以下、本発明を実施例で具体的に示す。Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples.

【0021】[0021]

【実施例】実施例1 溶融シリカ 68.0 重量部 O−クレゾールノボラックエポキシ樹脂 16.0 重量部 (エポキシ当量200、軟化点65℃) フェノールノボラック樹脂 9.0 重量部 (OH当量104、軟化点100℃) ブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂 1.7 重量部 (Br含有量46%、エポキシ当量360) DBU 0.2 重量部 三酸化アンチモン 1.7 重量部 カルノバワックス 0.3 重量部 シリコーンオイル 3.0 重量部 (SF−8413、東レ・ダウコーニンダ・シリコーン) γ−グリシドメトキシシラン 0.8 重量部 アントラキノン系混合黒色着色剤 0.15 重量部 をミキサーで常温で混合し、70〜100℃で2軸ロー
ルにより混練し、冷却後粉砕し成形材料とした。
Example 1 Fused silica 68.0 parts by weight O-cresol novolak epoxy resin 16.0 parts by weight (epoxy equivalent 200, softening point 65 ° C) Phenol novolak resin 9.0 parts by weight (OH equivalent 104, softening point 100 ° C) Brominated bisphenol A type epoxy resin 1.7 parts by weight (Br content 46%, epoxy equivalent 360) DBU 0.2 parts by weight Antimony trioxide 1.7 parts by weight Carnova wax 0.3 parts by weight Silicone oil 3.0 parts by weight (SF-8413, Toray Dow Corningda Silicone) 0.8 parts by weight of γ-glycidmethoxysilane 0.15 parts by weight of anthraquinone-based mixed black colorant was mixed at room temperature with a mixer, kneaded at 70 to 100 ° C. with a biaxial roll, cooled, and pulverized to obtain a molding material.

【0022】得られた成形材料をタブレット化し、低圧
トランスファー成形機にて175℃、70kg/cm2 、1
20秒の条件で16pDIPパッケージに封止し175℃、
8時間の条件でポストキュアー後、レーザー捺印し視認
性を21ステップセンシビティーガイドにて評価した。
The obtained molding material is tableted, and it is 175 ° C., 70 kg / cm 2 , 1 with a low pressure transfer molding machine.
Sealed in 16pDIP package under the condition of 20 seconds, 175 ℃,
After post-curing under the conditions of 8 hours, laser marking was performed, and the visibility was evaluated using a 21-step sensitivity guide.

【0023】なお、レーザー捺印機としてはルモニクス
製炭酸ガスレーザーマーク940型およびNEC製YA
GレーザーマークSL−476Aを使用した。
As a laser marking machine, a carbon dioxide laser mark 940 manufactured by Lumonics and a YA manufactured by NEC are used.
G laser mark SL-476A was used.

【0024】実施例2〜4 アントラキノン系混合黒色着色剤の配合量を変えた以外
は実施例1と同一配合とし実施例1と同様にして成形材
料を得て、この成形材料で試験用の成形品を作成し、レ
ーザー捺印試験を行った。試験結果を表1に示す。
Examples 2 to 4 A molding material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the anthraquinone-based mixed black colorant was changed, and a molding material was obtained in the same manner as in Example 1. A product was prepared and subjected to a laser marking test. Table 1 shows the test results.

【0025】比較例1〜4 表2に示す配合割合で実施例1と同様にして樹脂組成物
を作製し、同様に試験した。その結果を表2に示す。
Comparative Examples 1 to 4 Resin compositions were prepared in the same manner as in Example 1 at the compounding ratios shown in Table 2 and tested in the same manner. Table 2 shows the results.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によると被覆モールドされる樹脂
封止半導体装置はレーザー光によるマーキング形成に際
して樹脂成形部が、灰色、黒色等であっても、また薄暗
い雰囲気下であっても明瞭に識別できるマーキングを施
しうるようになり、マーキングの鮮明度の大幅な向上を
実現できる。
According to the present invention, the resin-encapsulated semiconductor device to be coated and molded can be clearly identified even when the resin molded portion is gray, black, or the like or in a dim atmosphere when forming a marking by laser light. It is possible to perform marking that can be performed, and it is possible to significantly improve the sharpness of the marking.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01L 23/31

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 無機充填剤、エポキシ樹脂、フェノール
樹脂、硬化促進剤、シリコーン化合物および下記式
(1)、(2)、(3)に示す化合物の混合物からなる
アントラキノン系黒色着色剤を必須成分とし、全体の樹
脂組成物中に該アントラキノン系黒色着色剤を0.1〜
2.0重量%含有することを特徴とする半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物。 【化1】
An essential component is an anthraquinone black colorant comprising a mixture of an inorganic filler, an epoxy resin, a phenol resin, a curing accelerator, a silicone compound and a compound represented by the following formulas (1), (2) and (3). And the anthraquinone-based black colorant in the entire resin composition is 0.1 to
An epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor, comprising 2.0% by weight. Embedded image
JP3172089A 1991-07-12 1991-07-12 Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation Expired - Fee Related JP2598585B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3172089A JP2598585B2 (en) 1991-07-12 1991-07-12 Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3172089A JP2598585B2 (en) 1991-07-12 1991-07-12 Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0521652A JPH0521652A (en) 1993-01-29
JP2598585B2 true JP2598585B2 (en) 1997-04-09

Family

ID=15935342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3172089A Expired - Fee Related JP2598585B2 (en) 1991-07-12 1991-07-12 Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2598585B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4736203B2 (en) * 2001-02-22 2011-07-27 住友ベークライト株式会社 Resin-encapsulated semiconductor device and epoxy resin composition for encapsulating semiconductor
MY148660A (en) * 2007-04-10 2013-05-15 Sumitomo Bakelite Co Resin composition, prepreg, laminated board, multilayer printed wiring board and semiconductor device
JP5263578B2 (en) * 2008-04-01 2013-08-14 日立化成株式会社 Epoxy resin molding material for sealing and electronic component device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61264018A (en) * 1985-05-17 1986-11-21 Denki Kagaku Kogyo Kk Epoxy resin composition
JPS6257425A (en) * 1985-09-05 1987-03-13 Matsushita Electric Works Ltd Production of molding material for sealing
JPS6255950A (en) * 1985-09-05 1987-03-11 Matsushita Electric Works Ltd Molding material for sealing
JPS62169846A (en) * 1986-01-22 1987-07-27 Matsushita Electric Works Ltd Sealing resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0521652A (en) 1993-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900001392B1 (en) Epoxy resin composition and resin-sealed semiconductor device in with composition is used
JPH10324791A (en) Flame-retardant epoxy resin composition
JP2598585B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP2859449B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP3201503B2 (en) Resin composition
JP3357235B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP3332332B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2705527B2 (en) Epoxy resin composition
JP3186586B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JP3354419B2 (en) Epoxy resin composition
JP4572866B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JP2000191884A (en) Resin composition and semiconductor device
JP3046443B2 (en) Epoxy resin composition for sealing and resin-sealed semiconductor device
JPH10158479A (en) Semiconductor-sealing resin composition
JP2665484B2 (en) Epoxy resin composition
JPH07161878A (en) Resin composition
JP3361602B2 (en) Resin composition
JP2001114989A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3334981B2 (en) Resin composition
JP2001247747A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH0641549B2 (en) Epoxy resin composition
JPH0827253A (en) Photosemiconductor apparatus
JP3230771B2 (en) Resin composition for semiconductor encapsulation
JP3235799B2 (en) Epoxy resin composition
JP3986917B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees