JP2571869B2 - アルカリ溶液で現像可能な液体写真用組成物 - Google Patents

アルカリ溶液で現像可能な液体写真用組成物

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JP2571869B2 JP22501090A JP22501090A JP2571869B2 JP 2571869 B2 JP2571869 B2 JP 2571869B2 JP 22501090 A JP22501090 A JP 22501090A JP 22501090 A JP22501090 A JP 22501090A JP 2571869 B2 JP2571869 B2 JP 2571869B2
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は、プリント配線板のための永久保護層とし
て、即ち、はんだマスクとして使用できる、アルカリ溶
液で現像可能な、液体の画像生成組成物に係わる。
はんだマスクは、はんだプロセスの間における短絡を
防止し、腐食から金属ワイヤを保護し、及び、良好な電
気絶縁を維持するための、プリント配線板の表面上の被
覆層として使用される。はんだマスクの性能は、その耐
熱度と、耐溶剤性と、及び、接着強さとによって決定さ
れる。これらの特性は、一般的に、次のように測定され
る。即ち、そのはんだマスクで被覆された試験プレート
が、10秒間に亙って240〜280℃の溶融スズ−鉛はんだの
中に漬けられ、その後で、2分間に亙ってジクロロメタ
ンの中に漬けられる。その後で、接着強さ試験が、3M C
orporation,USAから市販のNo.600接着テープを用いて行
われる。はんだ防止層の剥離は観察されてもよいが、適
切なはんだマスクは、そうした試験の下での剥離の痕跡
を全く示してはならない。
プリント配線板上のより精巧で及びより近接したワイ
ヤラインのための基準に適合するために、写真用塗膜形
成はんだマスクが開発されてきた。そうしたはんだマス
クは、特定の波長範囲の光による照射を用いて重合する
ことが可能な光重合組成物である。この組成物がマスク
によって覆われる場合には、この組成物の非照射区域は
重合されず、従って、その後で、溶剤又はアルカリ溶液
を用いる溶解によって除去されることになろう。その後
に、重合されたはんだ防止層の画像が得られる。その
後、更にこの画像は、紫外線光を照射され又は約150℃
に加熱され、その結果、より強い保護層を与える。
写真用はんだマスクは、乾燥薄膜と液体タイプとに分
類されることが可能である。欧州特許出願第EP 0 115 3
54号は、ポリエステル薄膜とポリビニルエステル薄膜と
の間に光重合性組成物が挿入される、乾燥薄膜タイプの
はんだマスクを開示する。前記薄膜が使用される時に
は、前記ポリビニル薄膜が取り除かれ、その残った層が
プリント配線板上に押し付けられる。この薄膜の欠点
は、ワイヤライン間においては貧弱な接着しか得られな
いということである。ワイヤライン間の間隙が8mm未満
である場合には、更に悪い結果が得られることが多い。
これとは反対に、液体状の写真用はんだマスクは、プ
リント配線板基板に対する流動性及び湿潤性がより良好
であるが故に、優れた接着強さを有する。
写真用はんだマスクは溶剤を用いて現像されることが
可能である。しかし、溶剤の使用は環境上の問題を引き
起こし、及び、溶剤回収のためにコストが更に上昇す
る。
1%の水性Na2CO3溶液のような水性アルカリ溶液も、
写真用はんだマスクを現像するために使用されてきた。
こうした水性アルカリ溶液が、70wt%より高い固形分を
含む写真はんだマスクと組み合わされて使用される場合
には、環境汚染問題が著しく軽減されることが可能であ
る。
従来は、アルカリ溶液で現像可能なはんだマスクは、
酸基を含む直鎖状ポリマーバインダーと、感光性の又は
感熱性の架橋モノマーと及び光開始剤とから成る。類似
のはんだマスクが、例えば、欧州特許出願第EP 0 115 3
51号と及び日本公開特許出願昭62−160440号に開示され
ている。その酸性バインダーは、感光性又は感熱性架橋
