JP2587273Y2

JP2587273Y2 - 粉粒体の乾燥装置

Info

Publication number: JP2587273Y2
Application number: JP1992094279U
Authority: JP
Inventors: 雅昭野坂; 孔延滝野; 治松井
Original assignee: Matsui Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Matsui Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1992-12-22
Filing date: 1992-12-22
Publication date: 1998-12-16
Anticipated expiration: 2007-12-22
Also published as: JPH0651781U

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この考案は、プラスチック材料、
加工食品材料、医薬品材料などの粉粒体（以下材料とい
う）を乾燥（未結晶材料を結晶化する場合も含む）する
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の粉粒体の乾燥装置として
は、（イ）実開昭５５−６７９９３号公報記載のも
の、（ロ）実開昭５３−２２３７２号公報記載のもの
が知られている。上記従来例（イ）のものは、縦型のホ
ッパー状乾燥槽の乾燥室内にモータで回転される中空回
転軸を垂下するとともに、該中空回転軸の下端に円錐状
部を連設し、この円錐状部と中空回転軸部とに水平状撹
拌羽根を設ける一方、熱風を前記中空回転軸を経て円錐
状部まで供給して、前記撹拌羽根で撹拌しながら熱風乾
燥する構成を有するものである。

【０００３】従来例（ロ）のものは、横長の乾燥室の一
端側に材料入口を他端側に材料出口を有してなる乾燥槽
と、乾燥槽の乾燥室を２つ以上の乾燥ゾーンに区画形成
する１つ以上の仕切板と、乾燥槽の長手方向に乾燥室を
貫通して回転自在に横設した回転軸に、前記各乾燥ゾー
ンごとに対応して設けた撹拌羽根と、前記乾燥室内の粉
粒体を加熱する加熱装置を備えてなるものである。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】しかるに、上記従来例
（イ）の粉粒体の乾燥装置では、縦型のホッパー状乾燥
室で材料を垂直方向に送り出す構成としてあるから、乾
燥槽下部の材料は材料の自重により圧縮された状態で撹
拌力を受けるため、材料が変形、磨滅等の破損を受ける
欠点があった。

【０００５】上述のように、材料はその自重により圧縮
された状態で撹拌力を受けるため、所要撹拌動力が大き
い。

【０００６】材料の乾燥作業が連続処理方式の場合に
は、材料が前記中空回転軸に沿って優先して沈降し、シ
ョートパスし、或いは異常滞留が激しいという問題点が
あった。前記撹拌羽根の回転数を多くとって撹拌を高め
ると、ショートパスが大きくなるという相反する結果と
なる。

【０００７】ＰＥＴの結晶化等の乾燥過程において、材
料がゴム状になり粘着性を帯びるような場合には、撹拌
羽根で水平方向に撹拌するものであるため、撹拌羽根と
材料の伴廻り現象が起き易く、そういった場合には材料
が塊状に固まったりし、運転不可能となる欠点があっ
た。

【０００８】さらに、縦型乾燥槽の直径長さに対する高
さの比（Ｌ／Ｄ）は、バッチ処理方式では混合効果を期
待して１程度が良く、連続処理方式では乾燥槽内での材
料のマスフロー性、通風のマスフロー性を考慮して３以
上が良いといわれている。従って、この縦型乾燥槽でバ
ッチ処理と連続処理とを、良好な乾燥条件下で両立させ
ることは困難であった。

【０００９】従来例（ロ）の粉粒体の乾燥装置によれ
ば、上記従来例（イ）の有する欠点は解消されると考え
られる。しかしながら、この従来例（ロ）のものでは、
材料出口部分が攪拌羽根で充分に攪拌されず、また乾燥
室内で材料の滞留時間を任意に調節することもできない
上に、乾燥すべき材料をバッチ処理方式と連続処理方式
に切替えて乾燥することもできないものであった。

