JP2588830B2 - 液晶性ポリウレタン類 - Google Patents
液晶性ポリウレタン類Info
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Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶性ポリウレタン類
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来技術とその課題】ポリウレタンは、電気・電子工
業における透明導電フィルム、有機半導体、有機超伝導
体、感光感熱材料として、また塗料、繊維、合成皮革等
の分野で広く使用されている。一般的に、ポリウレタン
には機能性を有するもの、特に液晶性を示すものも見つ
けられているが、液晶転移温度が高温であるか又は液晶
温度巾が小さいために、溶融加工時に熱分解を起こした
り、使用に耐える機能を備えていないものであった。
業における透明導電フィルム、有機半導体、有機超伝導
体、感光感熱材料として、また塗料、繊維、合成皮革等
の分野で広く使用されている。一般的に、ポリウレタン
には機能性を有するもの、特に液晶性を示すものも見つ
けられているが、液晶転移温度が高温であるか又は液晶
温度巾が小さいために、溶融加工時に熱分解を起こした
り、使用に耐える機能を備えていないものであった。
【０００３】ある有機結晶を融解するとき、結晶から直
ちに液体にならず、一旦濁った液体になり、更に加熱し
て始めて液体になるものを液晶と呼ぶ。電気・電子材料
で使用されている液晶は、光学的性質（散乱、屈折干渉
等）を有しており、その性質には電場や磁場の影響を受
け易く、液晶温度範囲が広く、また化学的な安定性を有
していることが要求される。
ちに液体にならず、一旦濁った液体になり、更に加熱し
て始めて液体になるものを液晶と呼ぶ。電気・電子材料
で使用されている液晶は、光学的性質（散乱、屈折干渉
等）を有しており、その性質には電場や磁場の影響を受
け易く、液晶温度範囲が広く、また化学的な安定性を有
していることが要求される。
【０００４】ところが、今日まで工業的に使用されてい
る液晶化合物は、単分子化合物が多く、化学的に安定で
剛直な高分子液晶ポリウレタンは未だ知られていない。
る液晶化合物は、単分子化合物が多く、化学的に安定で
剛直な高分子液晶ポリウレタンは未だ知られていない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、分解温
度以下で液晶を示し、剛直で化学的に安定なナフタリン
骨格を有する新規なポリウレタンを提供することにあ
る。
度以下で液晶を示し、剛直で化学的に安定なナフタリン
骨格を有する新規なポリウレタンを提供することにあ
る。
【０００６】本発明のポリウレタン類は、一般式
【０００７】
【０００８】一般式
【０００９】
【化２】
【００１０】で表わされる繰返し単位を有し、重量平均
分子量が５０００〜２０００００の範囲にあるポリウレ
タンである。
分子量が５０００〜２０００００の範囲にあるポリウレ
タンである。
【００１１】上記一般式（１）で表わされるポリウレタ
ン類は、例えば式
ン類は、例えば式
【００１２】
【００１３】
【００１４】
【化３】
【００１５】で表わされる２，６−ビス（ヒドロキシメ
チル）ナフタリン（以下「ＢＨＮ」という）、一般式ＯＣＮ−Ｒ ３ −ＮＣＯ （３） （式中Ｒ ３ は前記に同じ。） で表わされるジイソシアナ
ート類及び一般式ＨＯ（Ｒ ２ Ｏ）ｎＨ （４） （式中Ｒ ２ 及びｎは前記に同じ。） で表わされるα，ω
−ジヒドロキシ化合物を反応させることにより製造され
る。
チル）ナフタリン（以下「ＢＨＮ」という）、一般式ＯＣＮ−Ｒ ３ −ＮＣＯ （３） （式中Ｒ ３ は前記に同じ。） で表わされるジイソシアナ
ート類及び一般式ＨＯ（Ｒ ２ Ｏ）ｎＨ （４） （式中Ｒ ２ 及びｎは前記に同じ。） で表わされるα，ω
−ジヒドロキシ化合物を反応させることにより製造され
る。
【００１６】一般式（３）のジイソシアナート類として
は、例えばエチレンジイソシアナート、トリメチレンジ
イソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、ペ
ンタメチレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソ
シアナート（以下「ＨＤＩ」という）、ペプタメチレン
ジイソシアナート、オクタメチレンジイソシアナート、
２，４−トルイレンジイソシアナート、３，３′−ジメ
チル−４，４′−ビフェニルジイソシアナート（以下
「ＤＤＩ」という）、１，５−ナフタリンジイソシアナ
ート（以下「ＮＤＩ」という）等を挙げることができ
る。
は、例えばエチレンジイソシアナート、トリメチレンジ
イソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、ペ
ンタメチレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソ
シアナート（以下「ＨＤＩ」という）、ペプタメチレン
ジイソシアナート、オクタメチレンジイソシアナート、
２，４−トルイレンジイソシアナート、３，３′−ジメ
チル−４，４′−ビフェニルジイソシアナート（以下
「ＤＤＩ」という）、１，５−ナフタリンジイソシアナ
ート（以下「ＮＤＩ」という）等を挙げることができ
る。
【００１７】一般式（４）のα，ω−ジヒドロキシ化合
物としては、従来公知のものを広く使用でき、例えばポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポ
リテトラメチレングリコール等の重合体等の両末端が水
酸基である化合物を挙げることができる。
物としては、従来公知のものを広く使用でき、例えばポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポ
リテトラメチレングリコール等の重合体等の両末端が水
酸基である化合物を挙げることができる。
【００１８】ＢＨＮ、一般式（３）のジイソシアナート
類及び一般式（４）のα，ω−ジヒドロキシ化合物の使
用割合としては、特に限定されるものではないが、通常
ＢＨＮ１モルに対して一般式（３）のジイソシアナート
類を２モル程度、一般式（４）のα，ω−ジヒドロキシ
化合物を１モル程度用いるのがよい。該反応は、通常適
当な溶媒中で行なわれる。ここで溶媒としては、例えば
トルエン、ベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ジメチル
ホルムアミド等を用いてもよいが、上記一般式（４）の
α，ω−ジヒドロキシ化合物を溶媒として兼用すること
もできる。該反応は、通常８０〜３００℃程度の温度条
件下、２〜４８時間程度で完結する。
類及び一般式（４）のα，ω−ジヒドロキシ化合物の使
用割合としては、特に限定されるものではないが、通常
ＢＨＮ１モルに対して一般式（３）のジイソシアナート
類を２モル程度、一般式（４）のα，ω−ジヒドロキシ