反応には関与せず、従って、その組成物が弱アルカリ溶
液を用いて現像されることも可能ではあるが、高温度に
おける焼成の後にその結果として得られる架橋薄膜は、
5%NaOHのような強アルカリ溶液の腐食に耐えることが
できない。そうした薄膜では、(例えばCH2Cl2に対する
ような)耐溶剤性と、耐熱性と及び衝撃強さとのような
その他の特性も、劣ったものである。こうした特性上の
欠点は、前記酸性バインダーの高い溶解度と及び小さな
分子量のモノマーの脆弱な架橋構造とに起因する。
発明の要約 従って、本発明の目的は、永久保護層としてプリント
配線板上に使用可能な、アルカリ溶液で現像可能な液体
画像生成組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、プリント配線板上の金属ワイヤ
を腐食から保護するために使用される、アルカリ溶液で
現像可能な液体画像生成組成物を提供することである。
本発明の更に別の目的は、良好な電気的特性と、高温
度に対する耐久性と及び溶剤に対する抵抗性とを有す
る、アルカリ溶液で現像可能な液体画像生成組成物を提
供することである。
本発明の、これらの目的と及びその他の目的と、利点
と並びに特徴とは、本明細書の記載を参照することによ
って更に十分に理解され認識されるだろう。
発明の詳細 本発明は、プリント配線板のための永久保護層、即
ち、はんだマスクとして使用可能な、アルカリ溶液で現
像可能な液体画像生成組成物に係わり、この組成物は、 a)ヒドロキシル含有ユニットと、カルボキシル含有ユ
ニットと及び側鎖不飽和二重結合含有ユニットとから本
質的に成るアクリルコポリマーであって、前記コポリマ
ーの数平均分子量が3,000〜100,000であり、前記コポリ
マーの酸価が30mg KOH/g以上であり、前記ヒドロキシル
含有ユニットが前記コポリマーの3〜15モルパーセント
を成し、前記カルボキシル含有ユニットが前記コポリマ
ーの5〜45モルパーセントを成し、及び、前記懸垂不飽
和二重結合含有ユニットが前記コポリマーの5〜40モル
パーセントを成すアクリルポリマー20〜80重量%と、 b)2つ以上の二重結合を有するヒドロキシル含有光反
応性モノマー5〜40重量%と、 c)メラミン化合物5〜30重量%と、並びに、 d)遊離基光開始剤0.5〜12重量%とから成る。
本発明に従って、前記組成物は、アルカリ溶液で現像
可能な光重合組成物に係わり、この組成物は、少なくと
も、 (1)ヒドロキシ基と、カルボキシル基と及び分枝不飽
和炭素二重結合とを有し、並びに、数平均分子量が3,00
0〜100,000であり及び酸価が30mg/KOH/g以上である、ア
クリルコポリマーと、 (2)その不飽和炭素二重結合官能基の数が2つ以上で
あるヒドロキシ基を有する光反応性モノマーと、 (3)メラミン化合物と、並びに、 (4)遊離基光開始剤とから成る。
本発明のこの組成物の組成を適用することによって、
良好な電気的特性と、良好な耐高温度性と及び良好な耐
溶媒性とを有する保護薄膜が得られることが可能であ
り、この薄膜は特にはんだ防止剤としてプリント配線板
に使用されるのに適している。
本発明の組成物の特徴の1つは、架橋官能基の数が多
いということである。従って、被覆された薄膜の架橋度
が非常に高く、従って、前記組成物は良好な耐熱性及び
耐溶剤性を有することになる。
ヒドロキシ基と、カルボキシル基と及び分枝不飽和炭
素二重結合とを有するコポリマーの合成は、2つの段階
から成る。第1の段階は、直鎖状アクリルポリマーの合
成であり、及び、第2の段階は、前記分枝不飽和炭素二
重結合の前記ポリマーへの付加である。直鎖状アクリル
ポリマーの重合においては、この直鎖状ポリマーは、次
のモノマー、即ち、 (a)0.05〜0.3モル分率(モルパーセント)の、ヒド
ロキシ基を有するアクリルモノマーと、 (b)0.05〜0.6モル分率の、カルボキシル基を有する
アクリルモノマーと、及び、 (c)0.2〜0.6モル分率の、アクリラートモノマーとか
ら成る。
本発明により、この重合は適当な溶剤の中で行われ、
及び、その反応を開始するために反応開始剤が使用され
る。その結果として得られるポリマーの分子量は約3,00