【００１０】この考案は、上記従来例（イ）、（ロ）の
有する問題点を解消したものを提供しようとするもので
ある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、この考案は、横長の乾燥室の一端側に材料入口を他
端側に材料出口を有してなる乾燥槽と、乾燥槽の乾燥室
を２つ以上の乾燥ゾーンに区画形成する１つ以上の仕切
板と、乾燥槽の長手方向に乾燥室を貫通して回転自在に
横設した回転軸に、前記各乾燥ゾーンごとに対応して設
けた撹拌羽根と、前記乾燥室内の粉粒体を加熱する加熱
装置を備えてなる粉粒体の乾燥装置であって、前記乾燥
槽の材料出口は、回転軸の軸線より上方位置における乾
燥槽の他端側に形成してあり、この材料出口は流体圧シ
リンダー等により常時は出口弁で閉弁され、次工程から
の材料要求信号に連動して前記出口弁が開弁されて、乾
燥された材料をオーバーフローさせるように構成してあ
ることを特徴とする。

【００１２】この場合、乾燥槽の材料出口の外側には、
該材料出口の開口断面積を変更するようにしたスライダ
ーを取り付けて、材料出口よりオーバーフローして排出
される材料のレベルを調節できるようにした方がよい。

【００１３】前記加熱装置としては、ブロワ等の空気源
と、この空気源からの気体を加熱するヒータとを備え、
該ヒータで加熱された乾燥ガスを、乾燥槽の乾燥室の材
料出口側に形成された乾燥ガス入口から同乾燥室内に導
入し、前記乾燥室の材料入口側に形成された乾燥ガス出
口から系外に排出する構成を採る方が好適である。また
は、乾燥槽の周囲に帯状ヒータを巻くなどのジャケット
を用いた構成でも実施できる。

【００１４】加熱装置による熱媒は、空気や不活性窒素
ガス等の気体を加熱したもの、除湿エアなど適宜用いる
ことができる。

【００１５】本考案では、乾燥槽を傾斜する傾斜機構を
設ける方が好ましく、この傾斜機構は本実施例ではラッ
クとピニオンとによっているが、油圧シリンダーその他
の手段であってもよい。

【００１６】また、乾燥槽の回転軸の軸線より下方位置
における乾燥槽の他端側には残材出口を形成してある方
が好ましい。この残材出口は、粉粒体の乾燥作業が連続
処理方式の場合には本来の残材の出口となり、バッチ処
理方式の場合には粉粒体の材料出口及び残材出口とを兼
用するとともに、この残材出口と材料出口とは切替機構
により切替え可能にするとよい。

【００１７】すなわち、連続処理方式のときには切替機
構により材料出口のみを開放して、乾燥室内で乾燥処理
された材料を連続的に該材料出口から排出する一方、乾
燥作業終了時には残材出口のみから乾燥室内の残材を排
出する。バッチ処理方式のときには前記材料出口を閉じ
残材出口から乾燥処理された材料を排出する一方、乾燥
作業終了時にも上記残材出口から乾燥室内の残材を排出
する。後者のバッチ処理方式の場合に上記連続処理方式
と同様に材料を処理することもできる。

【００１８】上記残材出口から残材を排出するときに
は、前述の傾斜機構によって、残材出口側を任意角度低
くすることにより、乾燥終了時における乾燥室内の残材
を充分に系外に排出することができる。

【００１９】乾燥ガス入口側と乾燥ガス出口側とに温度
センサを設け方がよく、その温度センサの検出温度に基
づいて乾燥室内の温度を制御する。また、各乾燥ゾーン
ごとに温度センサを設け、この温度センサの実測値に基
づいてヒータで温度調節する方がよい。

【００２０】乾燥室内の材料温度を各乾燥ゾーンごとに
設けた温度センサで測定し、その測定値に基づいて風量
を制御するようにするとよい。

【００２１】なお、乾燥槽には乾燥ガスが複数方向から
乾燥室内に向けて供給するようにして、乾燥室内の乾燥
温度分布を均一にするようにする方がよい。また、乾燥
室の各乾燥ゾーンには、空気振動波を供給するようにし
て、この空気振動波と撹拌羽根との相乗効果により材料
がより一層均一に乾燥されるようにすることもできる。