化合物を１モル程度用いるのがよい。該反応は、通常適
当な溶媒中で行なわれる。ここで溶媒としては、例えば
トルエン、ベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ジメチル
ホルムアミド等を用いてもよいが、上記一般式（４）の
α，ω−ジヒドロキシ化合物を溶媒として兼用すること
もできる。該反応は、通常８０〜３００℃程度の温度条
件下、２〜４８時間程度で完結する。
【００１９】斯くして生成する本発明の一般式（１）で
表わされるポリウレタン類は、反応終了後、再沈殿法等
の慣用の手段により単離、精製される。
表わされるポリウレタン類は、反応終了後、再沈殿法等
の慣用の手段により単離、精製される。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、液晶を示す、剛直で化
学的に安定なナフタリン骨格を有するポリウレタンが提
供される。
学的に安定なナフタリン骨格を有するポリウレタンが提
供される。
【００２１】
【実施例】以下に参考例及び実施例を掲げて本発明をよ
り一層明らかにする。
り一層明らかにする。
【００２２】参考例１ ポリテトラメチレングリコール−１００（保土谷化学
（株）製、ＰＴＧ−１００、平均分子量Ｍｎ＝８７６）
１ミリモル及びＢＨＢ（４，４’−ビス（ヒドロキシメ
チル）ビフェニル）１ミリモルを２０ｍｌ三口フラスコ
に入れ、窒素置換した後、攪拌しながら２００℃に加熱
均一にした。次に室温まで冷却し、１．０２５ミリモル
のＤＤＩを加えた後、溶媒のｏ−ジクロロベンゼン５ｍ
ｌを加え、窒素置換し、１８０℃で攪拌した。反応器内
の溶液が均一になった後、更に１．０２５ミリモルのＤ
ＤＩを加え、窒素置換した後、１８０℃で２４時間攪拌
した。反応終了後、多量のメタノールを用いて生成物を
沈降精製した。収率は８５％であった。
（株）製、ＰＴＧ−１００、平均分子量Ｍｎ＝８７６）
１ミリモル及びＢＨＢ（４，４’−ビス（ヒドロキシメ
チル）ビフェニル）１ミリモルを２０ｍｌ三口フラスコ
に入れ、窒素置換した後、攪拌しながら２００℃に加熱
均一にした。次に室温まで冷却し、１．０２５ミリモル
のＤＤＩを加えた後、溶媒のｏ−ジクロロベンゼン５ｍ
ｌを加え、窒素置換し、１８０℃で攪拌した。反応器内
の溶液が均一になった後、更に１．０２５ミリモルのＤ
ＤＩを加え、窒素置換した後、１８０℃で２４時間攪拌
した。反応終了後、多量のメタノールを用いて生成物を
沈降精製した。収率は８５％であった。
【００２３】
【００２４】実施例１〜６ 対応する適当な原料を用い、参考例１と同様に処理し
て、下記表１に示すポリマーを得た。該ポリマーの収
率、Ｔｍ（℃）、Ｔｉ（℃）及び粘度も表１に併せて示
す。
て、下記表１に示すポリマーを得た。該ポリマーの収
率、Ｔｍ（℃）、Ｔｉ（℃）及び粘度も表１に併せて示
す。
【００２５】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−51413（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−41263（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−118815（ＪＰ，Ａ) 特公 昭45−13839（ＪＰ，Ｂ１) 高分子学会予稿集、41［３］（1992) Ｐ．865
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 【化１】 で表わされる繰返し単位を有し、重量平均分子量が５０
００〜２０００００の範囲にあるポリウレタン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5116735A JP2588830B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 液晶性ポリウレタン類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5116735A JP2588830B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 液晶性ポリウレタン類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06329749A JPH06329749A (ja) | 1994-11-29 |
| JP2588830B2 true JP2588830B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=14694496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5116735A Expired - Lifetime JP2588830B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 液晶性ポリウレタン類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2588830B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017014393A (ja) * | 2015-07-01 | 2017-01-19 | 東洋ゴム工業株式会社 | 液晶性ウレタン化合物、熱応答性液晶ポリウレタンエラストマー及びその製造方法 |
| KR102132986B1 (ko) * | 2018-11-26 | 2020-07-10 | 한국생산기술연구원 | 폴리우레탄 필름 형성용 조성물, 이로부터 유래된 폴리우레탄 필름 및 이를 포함하는 물품 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3628141A1 (de) * | 1986-08-19 | 1988-02-25 | Bayer Ag | Lineare polyurethan-elastomere und verfahren zu ihrer herstellung |
| JPH0641263A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-02-15 | Osaka Gas Co Ltd | 液晶性ポリウレタン類 |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP5116735A patent/JP2588830B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 高分子学会予稿集、４１［３］（１９９２）Ｐ．８６５ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06329749A (ja) | 1994-11-29 |
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