0〜約100,000であり、その酸価は50mg KOH/gを越える。
その結果として得られる直鎖状ポリマーの構造は次のよ
うに表され、 前式中でR1=H、CH3であり、r=1〜18である時にR3
=CrH2r+1であり、並びに、n、m及びpは整数であ
る。
上記(a)ヒドロキシ基を有するアクリルモノマー
は、ヒドロキシエチルメタクリラートと、ヒドロキシエ
チルアクリラートと及び次式のアクリルモノマーとから
成るグループから選択され、 前式中でR1はH又はCH3であり、R2はアクリルと、脂環
式基と、ポリエチレングリコールと、ポリプロピレング
リコールと及びアリール基とである。
上記(b)カルボキシル基を有するアクリルモノマー
は、アクリル酸と、メタクリル酸と及び2−メチレンコ
ハク酸とから成るグループから選択される。
上記(c)アクリルモノマーは、そのアクリル基の炭
素原子数が1〜18つである、アルキルアクリラートモノ
マー又はアクリルメタクリラートモノマーから選択され
る。フェニルアクリラートと、2−フェニルエチルアク
リラートと、3−フェニルプロピルアクリラートと、2
−シクロヘキシルエチルアクリラートと、ベンジルアク
リラートと、ベンジルメタクリラートと、フェニルメタ
クリラートと、2−フェニルエチルメタクリラートと、
3−フェニルプロピルメタクリラートと、2−シクロヘ
キシルエチルメタクリラートと、アクリロニトリルと、
スチレンと、メチルスチレンと、及びそれに類似するも
のとのような他のアクリラートが、使用可能である。
前記分枝不飽和二重結合と前記直鎖状アクリルポリマ
ーとの間のグラフト反応は、次に示される反応の中の1
つである。
を有する化合物と、前記直鎖状コポリマー上の−OHとの
間の置換反応。
を有する化合物と、前記直鎖状コポリマー上の−COOHと
の間の縮合反応。
を有する化合物と、前記直鎖状コポリマー上の−OH又は
−COOHとの間の縮合反応。
上記反応(i),(ii),(iii)で得られるグラフ
トポリマーの構造は以下の通りである。
[反応(i)によって得られるグラフトポリマーの構造
式] [反応(ii)によって得られるグラフトポリマーの構造
式] [反応(iii)によって得られるグラフトポリマーの構
造式] [式中、q,r,s,tはグラフト単位の数を表わす] 上記反応式及び上記構造式中、R1はH又は−CH3であ
り、及び、R2はグラフト反応に関与しない基でなければ
ならず、例えば、この基は、アルキル基と、アルコキシ
基と、脂環式基と及びアリール基とから成るグループか
ら選択されることが可能である。単官能アクリラート又
はメタクリラートのモル数は、−COOH又は−OHの官能基
のモル数よりも小さくなければならない。前記反応の終
了時においては、その結果として得られたグラフト生成
物中に含まれる−OH基のモル数は、原則として、そのポ
リマー主鎖の中の反復ユニットのモル数の3〜15%を占
めなければならず、一方、−COOH基のモル数は、前記主
鎖の中の反復ユニットのモル数の5〜40%を占めなけれ
ばならない。このグラフトポリマーの量は、その組成物
の約20〜80重量%、好ましくは約40〜60重量%である。
上記(ii)反応においては、ヒドロキシ基を有する光
反応性モノマーの中の不飽和炭素二重結合官能基の数
は、2つ以上でなければならない。使用可能な光反応性
モノマーは、ペンタエリトリトール(エリトライト)ト
リアクリラートと、ジペンタエリトリトールヒドロキシ
ペンタアクリラートと、ビス(アクリルオキシエチル)
ヒドロキシエチルイソシアヌラートと、ペンタエリトリ
トールジアクリラートと、ペンタエリトリトールジメタ
クリラートと及びペンタエリトリトールトリメタクリラ
ートとからなるグループから選択され、その使用量はそ
の組成物の約5〜40重量%である。
本発明の組成物では、適当なメラミン化合物は、まず
第一に、そのメトキシ基が部分的に又は完全にヒドロキ
シ基又はアルコキシ基で置換されることが可能であり、
及び、そのアルコキシ基の炭素原子数が2〜4つである
ことが可能なヘキサ(メトキシメチル)−メラミンであ
る。このメラミン化合物の使用量は、前記組成物の約5
〜30重量%である。