【００２２】

【第１実施例】この考案の第１実施例を図１ないし図４
に基づいて以下に説明する。１は、横長の直方体状で断
面Ｕ字状からなる乾燥槽本体２と、該乾燥槽本体２の上
部開口を閉塞する蓋体３とからなる乾燥槽であって、該
乾燥槽本体２の上部開口縁に形成した環状のフランジ４
と蓋体３の環状の外周端部３ａとを、ボルト５とナット
６等の締結部材で固定して密閉できるように被蓋してい
る。乾燥槽本体２と蓋体３とで形成される内部空間は熱
風等の乾燥ガスにより加熱される乾燥室７としてある。
この乾燥室７の一端側（図１で言えば右側壁２ａ）には
材料入口８が、他端側（図１で言えば左側壁２ｂ近くの
前側壁２ｃ）には材料出口９が形成されている。

【００２３】乾燥槽１をなす乾燥槽本体２の長手方向の
下部位置の右側壁２ａと左側壁２ｂとには軸穴１０、１
１が形成されており、この軸穴１０、１１同士間には回
転軸１２が回転自在に横架してあるとともに、該回転軸
１２の両端近くはベアリング１３、１３で支承されてい
る。回転軸１２の一方端側は、図１に示すようにカップ
リング（図示せず）を介してギヤードモータ等の駆動源
１５に接続してあり、従って前記駆動源１５を駆動する
ことにより前記回転軸１２が回転される。

【００２４】前記乾燥槽１には、乾燥室７内を２つ以上
の乾燥ゾーンａ、ｂ、ｃ、ｚに区画形成するように、乾
燥槽１の上端（蓋体３）から前記回転軸１２近くまで縦
方向に垂下された１つ以上つまり実施例では３つの仕切
板２０が設けられている。

【００２５】すなわち、図１及び図２に示すように、乾
燥槽本体２の長手方向の前側壁２ｃ及び後側壁２ｄの内
壁には、適当間隔をおいて縦長で断面コ字状の突条２
１、２１が内向きで対向した状態で、該乾燥槽本体２の
上部開口縁から前述した回転軸１２近くまで垂下して溶
接などにより固定してある。これらの突条２１には内向
きの嵌合溝２２が形成されている。そこで、対向してい
る１対の突条２１，２１の嵌合溝２２、２２に仕切板２
０の一端部２０ａと他端部２０ｂを嵌合して押し下げる
ことにより仕切板２０が乾燥室７内に着脱自在に組み付
けられる。

【００２６】そして、仕切板２０の底部中央は、図２に
示すように、前記回転軸１２に接触しないように円弧状
の切欠き２０ｃを形成している。

【００２７】この実施例では、３個の仕切板２０により
４つの乾燥ゾーンａ、ｂ、ｃ、ｚを形成しているが、１
個の仕切板２０により２つの乾燥ゾーン、２個の仕切板
２０により３つの乾燥ゾーンの如く、仕切板２０を増減
することにより任意の数の乾燥ゾーンを形成することが
できる。また、複数の乾燥ゾーンに仕切るための仕切板
２０の具体的構造や、該仕切板２０の組付け構造等は適
宜設計変更できる。

【００２８】各乾燥ゾーンａ，ｂ，ｃ，ｚ内には、回転
軸１２を中心として一直線上に適宜形状の撹拌羽根２５
…２５が取り付けられている。この撹拌羽根２５の具体
的形状や個数等は適宜設計変更できる。

【００２９】乾燥室７内の粉粒体（材料）は加熱装置３
０から供給される加熱空気や不活性ガス或いは除湿エア
によって加熱（乾燥）される。前記加熱装置３０として
は、ブロワ等の空気源３３と、この空気源３３からの気
体を加熱するヒータ３４とを備え、前記ヒータ３４で加
熱された乾燥ガスを、乾燥槽１の乾燥室７の材料出口９
側に形成された乾燥ガス入口３１から同乾燥室７内に導
入し、前記乾燥室７の材料入口８側に形成された乾燥ガ
ス出口３２から系外に排出する構成を採っている。

【００３０】材料入口８には第１の材料供給管３７が接
続されているとともに、該第１の材料供給管３７の中途
には第２の材料供給管３８が接続されている。第１の材
料供給管３７は連続処理方式に用いるもので、中途にロ
ータリフィーダ等の定量供給フィーダ３９を取り付けて
あり、乾燥すべき材料を乾燥室７内に定量供給する。し
かし定量供給フィーダ３９に代えて非定量供給フィーダ
やバルブなどでもよいし、このような供給フィーダを設
けない構成でも実施できる。第２の材料供給管３８はバ
ッチ処理方式に用いるもので、中途にバルブ４０を取り
付けてあり、該バルブ４０を開くことにより乾燥すべき
材料を乾燥室７内に供給する。このバルブ４０に代えて
供給フィーダを設けてもよいし、該バルブ４０を設けな
い構成も実施できる。

