JP2575726B2 - 回転子コイルの絶縁ワニス含浸処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、電動機等の回転子コイル（ロータコイル）
に絶縁ワニスを含浸処理する方法に関する。

（従来の技術） 従来から特に大型の回転子コイルの絶縁ワニス含浸処
理方法としては、第２図に示すように、槽内に収容され
た絶縁ワニス１中に回転子コイル２を、巻線部３の整流
子側を下にしシャフト４を立てて手作業で浸漬する（デ
ィップ）方法が行われている。

また、普通サイズの回転子コイルをはじめとする電気
機器部分の一般的な絶縁ワニス処理方法としては、第３
図に示すように、回転子コイル２をシャフト４を水平に
して自転させながら絶縁ワニス１中に浸漬する回転ディ
ップ方法や、或いは回転子コイル２をシャフト４を水平
にして自転させ、その巻線部３の両端にそれぞれノズル
５から絶縁ワニス１を少量ずつ滴下する滴下含浸方法
（ドリップ方法）等の連続含浸処理方法が行われてい
る。

（発名が解決しようとする問題点） しかしながら、これらの絶縁ワニス含浸処理方法にお
いては、それぞれ以下に示すような種々の問題点があっ
た。

すなわちディップ方法においては、付着不要部である
シャフト４に絶縁ワニス１が付着するため、後工程でワ
ニス剥離を行われなければならず、作業効率が悪いばか
りでなく、乾燥硬化工程で絶縁ワニス１の落下や流出が
生じ、巻線部３への含浸量が低下したりバランスが悪く
なったりしやすい。

また回転ディップ方法や滴下含浸方法をそのまま大型
回転子コイルの含浸処理方法として採用した場合には、
含浸に時間がかかるばかりでなく、スロット中央部の巻
線部３まで絶縁ワニス１が浸透しにくく、信頼性の高い
製品が得られないという問題があった。

本発明はこれらの問題を解決するためになされたもの
で、シャフトへの絶縁ワニスの付着がなく、巻線部全体
に充分に絶縁ワニス含浸がなされ、かつ連続ラインによ
る処理が可能な回転子コイルの絶縁ワニス含浸処理方法
を提供することを目的とする。

［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明の回転子コイルの絶縁ワニス含浸処理方法は、
シャフトを水平にして配置され、かつ前記シャフトを軸
として自転する回転子コイルの整流子側巻線部に、絶縁
ワニスを滴下して含浸させた後、この回転子コイルをそ
のまま自転させながらシャフトの下の位置まで絶縁ワニ
ス中に浸漬し、巻線部全体に前記絶縁ワニスを含浸させ
ることを特徴としている。

（作用） 本発明において回転子コイルは、まず整流子側の巻線
部にだけ上から絶縁ワニスを滴下される。このとき、ス
ロット内の空気は、反対側の開口部から逃散してゆくの
で、滴下された絶縁ワニスは整流子側から巻線部内を徐
々に浸透してゆく。

こうして浸透した絶縁ワニスが巻線部のほぼ全体に及
んだ後、これを自転させながらシャフトの下の位置まで
絶縁ワニス中に浸漬することによって、巻線部全体に絶
縁ワニスが充分に含浸される。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図面に基いて説明する。

実施例においては、まず第１図（ａ）に示すように、
回転子コイル６をシャフト７を水平にし、かつこのシャ
フト７の周りに自転させ、この回転子コイル６の整流子
側巻線部８にだけ、ノズル９から絶縁ワニス10を滴下さ
せて含浸させる。

次いで自転を続けさせたまま、第１図（ｂ）に示すよ
うに回転子コイル６の下方に配置された絶縁ワニス槽11
を上昇させる、或いは回転子コイル６自体を移動させる
等の方法で、回転子コイル６をそのシャフト７のすぐ下
に液面がくるまで絶縁ワニス10中に浸漬させる。

このように構成される実施例の方法においては、まず
巻線部８の片側にだけ絶縁ワニス10の滴下含浸が行われ
るが、このとき巻線部８の反対側には空気の逃げ路が確
保されているので、スロット内に含まれた空気は、絶縁
ワニス10の浸透に伴って整流子と反対側の開口端から押
し出されてゆく。

次いで、この回転子コイル６を自転させながら絶縁ワ
ニス10中に浸漬することによって、スロット内に空気が
残留することなく、巻線部８全体に完全に絶縁ワニス10
が含浸される。

また、シャフト７が絶縁ワニス10中に浸漬することが
ないので、この部分へのワニス付着が起こらず、後処理
を必要としない。

［発明の効果］ 以上の説明から明らかなように、本発明においては一
方の開口端から空気を逃がしながら巻線部の一端に絶縁
ワニスの滴下含浸を行った後、回転ディップ法によって
巻線部全体に含浸させているので、巻線部の表面，内部
スロット内全てに絶縁ワニスが充分に含浸され、コイル
とコアが一体に絶縁処理される。

また、シャフトのワニス剥離等の後処理作業を必要と
せず、連続ライン化が可能である。

さらに、スロット中央部における巻線部のずれや動き
も防止することができる。

またさらに本発明の方法を行う装置，設備としては、
新規のものを必要とせず、既存のディップ方式の設備の
絶縁ワニス配管系から、滴下ノズルラインを分岐させる
だけでよい。従って設備コストが従来に比べてほとんど
変わらないという利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法の一実施例を示す模式図、第２図
ないし第４図はそれぞれ従来の絶縁ワニス含浸処理方法
を示す模式図である。 １、10……絶縁ワニス ２、６……回転子コイル ３、８……巻線部 ４、７……シャフト ５、９……ノズル

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】シャフトを水平にして処置されかつ前記シ
   ャフトを軸として自転する回転子コイルの整流子側巻線
   部に、絶縁ワニスを滴下して含浸させた後、この回転子
   コイルをそのまま自転させながらシャフトの下の位置ま
   で絶縁ワニス中に浸漬し、巻線部全体に前記絶縁ワニス
   を含浸させることを特徴とする回転子コイルの絶縁ワニ
   ス含浸処理方法。