本発明の組成物に適した遊離基開始剤は、ジフェニル
ケトンと、ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン
と、4,4′−ジメチルアミンジフェニルケトンと、2−
クロロチオキサントンと、2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−フェニルプロパン−1−オンと、及び、1−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン等とから成るグル
ープから選択される。この遊離基開始剤の使用量は、約
0.5〜12重量%である。ベンゾインと、ベンゾインアル
キルエーテルと、ベンジルケタールと、及び、アセチル
ベンゼンとの誘導体のような他の遊離基開始剤も、本発
明の組成物に使用可能である。
上記の成分に加えて、溶剤、又は可塑剤と、色素と、
増量剤と、チキソトロピー剤と、防火剤と、泡止め剤
と、及び、湿潤剤とのような添加剤が、適した量で加え
られることが可能である。ケトンと、エーテルと、エス
テルと、及び、アルコールとのような非反応性の溶剤
が、この組成物に使用可能である。更に、炭化水素及び
ハロゲン化炭化水素も使用可能である。典型的には、使
用される溶剤は、アセトンと、ブタノンと、シクロヘキ
サノンと、ジエトキシエタンと、ジエチレングリコール
ジエチレンエーテルと、1,4−ジオキサンと、エチレン
ジアセタートと、イソブチルアセタートと、2−エトキ
シエチルアセタートと、2−ブトキシエチルアセタート
と、エトキシエトキシエチルアセタートと、2−ブトキ
シエタノールと、エトキシエトキシエタノールと、ペン
タノールと、シクロヘキサンと、ナフサと、トルエン
と、キシレンと、クロロベンゼンと、及び、ジクロロベ
ンゼン等とから成るグループから選択されることが可能
である。
本発明では、泡止め剤は、3M Corporation,USAから市
販のFC430及びFC431、又は、Monsanto Co.,USAから市販
のModaflowであることが可能である。これに加えて、BY
K Co.,から市販のBYK−020又はBYK−141も、望ましい量
でその組成物に加えられることが可能である。
本発明の組成物の被覆方法は、ネットプリント法、ロ
ーラープリント法、もしくは、スクリーンプリント法で
あってもよく、又は、スクレーパープレートもしくはス
クレーパーナイフを用いて被覆されることも可能であ
る。
本発明は、次の実施例を参照して、より明確に理解さ
れるだろう。以下の実施例で用いられる全ての割合及び
百分率は、特に指摘のない限り、重量によるものであ
る。
実 施 例 実施例 1 加熱用マントルを有する撹拌された30リットル反応器
容器の中に、その容器内温度を70℃に調整しながら、次
の成分を5時間に亙って連続的に加えた。
メタクリル酸 2322g メタクリル酸メチル 2820g エチルヒドロキシルメタクリラート 624g 2,2′−アゾ−ジ(イソブチルアクリロニトリル) 84g 2−ブトキシエタノール 2200g 二酢酸グリコール 3200g ナフサ 800g n−ドデカンチオール 200g 更に3時間に亙って撹拌を続けながら、前記温度を維
持した。その後、温度を90℃に上昇させ、その温度を4
時間亙って維持した。その結果、バインダー溶液が得ら
れた。その後で、次の成分をこのバインダー溶液に加
え、7時間に亙って反応させた。
ヒドロキノン 12g テトラ−n−ブチル−アンモニウムクロリド 40g グルシジルメタクリラート 2988g その後、光重合性コポリマーが得られた。その数平均
分子量は約5600であり、及び、その酸価は約80mg KOH/g
だった。
実施例 2 撹拌された500ml反応器容器の中に、その容器温度を4
5℃に調整しながら、次の成分を加えた。
トルエン2,4−ジイソシアナート 34.83g ジブチルジラウリル酸第二スズ 0.331g 2−(2−エトキシエトキシ)エチルアセタート 10g その後で、27.3gのエチルヒドロキシルメタクリラー
トを、この反応混合物の中に2時間に亙って加えた。そ
の後、この反応混合物を更に2時間に亙って撹拌し、プ