【００３１】図１に示すように切替弁４１を設けて、連
続処理方式とバッチ処理方式とを選択するようにもでき
る。材料の供給手段は前述のほかに適宜設計変更でき
る。

【００３２】材料出口９は回転軸１２の軸線より上方位
置における乾燥槽１の他端側に形成され、かつ第１材料
排出管４２と接続されている。該第１材料排出管４２の
中途にはバルブ４３を経てロータリーフィーダ等の排出
フィーダ４４が接続されているとともに、前記バルブ４
３を開弁することにより乾燥された材料がオーバーフロ
ーして排出するようにしてある。なお、排出フィーダ４
４は、乾燥ガス入口３１より供給される熱風が第１材料
排出管４２側へ吹き抜けないように働くものである。こ
の第１材料排出管４２のルートは、通常は連続処理運転
時に使用される。

【００３３】乾燥槽１の材料出口９に接続される材料排
出手段は、前述の構成に限らない。例えば、図４に示す
ように、乾燥槽１の材料出口９を回転軸１２の軸線より
上方位置に形成するとともに、材料排出ケース６６に取
り付けたエアシリンダー等の流体圧シリンダー６５と、
流体圧シリンダー６５のピストンロッド６７の先端に接
続した出口弁６８とを備え、この出口弁６８により材料
出口９を常時閉弁する一方、出口弁６８の開弁により材
料出口９から乾燥済み材料を出口６９より排出する構成
のものでもよい。なお、図４に仮想線で示しているよう
に、材料排出ケース６６の出口６９に配管７０を介して
接続された受けホッパー７１に取り付けたレベル計７２
の材料の要求信号に連動して、流体圧シリンダー６５の
ピストンロッド６７が作動して出口弁６８を開弁し、加
熱乾燥された材料をオーバーフローして前記材料排出ケ
ース６６の出口６９より受けホッパー７１へ排出される
ようにすることもできる。

【００３４】乾燥槽１の回転軸１２の軸線より下方位置
における乾燥槽１の他端側には残材出口４５を形成して
ある。この残材出口４５には第２材料排出管４６がバル
ブ４７を介して接続されている。残材出口４５は、粉粒
体の乾燥作業が連続処理方式の場合には本来の残材の出
口となり、バッチ処理方式の場合には粉粒体の材料出口
及び残材出口とを兼用するとともに、この残材出口４５
と材料出口９とは切替機構４８たる前記バルブ４３、４
７により切替えできる。

【００３５】乾燥槽１を載置する架台２９には、ピニオ
ン２７とラック２８からなる傾斜機構２６が備えられて
おり、この傾斜機構２６を図１の状態から図３の状態へ
同動することにより、図１の如く正立姿勢の乾燥槽１を
図３の如く傾斜姿勢とすることができ、この傾斜姿勢に
より乾燥室７内の残材が効率よく系外へ排出できる。２
９ａは支点である。

【００３６】乾燥ガス入口３１側と乾燥ガス出口３２側
とに温度センサＴ１、Ｔ２を設けてある。この温度セン
サＴ１、Ｔ２に代えて、図１に鎖線で示すように各乾燥
ゾーンａ…ｚごとに温度センサＴ４、Ｔ５、Ｔ６、ＴＺ
を設け、各温度センサＴ４…ＴＺの実測値に基づいて前
記ヒータ３４の温度を温度調節器を介して調節すること
ができる。

【００３７】乾燥室７内の材料温度を各乾燥ゾーンａ…
ｚごとに設けた温度センサＴ４、Ｔ５、Ｔ６…ＴＺで測
定し、その測定値に基づいて風量を制御することもでき
る。

【００３８】図１で１６はレベル計で、このレベル計１
６で乾燥槽１内に供給される材料のレベルを検出する。
図２で２４は材料Ｍ及び熱風等の乾燥ガスが流通するエ
リアである。