レポリマー(A)を得た。
撹拌された1の反応器容器の中に、次の成分を5時
間に亙って連続的に加えた。
メタクリル酸 29.3g メタクリル酸メチル 25.0g アクリル酸ブチル 37g エチルヒドロキシルメタクリラート 15.6g 2,2′−アゾ−ジ(イソブチルアクリロニトリル)−ブ
チロールアセトン 94.7g メチルエチルケトン 157g n−ドデカンチオール 0.2g その後、この反応を3時間に亙って66℃において続け
た。その後、36.71gのプレポリマー(A)を加え、更に
3時間に亙って反応を継続し、その結果として、光重合
アクリルコポリマーが得られた。
実施例 3 この実施例では、アルカリ液体写真用組成物が使用さ
れた。その組成物は卓越した耐熱性を有する。
実施例1のバインダー溶液 215g ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 12g ペンタエリトリトールトリアクリラート 36g ヘキサメトキシメチルメラミン 15g 泡止め剤 4g 2−ブトキシエタノール 12g No.7緑色色素 4g 上記の成分が混合された後に、その混合物の粒子の全
てが10ミクロン未満となるまで、その混合物が、3ロー
ラー式ローラーミルを用いて摩砕された。その組成物
が、110メッシュのシルクスクリーンを使用して、0.75m
mのFR−4ベースプレート上にスクリーンプリントさ
れ、その後で、次の手順に従って処理された。
(1)前記被覆プレートが非粘着性であるように、前記
プレートから溶剤を除去するために、前記混合物を20〜
40分間に亙って80℃に加熱する。
(2)前記回路(配線)ベースプレートをマスクと接触
させ、600mJ/cm2の露光を行う。尚、使用される照射源
は3KW、5KW又は7KWの出力を有する。
(3)液体圧力1〜2kg w/cm2において、約1%の炭酸
ナトリウム水性溶液を現像に使用し、現像は60〜120秒
以内に完了する。
(4)40〜60分間に亙って140〜150℃で後焼成し、それ
によって、永久保護被覆が得られる。
上記の組成物において、Stoufer21スケール感光性試
験フィルムが使用された。このフィルムが600mJ/cm2
露光を受けた。現像後、10つのグリッドが残った。従っ
て、この組成物は非常に高い感光性を有する。
本発明の組成物で被覆されたFR−4ベースプレート
が、高温度で焼成された後に、 3×10cmの試験標本に切断された。その後で、これらの
標本に次の試験を行った。
(i)耐アルカリ性試験 標本が50℃の5%NaOH水性溶液内に漬けられた。この
標本は、5分間に亙って前記溶液内に漬けられた後に取
り出された。その後で、この標本は外界温度において水
で洗浄され、乾燥された。その後で、3M Co.,USAから市
販のNo.600接着テープが前記標本の上に接着された。剥
離の形跡は全く観察されなかった。
(ii)ジクロロメタン溶剤試験 はんだ付け補助剤(solder−aid)によって湿潤され
た標本が、260℃の溶融スズ−鉛浴の中に10秒間に亙っ
て漬けられた。その標本は前記浴から取り出され、残存
するはんだ付け補助剤を取り除くために水(40℃)で洗
浄された。その標本は、乾燥された後に、ジクロロメタ
ンの中に2分間に亙って漬けられ、その後で取り出さ
れ、再び乾燥された。No.600接着テープ(3M Co.,から
市販)がその標本の上に接着された。剥離の形跡は全く
観察されなかった。
(iii)熱衝撃試験 標本が120℃において10分間に亙って焼成され、その
直後に、液体窒素の中に10秒間に亙って漬けられ、その
後で、取り出された。この手順が2度繰り返された。そ
の試験標本には、剥離の形跡又はその他の変化の形跡は
全く示されなかった。
結論としては、本発明による組成物は卓越した耐熱性
と及び耐アルカリ性とを有する。
実施例 4 実施例2のポリマー溶液 200g ジメトキシ2−フェニルアセトフェノン 8g ジペンタエリトリトールペンタアクリラート 40g ヘキサメトキシメチルメラミン 20g 硫酸バリウム 10g メチルエチルケトン 20g 緑色色素No.7 4g 組成物を調製するために、上記の成分が混合された。
スクレーパーを使って、0.1mm FR−4ベースプレート上
に上記組成物が塗布された。その被覆薄膜は約30μmだ
った。実施例3の手順が用いられた。600mJ/cm2の露光
が行われた。実施例3の耐アルカリ性試験と、耐溶剤性
試験と及び耐熱衝撃性試験とが用いられた。電気絶縁抵
抗値は109オームを越え、及び、鉛筆硬度は4Hを越える
ものだった。
比 較 例 B.F.Goodrich Co.,のCarboset XL27が、この比較実施
例のバインダーとして使用された。そのコポリマーはア
クリラートコポリマーだった。その酸価は約80mg KOH/g
であり、及び、その分子量は40,000だった。
Carboset XL27 100g ジメトキシ2−フェニルアセトフェノン 10g ペンタエリトリトールトリアクリラート 36g ヘキサメトキシメチルメラミン 15g メチエチルケトン 50g 緑色色素No.7 4g 上記の成分が組成物を調製するために混合された。ス
クレーパーを使って、0.1mm FR−4ベースプレート上に
上記組成物が塗布された。その被覆薄膜は約30μmだっ
た。その標本は実施例3の手順に従って処理された。そ
の標本が高温度で焼成された後に、前記試験が行われ
た。耐アルカリ性試験と及び耐溶剤性試験とにおいて著
しい剥離の形跡があることが発見され、及び、耐熱衝撃
性試験において著しい亀裂があることが発見された。
上記のように本発明は説明してきたが、本発明の組成
物が様々な形に変形させられることが可能なことは明ら
かであろう。そうした変形は、本発明の思想と範囲から
の逸脱と見なされるべきでなく、及び、そうした部分的
変更の全ては本発明の特許請求の範囲内に含まれるべき
ものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−182631(JP,A) 特開 昭60−46550(JP,A) 特開 昭60−188413(JP,A) 特開 昭62−293237(JP,A) 特開 昭62−287240(JP,A) 特開 昭59−151152(JP,A) 特開 昭62−160440(JP,A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】画像の形に露光された後に、水性アルカリ
    溶液を用いて現像可能な、光重合性組成物であって、 a)ヒドロキシル含有ユニットと、カルボキシル含有ユ
    ニットとペンダント不飽和二重結合含有ユニットとから
    本質的に成る直鎖状アクリルコポリマーであって、前記
    コポリマーの数平均分子量が3,000〜100,000であり、前
    記コポリマーの酸価が30mg KOH/g以上であり、前記ヒド
    ロキシル含有ユニットが前記コポリマーの3〜15モルパ
    ーセントを成し、前記カルボキシル含有ユニットが前記
    コポリマーの5〜45モルパーセントを成し、及び、前記
    ペンダント不飽和二重結合含有ユニットが前記コポリマ
    ーの5〜40モルパーセントを成すアクリルコポリマー20
    〜80重量%と、 b)2つ以上の二重結合を有するヒドロキシル含有光反
    応性モノマー5〜40重量%と、 c)メラミン化合物5〜30重量%と、並びに、 d)遊離基光開始剤0.5〜12重量%とから成る光重合性
    組成物。
  2. 【請求項2】前記ヒドロキシル含有光反応性モノマー
    が、ペンタエリトライトトリアクリラートと、ジペンタ
    エリライトヒドロキシペンタアクリラートと、ペンタエ
    リトライトジアクリラートと、ペンタエリトライトジメ
    タクリラートと、ペンタエリトライトトリメチルアクリ
    ラートと、ビス(アクリルオキシエチル)ヒドロキシエ
    チルイソシアヌラートと、及び、これらの何れの混合物
    とからなるグループから選択される請求項1に記載の光
    重合性組成物。
  3. 【請求項3】前記メラミン化合物が、そのメトキシ基が
    部分的に又は完全にヒドロキシ基又はC2-4アルコキシ基
    で置換されることが可能な、ヘキサメトキシメチルメラ