【００３９】

【作用】この考案の作用を第１実施例に基づいて以下に
説明する。便宜上、（１）バッチ処理方式の場合と、
（２）連続処理方式の場合に分けて説明する。

【００４０】（１）バッチ処理方式の場合撹拌羽根２５で撹拌しながら、材料（粉粒体）を、
バルブ４０を開いて第２の材料供給管３８から材料入口
８を経て乾燥室７内に所定量投入する。すると、投入さ
れた材料Ｍは図２に示す如く、撹拌羽根２５の作用で矢
印方向に押し上げられながら、仕切板２０の下をくぐ
り、順次複数の乾燥ゾーンを通過し材料出口９側へ移動
して行く。乾燥室７内への材料の供給量が所望量に達し
たことをレベル計１６が検知すると、上記材料の供給は
停止され、加熱装置３０により加熱が開始される。

【００４１】加熱装置３０による加熱は、空気源３
３で送風し、ヒータ３４で加熱された乾燥ガス（熱風）
が温度センサＴ１で測温して温度調節器により所定温度
にコントロールされ、乾燥ガス入口３１から乾燥室７内
に送風される。

【００４２】乾燥室７内に入った乾燥ガスは仕切板
２０の下をくぐり、順次複数の乾燥ゾーンａ、ｂ、ｃ、
ｚを通過しながら材料を加熱し、乾燥ガス出口３２から
排気される。

【００４３】温度センサＴ２で材料が所定の温度に
到達したことの確認をもって処理終了とするとか、又は
タイマーによる計時、或いは所定温度に到達した後タイ
マーによる計時等の方法で処理終了とする。

【００４４】上記処理終了後は、傾斜機構２６によ
り乾燥槽本体２を所定角度傾斜させて、バルブ４７を開
き材料を全量排出する。

【００４５】上記操作を同様に繰り返す。

【００４６】（２）連続処理方式の場合撹拌羽根２５で撹拌しながら、材料を、定量供給フ
ィーダ３９で計量して第１の材料供給管３７から材料入
口８を経て乾燥室７内に所定量投入する。レベル計１６
により乾燥室７への所望量を計量して、所望量の達成後
は材料の投入を一亘中止し、バッチ処理方式の場合と同
様に材料を加熱装置３０により加熱する。

【００４７】その後は、バッチ処理の場合で述べた
、、の工程を経て初期投入分の材料の乾燥処理が
終了する。この処理が終了したことを確認し、以降連続
処理運転に移行する。

【００４８】バルブ４３を開き、定量供給フィーダ
３９を経由して材料を連続的に定量供給する。乾燥槽１
の材料出口９から排出される乾燥された材料は、オーバ
ーフローして排出するものであるから、定量供給フィー
ダ３９より定量供給された量に見合う分だけが、均衡し
て安定的にバルブ４３及び排出フィーダ４４を経て第１
材料排出管４２より連続して排出される。上述の連続運
転は、次工程からの信号により断続運転とすることもで
きる。この場合、乾燥ガスの送風と撹拌操作は連続して
行なう。

【００４９】上記処理終了後は、バッチ処理方式の
場合と同様に、傾斜機構２６により乾燥槽１を傾斜して
乾燥室７内の材料を全量排出する。

【００５０】

【第２実施例】図５に第２実施例を示す。この実施例
は、乾燥槽１には乾燥ガスが複数方向から乾燥室７内に
向けて供給するようにしてあるとともに、その乾燥ガス
出口３２、３２を蓋体３側に形成してなる点に顕著な特
徴を有し、その他の構成は図１と同様にしてなるもので
ある。このように、乾燥ガスの貫流ルートを２方向以上
から行うと、バッチ処理運転の際に材料の温度及び温度
分布のバラツキを少なくすることができ、乾燥処理能力
が増大される。この場合も、図４に示す材料排出手段を
設けることともできる。