    ミンである請求項1に記載の光重合性組成物。
  4. 【請求項4】前記光開始剤が、ベンゾインと、ベンゾイ
    ンアルキルエーテルと、ベンジルケタールと、及び、ア
    セトフェノンとの誘導体から成るグループから選択され
    る請求項1に記載の光重合性組成物。
  5. 【請求項5】前記直鎖状アクリルコポリマーが、 (a)0.05〜0.3モル分率の、ヒドロキシ基を有するア
    クリルモノマーと、 (b)0.05〜0.6モル分率の、カルボキシル基を有する
    アクリルモノマーと、及び、 (c)0.2〜0.6モル分率の、アクリラートモノマーとを
    含み、 更に、前記コポリマーが、溶剤の中で、前記光開始剤を
    用いて重合反応を開始させられ、その結果、次の構造を
    持つ直鎖状ポリマー [式中でR1=H、CH3であり、r=1〜18である時にR3
    =CrH2r+1であり、並びに、n、m及びpが整数であ
    る]を形成し、次いで得られた直鎖状アクリルコポリマ
    ーを、次に示される反応: を有する化合物と、前記直鎖状コポリマー上の−OHとの
    間の置換反応; を有する化合物と、前記直鎖状コポリマー上の−COOHと
    の間の縮合反応;及び、 を有する化合物と、前記直鎖状コポリマー上の−OH又は
    −COOHとの間の縮合反応とから成る反応, (前式中で、R1がH又は−CH3であり、並びに、R2がグ
    ラフト反応に関与しない基であり、及び、アルキル基
    と、アルコキシ基と、脂環式基と及びアリール基とから
    成るグループから選択される) から選択されるグラフト反応にかけて得られる以下のい
    ずれかの構造を有する [反応(i)によって得られるポリマーの構造式] [反応(ii)によって得られるポリマーの構造式] [反応(iii)によって得られるポリマーの構造式] (ここで式中、q,r,s,tはグラフト単位の数を表わす) 請求項1に記載の光重合性組成物。
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JPS58182631A (ja) * 1982-04-20 1983-10-25 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成用組成物
US4621043A (en) * 1983-01-31 1986-11-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Storage stable photopolymerizable composition
DE3322994A1 (de) * 1983-06-25 1985-01-10 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Lichtempfindliches, wasserentwickelbares aufzeichnungsmaterial fuer die herstellung von druck-, reliefformen oder resistmustern
JPS60188413A (ja) * 1984-03-09 1985-09-25 Toyobo Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JPS62160440A (ja) * 1986-01-08 1987-07-16 Mitsubishi Rayon Co Ltd 液状感光性樹脂組成物
DE3619129A1 (de) * 1986-06-06 1987-12-10 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungselement
JPS62287240A (ja) * 1986-06-06 1987-12-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd エツチングレジスト組成物

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