【００５１】

【第３実施例】図６は第３実施例を示す。この実施例
は、乾燥ガス入口３１側には各乾燥ゾーンａ…ｚごとに
温度センサＴ４…ＴＺを設け、前記温度センサＴ４…Ｔ
Ｚの実測値に基づいてヒータ３４_ｌ…３４_ｚで温度調節
できるようにしてある。これによって、乾燥室７内の各
乾燥ゾーンａ…ｚの乾燥温度をそれぞれの温度センサで
個別に検出して、その検出値に応じて各乾燥ゾーンａ…
ｚごとに設けた温度調節器により各乾燥ゾーンａ…ｚを
個別に独立して温度調節することができるため、乾燥室
７全体の所望温度への調節が精確にできる。この第３実
施例では、ヒータ３４_ｌ…３４_ｚの熱エネルギーを空気
源３３により乾燥室７の下方から送り込み、排気ガスは
上方の乾燥ガス出口３２から系外に排気するようにして
ある。この排気はワンパス式でもよいし、例えば１つの
排気室に集めてから循環パイプによって前記空気源３３
に戻して循環させる循環方式でもよい。後者の循環方式
の場合は循環パイプの中途に除湿ユニットや集塵フィル
タなどを接続する方が好適である。なお、図６で４９は
多孔板である。

【００５２】また、図６の構成において、乾燥室７内の
材料温度を各乾燥ゾーンａ…ｚごとに設けた温度センサ
Ｔ４、Ｔ５、Ｔ６…ＴＺで測定し、その測定値に基づい
て風量を制御できるようにすることができる。これによ
って、風量の供給量の無駄をなくすものである。なお、
この第３実施例でも、図４に示す材料排出手段を設ける
こともできる。

【００５３】

【第４実施例】図７は第４実施例を示す。この実施例
は、本考案に係る乾燥装置を予備加熱装置（ＰＥＴ等の
場合は予備結晶化装置）として担わせ、この乾燥装置に
本乾燥装置５０と除湿装置５１とを接続してなるもので
ある。

【００５４】すなわち、材料供給部を除いて図１と同一
に形成した粉粒体の乾燥装置において、乾燥ガス導入管
３５の一端をラインフィルタ５２を介して本乾燥装置５
０の上部に接続するとともに、第１材料排出管４２及び
第２材料排出管４６の一端を同様にして本乾燥装置５０
の上部に接続する。また、乾燥ガス出口３２と接続した
乾燥ガス排気管５３の一端を除湿装置５１に接続すると
ともに、除湿装置５１で除湿された気体を空気源５４の
気力で前記本乾燥装置５０へ送る送風管５５を、除湿装
置５１と本乾燥装置５０間に接続する。

【００５５】従って、乾燥槽１と本乾燥装置５０と除湿
装置５１とは、乾燥ガス導入管３５、第１材料排出管４
２、第２材料排出管４６、送風管５５及び乾燥ガス排気
管５３とにより閉回路を形成する。空気源５４は吸込側
が乾燥ガス排気管５３と、吐出側が送風管５５と接続さ
れている。５６はヒータ、５７は制御用温度センサ、５
８はレベル計である。

【００５６】材料は撹拌羽根２５で撹拌されながら乾燥
ガス導入管３５からの乾燥ガスにより乾燥されて行く。
乾燥された材料は第１または第２の材料排出管４２、４
６から本乾燥装置５０へ排出される。本乾燥装置５０内
の材料は、ヒータ５６及び空気源５４により除湿加熱さ
れたエアにより本乾燥され、所望の含水率に到達した時
に排出口５９より排出される。本乾燥装置５０内の排気
ガスはラインフィルタ５２で濾過されてからヒータ３４
で所望温度まで加熱され、乾燥ガス入口３１から乾燥室
７内に供給される。なお、この第４実施例でも、図４に
示す材料排出手段を設けることもできる。

【００５７】

【第５実施例】図８は第５実施例を示す。この実施例
は、図１と同様とした乾燥槽１の蓋体３を屋根形状にす
るとともに、該蓋体３内をも各乾燥ゾーンａ、ｂ、ｃ、
ｚに仕切るように仕切板２０、２０、２０の形状を変
え、さらに各乾燥ゾーンａ、ｂ、ｃ、ｚには空気源又は
動力源６０と空気振動源６１とにより空気振動波を、導
管６２を介して供給するようにしてある点に顕著な特徴
を有し、その他の構成は図１と同様にしてあるものであ
る。

【００５８】つまり、この実施例は、空気源又は動力源
６０及び空気振動源６１によって空気を低周波ないし中
周波帯域の音波として振動させ、その空気振動波により
乾燥室７内の材料の表面又は内部を振動させることによ
って乾燥効率等を高めるものである。空気振動波を発生
させる具体的構成としては、例えば特願平４−９０４０
６号明細書、特願平４−１１２９９１号明細書において
説明している通りである。その他任意構成を採用し得る
ことは勿論である。なお、上記音波はパルスまたは正弦
波等の波形として適宜変更できるようにするとよい。こ
の第５実施例でも、図４に示す材料排出手段を設けるこ
ともできる。

【００５９】各実施例で示された材料排出手段として
は、材料出口９の開口断面積を変更できるような構成と
することができる。例えば図９に示すような構成とする
ことができる。図９に示されているように、乾燥槽本体
２の前側壁２ｃの材料出口９と出口６９が連通するよう
に、乾燥槽本体２の材料出口９の外側近辺に、上部にイ
ンサート板８０を下部に把持部８１ａを有するスライダ
ー８１を介在した状態で材料排出ケース６６を取り付け
る。インサート板８０は材料排出ケース６６の上部のフ
ランジ６６ａと乾燥槽本体２の前側壁２ｃとの間に介在
してボルト８２とナット８３で固定する。スライダー８
１の一方側側壁近くには縦長の長孔（図示せず）が形成
されている。このスライダー８１は材料排出ケース６６
の下部フランジ６６ｂと前記乾燥槽本体２の前側壁２ｃ
との間に上下動自在に介在され、該スライダー８１の所
定高さ位置において、ボルト８４を前記長孔に挿入しそ
のボルト８４の先端側をナット８５で位置決めして固定
するようにしてある。このようにして、スライダー８１
を上下動することにより、材料出口９の開口断面積を変
更して、材料出口９からオーバーフローして排出される
材料のレベルを調節することができる。スライダー８１
はその他の構造を採用することもできる。図９で、６５
は流体圧シリンダー、６７はピストンロッド、６８は出
口弁である。

【００６０】各実施例で示された残材出口４５に接続さ
れた残材排出手段は、既述した構成のほかに、図１０に
示すように、図４で示された材料排出手段と同様に構成
したものでもよい。この図１０の残材排出手段は図４の
材料排出手段と同一であるので、便宜上図４の符号と同
一符号を付している。詳細な説明は前述しているので省
略する。

【００６１】（１）この考案の実施例によれば、前述
したように、横長の乾燥室の一端側に材料入口を他端側
に材料出口を有してなる乾燥槽と、乾燥槽の乾燥室を２
つ以上の乾燥ゾーンに区画形成する１つ以上の仕切板
と、乾燥槽の長手方向に乾燥室を貫通して回転自在に横
設した回転軸に、前記各乾燥ゾーンごとに対応して設け
た撹拌羽根と、前記乾燥室内の粉粒体を加熱する加熱装
置とを備え、水平方向に横長の撹拌式乾燥室を有し、材
料を水平方向に送り出す構成であるから、材料の自重に
よる圧縮が少ないため、撹拌による材料の変形や磨滅等
の損傷が少なくなるばかりか、撹拌に要する動力も少な
くなる利点がある。

【００６２】（２）撹拌羽根で材料を垂直方向に撹拌
するため、重力による作用が付加される結果、撹拌羽根
と材料が伴廻りすることがない。また材料の自重による
圧縮も少ないので、撹拌効果も向上され、ＰＥＴ結晶化
等の場合においても材料が塊状に固まることがない。

【００６３】（３）連続処理方式の場合においても、
材料の移動方向（水平方向）と、撹拌羽根の撹拌方向
（垂直方向）とが直交していることと、乾燥室内を２つ
以上の乾燥ゾーンに仕切る１つ以上の仕切板を設けてい
ることから、従来の縦型のホッパ状乾燥室のものと比べ
て、材料のショートパスや異常滞留が格段に少なくな
る。

【００６４】（４）上記（２）、（３）の理由によ
り、本考案によればバッチ処理と連続処理のいずれも
が、一つの本案装置によりその利点を損なうことなく兼
用することができる。

【００６５】

【考案の効果】この考案によれば、乾燥槽の材料出口
は、回転軸の軸線より上方位置における乾燥槽の他端側
に形成してあり、この材料出口は常時は出口弁で閉弁さ
れ、次工程からの材料要求信号に連動して、前記出口弁
が開弁されて乾燥された材料をオーバーフローさせるよ
うに構成してあるから、材料出口部分が撹拌羽根で撹拌
されないということがない。

【００６６】また、この考案によれば、材料出口の外側
に設けたスライダーを操作して該材料出口の開口断面積
を変更することにより、乾燥室内における材料の充填量
を調整して、材料の連続乾燥処理における乾燥室内での
材料の滞留時間を任意に調整することができる。

【００６７】さらに、この考案の残材出口は、粉粒体の
乾燥作業が連続処理方式の場合には本来の残材の出口と
なり、バッチ処理方式の場合には粉粒体の材料出口及び
残材出口とを兼用するとともに、この残材出口と材料出
口とは切替機構により切替え可能にしてあるため、一台
の本案品でバッチ処理方式と連続処理方式とに円滑に切
替えて使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例の正面から見た要部縦断面図であ
る。

【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う縦断面図である。

【図３】乾燥槽を図１の正立姿勢から傾斜姿勢にした要
部縦断面図である。

【図４】材料排出手段の要部縦断面図である。

【図５】第２実施例の要部縦断面図である。

【図６】第３実施例の要部縦断面図である。

【図７】第４実施例の要部縦断面図である。

【図８】第５実施例の要部縦断面図である。

【図９】材料排出手段の変形例を示す要部縦断面図であ
る。

【図１０】残材排出手段の他の変形例を示す要部縦断面
図である。

【符号の説明】

１乾燥槽３５乾
燥ガス導入管７乾燥室３６乾
燥ガス排気管８材料入口４５残
材出口９材料出口４６第
２材料排出管１２回転軸５０
本乾燥装置１５駆動源６０
空気源又は動力源２０仕切板６１
空気振動源２５撹拌羽根６２
導管２６傾斜機構６５
流体圧シリンダー３０加熱装置６８
出口弁３１乾燥ガス入口８１
スライダー３２乾燥ガス出口ａ〜ｚ
乾燥ゾーン３３、５４空気源Ｔ１、Ｔ２
温度センサ３４ヒータＴ４〜Ｔ６
温度センサ３４_ｌ〜３４_ｚヒータＴＺ
温度センサ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献実開昭53−22372（ＪＰ，Ｕ) 実開昭52−22265（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) F26B 11/14 F26B 21/10 F26B 21/12

Claims

(57)【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】横長の乾燥室の一端側に材料入口を他端
側に材料出口を有してなる乾燥槽と、乾燥槽の乾燥室を
２つ以上の乾燥ゾーンに区画形成する１つ以上の仕切板
と、乾燥槽の長手方向に乾燥室を貫通して回転自在に横
設した回転軸に、前記各乾燥ゾーンごとに対応して設け
た撹拌羽根と、前記乾燥室内の粉粒体を加熱する加熱装
置とを備えてなる粉粒体の乾燥装置であって、前記乾燥槽の材料出口は、回転軸の軸線より上方位置に
おける乾燥槽の他端側に形成してあり、この材料出口は
常時は出口弁で閉弁され、次工程からの材料要求信号に
連動して前記出口弁が開弁されて乾燥された材料をオー
バーフローさせるように構成してあることを特徴とする
粉粒体の乾燥装置。
【請求項２】乾燥槽の材料出口の外側には、該材料出
口の開口断面積を変更するようにしたスライダーを取り
付けてある請求項１に記載の粉粒体の乾燥装置。
【請求項３】乾燥槽の回転軸の軸線より下方位置にお
ける乾燥槽の他端側には残材出口を形成してある請求項
１または２に記載の粉粒体の乾燥装置。
【請求項４】残材出口は、粉粒体の乾燥作業が連続処
理方式の場合には本来の残材の出口となり、バッチ処理
方式の場合には粉粒体の材料出口及び残材出口とを兼用
するとともに、この残材出口と材料出口とは切替機構に
より切替え可能にしてある請求項３に記載の粉粒体の乾
燥装置。